Двухлучевая система производства JEOL (Япония) серии JSM-4601F с электронной колоной с катодом Шоттки
JIB-4601F – это двулучевая система, представляющая собой растровый электронный микроскоп высокого разрешения с термополевым катодом, оснащенный мощной ионной пушкой. Прибор может одновременно быть использован и в режиме РЭМ, и в режиме ионного микроскопа или системы ионного травления.
Стабильная, высоконадежная электронно-оптическая колонна обеспечивает высокое разрешение (1,2 нм при 30 кВ в режиме регистрации вторичных электронов) и позволяет анализировать морфологию наноразмерных объектов. Термополевой катод обеспечивает высокие и стабильные токи пучка, что позволяет проведение экспериментов, требующих высоких токов пучка (элементного анализа с использованием спектрометра с волновой дисперсией, получения картин дифракции отраженных электронов, катодолюминесцентных исследований и т.п.). Режим торможения пучка над поверхностью образца делает JIB-4601F прекрасным инструментом для работы с диэлектриками или чувствительными к воздействию электронного луча образцами.
Ионная колонна JIB-4601F сконструирована компанией JEOL специально для систем такого класса. Она отличается высокой надежностью, обеспечивает высокое разрешение изображений при работе в режиме наблюдения и высокие токи пучка при работе в режиме травления.
Помимо всех типов исследований, традиционно проводимых с помощью РЭМ, JIB-4601F позволяет проводить чистку и модификацию поверхности, а также утонение образцов, предназначенных для дальнейших исследований методами растровой и просвечивающей электронной микроскопии, проверять качество их приготовления. После проверки и/или обработки образцов в JIB-4601F, их можно переносить в ПЭМ или РЭМ напрямую, не демонтируя с держателей, а значит, не подвергая риску повреждений.
JIB-4601F комплектуется шлюзовой камерой, которая существенно снижает время замены образца, уменьшает загрязнение камеры образцов, нивелирует риск повреждения аналитических приставок из-за резких перепадов давления, существенно продлевает срок службы эмиттеров и диафрагм обеих колонн.
Двухлучевую систему JIB-4601F можно дооснастить множеством разнообразных приставок. Они позволяют проводить напыление углеродом, вольфрамом и платиной, проводить ионное травление по заданному шаблону (ионную литографию), работать с держателями электронных микроскопов и микроанализаторов, даже старых моделей. Подключение таких опций, как энергодисперсионный спектрометр и детектор дифракции отраженных электронов, позволяет проводить послойный анализ элементного и фазового состава образцов.
Использование наноманипуляторов Omniprobe дает возможность проводить следующие операции в вакуумированной камере образцов прибора:
• Перемещать образцы с точностью до нескольких нанометров;
• Выкладывать из наночастиц и нановолокон узоры заданной формы;
• Измерять электрические параметры различных нанообъектов;
• Рассматривать с различных ракурсов тонкие кристаллы, приготовленные для дальнейших исследований в ПЭМ;
• Снимать заряд с непроводящих образцов;
• Производить микроразрезы в биологических образцах;
• Отделять малые образцы от массива для проведения более точного микроанализа их элементного и фазового состава.
Основные преимущества:
• Стабильная, высоконадежная электронно-оптическая колонна обеспечивает высокое разрешение (1,2 нм при 30 кВ в режиме регистрации вторичных электронов);
• Термополевой катод, известный также как катод Шоттки, обеспечивает высокие (свыше 200 нА) и стабильные токи пучка, что позволяет использовать JIB-4601F и в качестве аналитического РЭМ;
• Специальная конструкция первой конденсорной линзы позволяет намного более эффективно собирать эмитированные катодом электроны и обеспечивает длительный срок службы электронной пушки;
• Стабильная, надежная, высокопроизводительная ионная колонна специальной конструкции, позволяющая в режиме травления быстро стравливать большие объемы материала, а в режиме наблюдения обеспечивающая высокое разрешение получаемых изображений (5 нм с использованием детектора вторичных электронов);
• Наличие шлюзовой камеры, которая существенно снижает время замены образца, уменьшает загрязнение камеры образцов, электронной и ионной колонн, нивелирует риск повреждения аналитических приставок из-за резких перепадов давления, существенно продлевает срок службы катодов и диафрагм;
• Возможность напыления образцов углеродом, вольфрамом и платиной;
• Возможность работы с образцами, уже установленными на держатели растровых и просвечивающих электронных микроскопов без риска их повреждения при монтаже-демонтаже;
• Наличие программного обеспечения для проведения ионной литографии.
