+7 (495) 909-89-53

Полуавтоматические установки совмещения и экспонирования MDA-80SA / MDA-12SA

Полуавтоматические установки совмещения и экспонирования MDA-80SA / MDA-12SA производства MIDAS SYSTEM (Корея) для серийного производства - прекрасный инструмент для использования в таких применениях как MEMS, оптоэлектроника, FPD панели, ВЧ устройства, flip chip устройства, LED и других технологиях требующих высокой точности совмещения. Установки имеют более высокую точность совмещения и более высокую гибкость. 
По запросу опция обратного совмещения с CCD камерой.  
Обработка пластин до 200 мм / 300 мм.
Моторизованный столик при совмещении и фокусировке, автоматическое экспонирование.

Особенности

  • прецизионная точность совмещения 1 мкм
  • Многофункциональный держатель пластин и подложек до 8’’ / 12". 
  • Моторизованный столик и автоматическое экспонирование
  • Специальные держатели подложек (кусочков по запросу)
  • Прецизионный столик для совмещения и микроскоп
  • Возможность задания различной интенсивности УФ излучения для экспонирования
  • Мошность УФ излучения 1 и 2 кВт
  • Эргономичный дизайн для удобного использования
  • Управления с ПК с PLC
  • Более 100 рецептов
  • Система для компенсации «клина засветки» на воздушных подшипниках
  • Антивибрационная система
  • Низкая стоимость/высокое качество
  • Опция BSA (обратного совмещения с CCD камерами)

Характеристики

Установка MDA-80SA MDA-12SA
Мощность лампы

УФ источник света с мощностью 2 кВт с контролем интенсивности и мощности излучения.

УФ источник света с мощностью 2 кВт с контролем интенсивности и мощности излучения.
Размер подложки

кусочки, пластины до 8 дюймов, размер подложек до 8х8 дюйма

кусочки, пластины до 12 дюймов, размер подложек до 12х12 дюйма

Точность 1 микрон 1 микрон
Разрешение 1 микрон, при использовании тонкого фоторезиста на Si пластине с вакуумным контактом  (возможно 0,8 мкм с вакуумным контактом) 1 микрон, при использовании тонкого фоторезиста на Si пластине с вакуумным контактом  (возможно 0,8 мкм с вакуумным контактом)
Размер маски до 9 х 9 дюймов до 13 х 13 дюймов
УФ лампа 2 кВт.
2 кВт или 5 кВт
Диапазон длин волн засветки 350-450 нм, или другие по запросу. 350-450 нм, или другие по запросу.
Размер однородного пучка 9,25" х 9,25" 13,25" х 13,25"
Оптическое зрение (микроскоп) Микроскоп двойного поля (90x - 500x увеличение, или 180-1000х по запросу)CCD камера Микроскоп двойного поля (90x - 500x увеличение, или 180-1000х по запросу)CCD камера
Однородность пучка < +/-5% < +/-5%
Интенсивность излучения при длине волны 365 нм Максимальная 15-25 мВт/см2 Максимальная 15-20 мВт/см(2 кВт)
Максимальная 25-60 мВт/см(5 кВт)
Режим управления с ПК (PLC контроль)  с ПК (PLC контроль) 
Регулируемое время экспонирования 0,1 to 999,сек с шагом 100 мс. 0,1 to 999,сек с шагом 100 мс.
Совмещение подложек Модуль совмещения с возможностью перемещения по осям х,у,z (по z ± 10 мм или другой по запросу) и по углу θ (± 4°). Z и θ моторизованы.
Вес подложек до 2 кг.
Модуль совмещения с возможностью перемещения по осям х,у,z (по z ± 10 мм или другой по запросу) и по углу θ (± 4°). Z и θ моторизованы.
Вес подложек до 2 кг.
Выравнивание Компенсация ошибки клина
Автоматическое определение края - датчик давления
Компенсация ошибки клина
Автоматическое определение края - датчик давления
Методы экспонирования Мягкий контактжесткий контакт, вакуумный контакт (контактное усилие регулируется), экспонирование с микрозазором (регулируемое 1 мкм) регулируемое с помощью ПК и специального ПО. Мягкий контактжесткий контакт, вакуумный контакт (контактное усилие регулируется), экспонирование с микрозазором (регулируемое 1 мкм) регулируемое с помощью ПК и специального ПО.
Опции

CCD BSA - обратное совмещение с помошью CCD камеры,
Датчик интенсивности УФ излучения и дальнего УФ  излучения 

CCD BSA - обратное совмещение с помошью CCD камеры
Датчик интенсивности УФ излучения и дальнего УФ  излучения 


Запросить предложение можно по ссылке или направив нам письмо по адресу info@minateh.ru

Новости

Все новости

Международная выставка испытательного и контрольно-измерительного оборудования Testing & Control

Подробнее

МИНАТЕХ начинает сотрудничество с немецким специалистом по метрологии SURAGUS

Подробнее

Новая установка безмасковой лазерной литографии DWL 66+

Подробнее

МИНАТЕХ начинает сотрудничество с немецкой компанией Accurion GmbH

Подробнее

Процесс совмещения на установках MLA от HIMT

Подробнее

Новый компактный 3D профилометр-конфокальный микроскоп S lynx от SENSOFAR

Подробнее

SENTECH анонсировал новую серию спектроскопических эллипсометров SENresearch 4.0.

Подробнее