+7 (495) 909-89-53

Полностью автоматические установки совмещения и экспонирования MDA-40FA / MDA-80FA / MDA-12FA

Установки MDA-40FA / MDA-80FA / MDA-12FA производства MIDAS SYSTEM (Корея) - новые модели представляющуе новое поколение полностью автоматических систем литографии. 

Новая платформа автоматической модели предлагает более высокие точности и более легкое управление. Идеальное решение для производства LED и других технологиях (MEMS, оптоэлектроника, FPD панели, ВЧ устройства, flip chip устройства) требующих высокой точности совмещения. 

Установки имеют более высокую точность совмещения и более высокую гибкость. 
По запросу опция обратного совмещения с CCD камерой.   
Обработка пластин до 50, 100 мм / 150, 200мм. / 200, 300 мм.
Полностью автоматическое совмещение, автоматическое экспонирование

Особенности

  • Автоматическое совмещение

  • Автоматическая фокусировка

  • Автоматическая загрузка/выгрузка пластин (из кассеты в кассету)

  • Удаленное управление

  • Подключение к роботу

  • Короткое время обработки одного цикла

  • Производительность 100 пластин в час.

  • Высокое качество и сравнительно низкая цена

  • Монитор с точскрином

  • Прецизионная точность совмещения 1 мкм

  • Многофункциональный держатель пластин и подложек до 4’’ / 12". Специальные держатели подложек (кусочков по запросу)

  • Прецизионный столик для совмещения и микроскоп

  • Возможность задания различной интенсивности УФ излучения для экспонирования

  • Операции с помощью компьютера.

  • Система для компенсации «клина засветки» на воздушных подшипниках

  • Антивибрационная система

  • Эргономичный дизайн для удобного использования

Характеристики

Установка MDA-40FA MDA-80FA
Мощность лампы

УФ источник света с мощностью 350 или 500 Вт с контролем интенсивности и мощности излучения.

УФ источник света с мощностью 2 кВт с контролем интенсивности и мощности излучения.
Размер подложки

кусочки, пластины до 6 дюймов

кусочки, пластины до 8 дюймов

Точность предварительного совмещения

+/-50 мкм

+/-50 мкм

Точность совмещения 1 микрон 1 микрон
Разрешение 1 микрон, при использовании тонкого фоторезиста на Si пластине с вакуумным контактом 1 микрон, при использовании тонкого фоторезиста на Si пластине с вакуумным контактом
Размер маски до 7 х 7 дюймов до 9 х 9 дюймов
УФ лампа 350 или 500 Вт. или UV LED модуль 365 нм.
2 кВт
Диапазон длин волн засветки 350-450 нм, или другие по запросу. 350-450 нм, или другие по запросу.
Размер однородного пучка 6,25" х 6,25" 10,25" х 10,25"
Оптическое зрение (микроскоп) Микроскоп двойного поляCCD камера Микроскоп двойного поляCCD камера
Однородность пучка < +/-3% < +/-5%
Интенсивность излучения при длине волны 365 нм Максимальная 25 мВт/см2 Максимальная 25 мВт/см(2 кВт)
Режим управления с ПК (PLC контроль)  с ПК (PLC контроль) 
Регулируемое время экспонирования 0,1 to 999,сек с шагом 100 мс. 0,1 to 999,сек с шагом 100 мс.
Совмещение подложек Модуль совмещения с возможностью перемещения по осям х,у,z (по z ± 10 мм или другой по запросу) и по углу θ (± 4°). Z и θ моторизованы.
Вес подложек до 2 кг.
Модуль совмещения с возможностью перемещения по осям х,у,z (по z ± 10 мм или другой по запросу) и по углу θ (± 4°). Z и θ моторизованы.
Вес подложек до 2 кг.
Выравнивание Компенсация ошибки клина
Автоматическое определение края - датчик давления
Компенсация ошибки клина
Автоматическое определение края - датчик давления
Методы экспонирования Мягкий контактжесткий контакт, вакуумный контакт (контактное усилие регулируется), экспонирование с микрозазором (регулируемое 1 мкм) регулируемое с помощью ПК и специального ПО. Мягкий контактжесткий контакт, вакуумный контакт (контактное усилие регулируется), экспонирование с микрозазором (регулируемое 1 мкм) регулируемое с помощью ПК и специального ПО.
Опции

CCD BSA - обратное совмещение с помошью CCD камеры,
Датчик интенсивности УФ излучения и дальнего УФ  излучения 

CCD BSA - обратное совмещение с помошью CCD камеры
Датчик интенсивности УФ излучения и дальнего УФ  излучения 


Запросить предложение можно по ссылке или направив нам письмо по адресу info@minateh.ru

Новости

Все новости

Система плазменной очистки ATTO с нашего склада в Москве

Подробнее

Международная выставка испытательного и контрольно-измерительного оборудования Testing & Control

Подробнее

МИНАТЕХ начинает сотрудничество с немецким специалистом по метрологии SURAGUS

Подробнее

Новая установка безмасковой лазерной литографии DWL 66+

Подробнее

МИНАТЕХ начинает сотрудничество с немецкой компанией Accurion GmbH

Подробнее

Процесс совмещения на установках MLA от HIMT

Подробнее

Новый компактный 3D профилометр-конфокальный микроскоп S lynx от SENSOFAR

Подробнее

SENTECH анонсировал новую серию спектроскопических эллипсометров SENresearch 4.0.

Подробнее