+7 (495) 909-89-53

Установка совмещения и экспонирования MDA-400M-6 с ручным управлением и PC/PLC контролем

midasmda400m_drawing

Установка MDA-400M-6 производства MIDAS SYSTEM (Корея) с ручным управлением и PLC/PC контролем широко применяется для технологий изготовления MEMS, LED, полупроводников и др. MDA-400M-6 - это идеальный и экономичный вариант для использования в лаборатории для проведения НИОКР, университетах, научных центрах и для малых объемов производства

Точность совмещения 1 мкм. 
Обработка пластин до 150 мм (6 дюймов).
Максимальный размер фотошаблона 178х178 мм (7х7 дюймов)
PC контроль
Ручное совмещение и автоматическое экспонирование.

Особенности

  • Прецизионная точность совмещения 1 мкм
  • Многофункциональный держатель для кусочков и пластин до 6’’ (150мм)
  • Максимальный размер фотошаблона 127х127 мм (5х5 дюймов)
  • Специальные держатели подложек (кусочков по запросу)
  • Прецизионный столик для совмещения и микроскоп
  • Возможность задания различной интенсивности УФ излучения для экспонирования
  • Система для компенсации «клина засветки» на воздушных подшипниках
  • Эргономичный дизайн для удобного использования
  • Антивибрационный стол (опция)
  • Низкая стоимость/высокое качество
  • Обратное совмещение - IR BSA (опция)
  • Управлене с ПК (PLC/PC контроль)
Запросить брошюру в PDF

Характеристики

Мощность лампы УФ источник света с мощностью 350 Вт с контролем интенсивности и мощности излучения.
Размер подложки кусочки, пластины до 6 дюймов, размер подложек 6х6 дюйма
Точность 1 микрон
Разрешение 1 микрон, при использовании тонкого фоторезиста на Si пластине с вакуумным контактом  (возможно 0,8 мкм с вакуумным контактом)
Размер маски до 7 х 7 дюймов
УФ лампа 350 Вт.
Диапазон длин волн засветки 350-450 нм, или другие по запросу.
Размер однородного пучка 6,25" х 6,25"
Оптическое зрение (микроскоп) Микроскоп двойного поля (80x - 480x увеличение, или 80-1000х по запросу)CCD камера
Однородность пучка < 5%
Интенсивность излучения при длине волны 365 нм Максимальная 25 мВт/см2
Режим управления с ПК 
Регулируемое время экспонирования 0,1 to 999,сек с шагом 100 мс.
Совмещение подложек Модуль совмещения с возможностью перемещения по осям х,у,z (по z ± 10 мм или другой по запросу) и по углу θ (± 5°)
Выравнивание Компенсация ошибки клина
Методы экспонирования Мягкий контактжесткий контакт, вакуумный контакт (контактное усилие регулируется), экспонирование с микрозазором (регулируемое 1 мкм)
Стол Антивибрационный стол
Опции ИК опция обратного совмещения (IR BSA), Датчик интенсивности УФ излучения, модуль UV-LED излучения (365 нм), модуль засветки для УФ и глубокого УФ

Общая схема установки MDA-400M-6



Запросить предложение можно по ссылке или направив нам письмо по адресу info@minateh.ru  

Новости

Все новости

Система плазменной очистки ATTO с нашего склада в Москве

Подробнее

Международная выставка испытательного и контрольно-измерительного оборудования Testing & Control

Подробнее

МИНАТЕХ начинает сотрудничество с немецким специалистом по метрологии SURAGUS

Подробнее

Новая установка безмасковой лазерной литографии DWL 66+

Подробнее

МИНАТЕХ начинает сотрудничество с немецкой компанией Accurion GmbH

Подробнее

Процесс совмещения на установках MLA от HIMT

Подробнее

Новый компактный 3D профилометр-конфокальный микроскоп S lynx от SENSOFAR

Подробнее

SENTECH анонсировал новую серию спектроскопических эллипсометров SENresearch 4.0.

Подробнее