+7 (495) 909-89-53

Осаждение SprayCVD, MOCVD, LPCVD

Установка SprayCVD-050 от ANNEALSYS (Франция)

Лабораторная печь для процессов SprayCVD на подложках диаметром до 2-ух дюймов производства ANNEALSYS (Франция). Осаждение и отжиг в одной камере.  

Применение:
SprayCVD
быстрый термический отжиг (RTA),
быстрое термическое окисление (RTO)
In-situ отжиг и др.
Пластины до 2-ух дюймов
Максимальная температура: 1200°C
Загрузка: ручная

Установка DLI-CVD и MOCVD модели MC-050 от ANNEALSYS (Франция)

Бюджетная установка для процессов DLI-CVD и MOCVD производства ANNEALSYS (Франция) для исследований и НИОКР на подложках диаметром до 2-ух дюймов. осаждение и отжиг можно производить в одной камере.

Применение:
DLI-CVD, CVD, MOCVD
быстрый термический отжиг (RTA),
быстрое термическое окисление (RTO)
In-situ отжиг и др.
Пластины до 2-ух дюймов
Максимальная температура: 1200°C
Загрузка: ручная

Установка DLI-CVD и MOCVD модели MC-100 и MC-200 от ANNEALSYS (Франция)

Универсальная установка для процессов MOCVD, DLI-CVD и DLI-ALD производства ANNEALSYS (Франция) для исследований и R&D. Установка доступна для обработки пластин до 4 дюймов (100 мм.) и до 8 дюймов (200 мм) соответственно.

Применение:
DLI-CVD, DLI-ALD, SprayCVD, MOCVD, металлы, сплавы
быстрый термический отжиг (RTA),
быстрое термическое окисление (RTO)
In-situ отжиг и др.
Пластины до 4-х дюймов и до 8 дюймов
Максимальная температура: 850°C
Загрузка: ручная

Новости

Все новости

МИНАТЕХ начинает сотрудничество с немецким специалистом по метрологии SURAGUS

Подробнее

Новая установка безмасковой лазерной литографии DWL 66+

Подробнее

МИНАТЕХ начинает сотрудничество с немецкой компанией Accurion GmbH

Подробнее

Процесс совмещения на установках MLA от HIMT

Подробнее

Новый компактный 3D профилометр-конфокальный микроскоп S lynx от SENSOFAR

Подробнее

SENTECH анонсировал новую серию спектроскопических эллипсометров SENresearch 4.0.

Подробнее