Сканирующий (растровый) электронный микроскоп с полевой эмиссией производства JEOL (Япония) серии JSM-7610F
JSM-7610F – это растровый электронный микроскоп с катодом Шоттки, сочетающий в себе мощную электронную пушку и объективную линзу открытого типа (semi-in-lens). Благодаря такой комбинации этот РЭМ одинаково хорош как для работы с диэлектриками или чувствительными к воздействию электронного луча образцами при малых ускоряющих напряжениях, так и для проведения экспериментов, требующих высоких токов пучка (элементного анализа с использованием спектрометра с волновой дисперсией, получения картин дифракции отраженных электронов, катодолюминесцентных исследований и т.п.).
JSM-7610F комплектуется шлюзовой камерой, что существенно снижает время замены образца, уменьшает загрязнение камеры образцов, нивелирует риск повреждения аналитических приставок из-за резких перепадов давления, продлевает срок службы катода и диафрагм в несколько раз, и в то же время не исключает возможность работы с большими образцами (до 200 мм в диаметре).
JSM-7610F является прекрасным инструментом для решения задач в области исследований наноматериалов, классического материаловедения, анализа качества металлургической продукции, медицины, биологии и др.
Основные преимущества:
• Стабильная, высоконадежная электронно-оптическая колонна JSM-7610F, использующая объективную линзу открытого типа, обеспечивает высокое разрешение (0,8 нм при 30 кВ в ПРЭМ-режиме и 1,0 нм при 15 кВ в режиме регистрации вторичных электронов);
• Термополевой катод, известный также как катод Шоттки, обеспечивает высокие (свыше 200 нА) и стабильные токи пучка, что позволяет использовать JSM-7610F и в качестве аналитического РЭМ;
• Специальная конструкция первой конденсорной линзы микроскопа позволяет намного более эффективно собирать эмитированные катодом электроны и обеспечивает длительный срок службы электронной пушки (более 3 лет);
• Доступность большого количества детекторов различных типов, в том числе LABE, RBEI, SEI, LEI. Низкоугловой детектор отраженных электронов (LABE) прекрасно работает при малых энергиях электронного пучка (вплоть до 100 эВ), позволяя получать информацию и об однородности состава, и о топологии поверхности образца, а также решает проблему с накоплением заряда на поверхности диэлектрических образцов;
• Встроенный в электронно-оптическую колонну r-фильтр позволяет либо разделять сигналы от вторичных и обратнорассеянных электронов, либо смешивать их между собой в заданных пропорциях;
• Линза, оптимизирующая угол вхождения пучка в диафрагму, существенно увеличивает долю электронов, достигающих поверхности образца, позволяя тем самым экономнее расходовать ресурс эмиттера;
• Режим торможения пучка (Gentle Beam), который замедляет электроны перед падением на поверхность образца, сильно снижает повреждения, наносимые пучком, а также позволяет избежать зарядки образцов с плохой электропроводностью;
• Доступность различных типов шлюзов позволяют выбрать оптимальный, включая шлюз с автосменщиком образцов;
• Устанавливаемая в камере образцов криогенная ловушка уменьшает загрязнение колонны при работе с испаряющимися под электронным пучком образцами и, тем самым, продлевает ресурс электронно-оптической колонны;
• Большая камера образцов позволяет работать с объектами диаметром до 200 мм, а также одновременно устанавливать множество разнообразных аналитических приставок (энергодисперсионный спектрометр, спектрометр с дисперсией по длинам волн, детектор дифракции отраженных электронов, детектор катодолюминесценции, рамановский спектрометр и т.п.)