Ионная пушка | |
Источник ионов | Галиевый |
Ускоряющее напряжение | 1 - 30 кВ |
Увеличение | x30 (в режиме навигации по образцу) x100 – x300 000 |
Разрешение изображений во вторичных электронах |
5 нм (при ускоряющем напряжении 30 кВ) |
Ток пучка |
от 0,5 пА до 60 нА (при ускоряющем напряжении 30 кВ) |
Электронно-оптическая колонна (РЭМ) |
|
Катод | Термополевой катод Шоттки (ZrO/W) |
Разрешение изображений во вторичных электронах | 1,2 нм (при ускоряющем напряжении 30 кВ и рабочем отрезке 4 мм) 3,0 нм (при ускоряющем напряжении 1 кВ и рабочем отрезке 2 мм) |
Ускоряющее напряжение | 0,2-30 кВ |
Ток пучка | от 1 пА до 200 нА (при ускоряющем напряжении 15 кВ) |
Диапазон увеличений | от х20 до х1 000 000 |
Режим торможения пучка над поверхностью образца (Gentle Beam) | Доступен. Напряжение смещения: 0-300 В |
Столик | Эвцентрический гониометрический столик, моторизованный по 6-ти осям |
Диапазон перемещения столика | Ось X: 50 мм Ось Y: 50 мм Ось Z: от 1,5 до 41 мм Прецизионное позиционирование по оси Z: ±3 мм Наклон: от -5° до +70° Вращение: 360°, непрерывное |
Максимальный размер образца | Диаметр – 50 мм, высота – 20 мм |
Система откачки | Сорбционно-ионный насос – 3 шт. Турбомолекулярный насос – 1 шт. Форвакуумный насос – 1 шт. |
Операционная система | для MS Windows |
Опции | Энергодисперсионный спектрометр (ЭДС) Спектрометр с дисперсией по длинам волн (ВДС), вертикальный Система дифракции отраженных электронов (ДОРЭ) Детектор катодолюминесценции Микроманипуляторы Omniprobe Системы напыления образцов углеродом, вольфрамом и платиной |
Новейший РЭМ с термополевым катодом JSM-7800F Prime позволяет получать изображение с самым высоким разрешением в мире для данного класса РЭМ, благодаря обновленному, по сравнению с предыдущей моделью JSM-7800F, режиму Gentle Beam (GBSH). Кроме того, максимальный ток пучка в пушке с катодом Шоттки конструкции «In-lens» увеличен с 200 нА до 500 нА.
Увеличение от 25 до 1 000 000 крат
Разрешение до 0,7 нм (15 кВ)
Ускоряющее напряжение от 10 В до 30 кВ
Ток пучка от 1 пА до 500 нА
Опция - интегрированный ЭДС и др.
Новейший РЭМ с термополевым катодом JSM-7800F Prime позволяет получать изображение с самым высоким разрешением в мире для данного класса РЭМ, благодаря обновленному, по сравнению с предыдущей моделью JSM-7800F, режиму Gentle Beam (GBSH). Кроме того, максимальный ток пучка в пушке с катодом Шоттки конструкции «In-lens» увеличен с 200 нА до 500 нА.
Увеличение от 25 до 1 000 000 крат
Разрешение до 0,7 нм (15 кВ)
Ускоряющее напряжение от 10 В до 30 кВ
Ток пучка от 1 пА до 500 нА
Опция - интегрированный ЭДС и др.
JSM-7500F – это растровый электронный микроскоп с «холодным» (автоэмиссионным) катодом, который сочетает в себе простоту управления, большой срок службы катода, аналитические возможности, а также экономичность в энергопотреблении. Холодный катод и объективная линза открытого типа (semi-in-lens) позволяют получать изображения с высоким разрешением и контрастом при малых токах пучка и низких ускоряющих напряжениях. Это особенно важно при работе с деликатными, чувствительными к пучку, образцами – полимерами, биологическими образцами, полупроводниками и т.п.
Увеличение от 25 до 1 000 000 крат
Автоэмиссионный "холодный" катод
Разрешение до 1,0 нм (15 кВ)
Ускоряющее напряжение от 100 В до 30 кВ
Ток пучка от 1 пА до 2 нА
Опция - интегрированный ЭДС и др.
JSM-7500F – это растровый электронный микроскоп с «холодным» (автоэмиссионным) катодом, который сочетает в себе простоту управления, большой срок службы катода, аналитические возможности, а также экономичность в энергопотреблении. Холодный катод и объективная линза открытого типа (semi-in-lens) позволяют получать изображения с высоким разрешением и контрастом при малых токах пучка и низких ускоряющих напряжениях. Это особенно важно при работе с деликатными, чувствительными к пучку, образцами – полимерами, биологическими образцами, полупроводниками и т.п.
Увеличение от 25 до 1 000 000 крат
Автоэмиссионный "холодный" катод
Разрешение до 1,0 нм (15 кВ)
Ускоряющее напряжение от 100 В до 30 кВ
Ток пучка от 1 пА до 2 нА
Опция - интегрированный ЭДС и др.
JSM-7610F – это растровый электронный микроскоп с катодом Шоттки, сочетающий в себе мощную электронную пушку и объективную линзу открытого типа (semi-in-lens). Благодаря такой комбинации этот РЭМ одинаково хорош как для работы с диэлектриками или чувствительными к воздействию электронного луча образцами при малых ускоряющих напряжениях, так и для проведения экспериментов, требующих высоких токов пучка (элементного анализа с использованием спектрометра с волновой дисперсией, получения картин дифракции отраженных электронов, катодолюминесцентных исследований и т.п.)
Увеличение от 25 до 1 000 000 крат
Автоэмиссионный "холодный" катод
Разрешение до 1,0 нм (15 кВ)
Ускоряющее напряжение от 100 В до 30 кВ
Ток пучка от 1 пА до 200 нА
Опция - интегрированный ЭДС и др.
JSM-7610F – это растровый электронный микроскоп с катодом Шоттки, сочетающий в себе мощную электронную пушку и объективную линзу открытого типа (semi-in-lens). Благодаря такой комбинации этот РЭМ одинаково хорош как для работы с диэлектриками или чувствительными к воздействию электронного луча образцами при малых ускоряющих напряжениях, так и для проведения экспериментов, требующих высоких токов пучка (элементного анализа с использованием спектрометра с волновой дисперсией, получения картин дифракции отраженных электронов, катодолюминесцентных исследований и т.п.)
Увеличение от 25 до 1 000 000 крат
Автоэмиссионный "холодный" катод
Разрешение до 1,0 нм (15 кВ)
Ускоряющее напряжение от 100 В до 30 кВ
Ток пучка от 1 пА до 200 нА
Опция - интегрированный ЭДС и др.