+7 (495) 909-89-53

Полуавтоматическая установка совмещения и экспонирования MDA-60MS-2

Новая полуавтоматическая установка MDA-60MS-2 производства MIDAS SYSTEM (Корея) прекрасный инструмент для использования в таких применениях как MEMS, оптоэлектроника, FPD панели, ВЧ устройства, flip chip устройства, LED и других технологиях требующих высокой точности совмещения. Установки имеют более высокую точность совмещения и более высокую гибкость. 
По запросу опция обратного совмещения с CCD камерой.  
Обработка пластин до 200 мм.
Перемещение столика полуавтоматическое при совмещении и фокусировке, автоматическое экспонирование.

Особенности

  • прецизионная точность совмещения 1 мкм
  • Многофункциональный держатель для кусочков и пластин до 8’’ (200мм).
  • Специальные держатели подложек (кусочков по запросу)
  • Прецизионный столик для совмещения и микроскоп
  • Возможность задания различной интенсивности УФ излучения для экспонирования
  • Мошность УФ излучения 1 кВт
  • Эргономичный дизайн для удобного использования
  • Управления с ПК с PLC
  • Более 100 рецептов
  • Система для компенсации «клина засветки» на воздушных подшипниках
  • Низкая стоимость/высокое качество
  • Опция BSA (обратного совмещения с CCD камерами)
  • Опция BA (bond alignment) -совмещение перед сваркой
  • Опция NIL (наноимпринт) 

Скачать брошюру в PDF

Характеристики

Мощность лампы УФ источник света с мощностью 1 кВт
Размер подложки кусочки, пластины до 8 дюймов, размер подложек 8х8 дюйма
Точность 1 микрон
Разрешение 1 микрон, при использовании тонкого фоторезиста на Si пластине с вакуумным контактом  (возможно 0,8 мкм с вакуумным контактом)
Размер маски до 9 х 9 дюймов
УФ лампа 1 кВт., Опционально: 365 нм (UV-LED модуль экспонирования)
Диапазон длин волн засветки 350-450 нм, или другие по запросу.
Размер однородного пучка 9,25" х 9,25"
Оптическое зрение (микроскоп) Микроскоп двойного поля (90x - 500x увеличение, или 180-1000х по запросу)CCD камера
Однородность пучка < +/-5%
Интенсивность излучения при длине волны 365 нм Максимальная 25-30 мВт/см2
Режим управления с ПК (PLC контроль)
Регулируемое время экспонирования 0,1 to 999,сек с шагом 100 мс.
Совмещение подложек Модуль совмещения с возможностью перемещения по осям х,у,z (по z ± 10 мм или другой по запросу) и по углу θ (± 4°). Z и θ моторизованы.
Вес подложек до 2 кг.
Выравнивание Компенсация ошибки клина
Автоматическое определение края - датчик давлениея
Методы экспонирования Мягкий контактжесткий контакт, вакуумный контакт (контактное усилие регулируется), экспонирование с микрозазором (регулируемое 1 мкм) регулируемое с помощью ПК и специального ПО.
Стол Антивибрационный стол
Опции

CCD BSA - обратное совмещение с помошью CCD камеры, Датчик интенсивности УФ излучения и дальнего УФ  излучения (DUV) , Опция BA (bond alignment) -совмещение перед сваркой, наноимпринт.


Запросить предложение можно по ссылке или направив нам письмо по адресу info@minateh.ru

Новости

Все новости

Система плазменной очистки ATTO с нашего склада в Москве

Подробнее

Международная выставка испытательного и контрольно-измерительного оборудования Testing & Control

Подробнее

МИНАТЕХ начинает сотрудничество с немецким специалистом по метрологии SURAGUS

Подробнее

Новая установка безмасковой лазерной литографии DWL 66+

Подробнее

МИНАТЕХ начинает сотрудничество с немецкой компанией Accurion GmbH

Подробнее

Процесс совмещения на установках MLA от HIMT

Подробнее

Новый компактный 3D профилометр-конфокальный микроскоп S lynx от SENSOFAR

Подробнее

SENTECH анонсировал новую серию спектроскопических эллипсометров SENresearch 4.0.

Подробнее