Разрешение | 1,0 нм (15 кВ), 1,3 нм (1 кВ), 0,8 нм (30 кВ, ПРЭМ-режим) 3,0 нм (15 кВ, ток зонда: 5 нА, рабочий отрезок: 10 мм) |
||
Ускоряющее напряжение | 100 В - 30 кВ | ||
Диапазон увеличений | х25 - x1 000 000 (в пересчете на площадь фотопластины 120 мм х 90 мм) | ||
Ток пучка | 1 пА - 200 нА |
||
Линза, оптимизирующая угол вхождения пучка в диафрагму | Встроена по умолчанию | ||
Энергетический фильтр | Встроен. Управляется напряжением |
||
Катод | Термоэмиссионный катод (катод Шоттки) | ||
Режим торможения пучка «Gentle Beam» | Доступен в базовой комплектации | ||
Вакуум | 10-300 Па | ||
Предметный столик |
Полностью эвцентрический гониометрический столик |
||
Максимальный диаметр образца |
200 мм (с использованием столика образцов типа III и 8-дюймового шлюза) |
||
Диапазон рабочих отрезков |
от 1 до 40 мм |
||
Вакуумный шлюз |
Входит в базовую комплектацию |
||
Вакуумная система |
Полностью автоматизирована |
||
Операционная система | для MS Windows |
JSM-7800F растровый электронный микроскоп высокого разрешения с катодом Шоттки и супергибридной объективной линзой. В этом микроскопе реализованы последние достижения в технологии электронной оптики, что позволяет получать на данном микроскопе изображения с очень высоким разрешением. Микроскоп JSM 7800F является уникальным исследовательским инструментом для исследования в различных областях науки.
JSM-7800F растровый электронный микроскоп высокого разрешения с катодом Шоттки и супергибридной объективной линзой. В этом микроскопе реализованы последние достижения в технологии электронной оптики, что позволяет получать на данном микроскопе изображения с очень высоким разрешением. Микроскоп JSM 7800F является уникальным исследовательским инструментом для исследования в различных областях науки.
JSM-7100F – сканирующий электронный микроскоп с катодом Шоттки. Этот микроскоп является оптимальным решением для работы с наноразмерными образцами, он совмещает в себе высокую разрешающую способность необходимую для получения высокого разрешения при больших увеличениях при визуальном исследования образцов и высокие токовые характеристики электронного пучка (ток пучка до 200 нА).
JSM-7100F – сканирующий электронный микроскоп с катодом Шоттки. Этот микроскоп является оптимальным решением для работы с наноразмерными образцами, он совмещает в себе высокую разрешающую способность необходимую для получения высокого разрешения при больших увеличениях при визуальном исследования образцов и высокие токовые характеристики электронного пучка (ток пучка до 200 нА).
JIB-4601F – двулучевая система, представляющая собой растровый электронный микроскоп высокого разрешения с термополевым катодом, оснащенный мощной ионной пушкой. Прибор может одновременно быть использован и в режиме РЭМ, и в режиме ионного микроскопа или системы ионного травления.
Ионная пушка + расторовый электронный микроскоп с полевой эмиссией
Ионная пушка с ускоряющими напряжением от 1 до 30 кВ
Электронно-оптическая колонна ускоряющим напряженм от 0,2 до 30 кВ
Увеличение на РЭМ от 20 до 1 000 000 крат
Ускоряющее напряжение до 30 кВ
Разрешение до 1,2 нм в режиме высокого вакуума
Диаметр образца до 50 мм, высота до 20 мм
JIB-4601F – двулучевая система, представляющая собой растровый электронный микроскоп высокого разрешения с термополевым катодом, оснащенный мощной ионной пушкой. Прибор может одновременно быть использован и в режиме РЭМ, и в режиме ионного микроскопа или системы ионного травления.
Ионная пушка + расторовый электронный микроскоп с полевой эмиссией
Ионная пушка с ускоряющими напряжением от 1 до 30 кВ
Электронно-оптическая колонна ускоряющим напряженм от 0,2 до 30 кВ
Увеличение на РЭМ от 20 до 1 000 000 крат
Ускоряющее напряжение до 30 кВ
Разрешение до 1,2 нм в режиме высокого вакуума
Диаметр образца до 50 мм, высота до 20 мм