+7 (495) 909-89-53

Установка DLI-CVD и MOCVD модели MC-100 и MC-200 от ANNEALSYS (Франция)

MC200_newMC100_Processesaf

Универсальная установка для процессов DLI-CVD, DLI-ALD и MOCVD модели MC-100 и MC-200 производства ANNEALSYS (Франция) для исследований и НИОКР на подложках диаметром до 4-ех дюймов и 8-ми дюймов соответственно. 
(DLI - Direct Liquid Injection)

Применение: 
- DLI-CVD, DLI-ALD, MOCVD
- Металлы и сплавы, оксиды, нитриды,
- Углеродные нанатрубки и нанопровода…
- Полупроводники: SiO2, HfO2, Ta2O5, Cu, TiN, TaN, ...
- Диэлектрики с высоким k: SrTiO3, BaTiO3, Ba(1-x)SrxTiO3 (BST)
- Ферроэлектрики: SBT, SBTN, PLZT, PZT,…
- Сверхпроводники: YBCO, Bi-2223, Bi-2212, Tl-1223, …
- Пьезоэлектрики: (Pb, Sr)(Zr,Ti)O3, Модифицированный титанат свинца с колоссальным магнитным сопротивлением
- Металлы: Pt, Cu,...
- Термические покрытия
- Буфферные слои
- Механические покрытия
- Оптика

Особенности

  • Ручная загрузка
  • Установки MC-100 и MC-200 - установки с холодными стенками для проведения DLI-CVD, MOCVD процессов специально разработаны для удовлетворения требований заказчиков занимающихся разработками и исследованиями

  • MC-100 позволяют проводить процесс гетороэпитаксии оксидов на пластине монокристаллического кремния (такие как YBCO/LAO, STO/MgO, MxOy/LAO,…) с помощью MOCVD с использованием большого числа твердых, жидких металлоорганических прекурсоров с использованием технологии прямого впрыска жидкости (Direct Liquid Injection.)

  • Системы MC-100 и MC-200 модет быть снабжена разными аппаратами (системами) впрыска и вакуумным оборудованием в зависимости от применения.

  • CVD процессс с пульсирующим давлением

  • Высокая скорость нагрева до 200°C/сек для пластины в 4 дюймов
  • Компактная напольная конфигурация для экономии места
  • Высокая надежность и низкая стоимость владения
  • Высокая воспроизводимость процесса
  • Высокая скорость охлаждения и низкий эффект памяти
  • Вакуумная версия (10-3 Торр) 
  • Пирометр и термопара для контроля температуры
  • Быстрый цифровой контроллер температуры PID
  • До 8-ми газовых линий и до 4-х инжекторов подачи прекурсоров
Скачать брощюру MC-100 в PDF
Скачать презентацию MC-100 в PDFСкачать брощюру MC-200 в PDF
Скачать презентацию MC-200 в PDF

Характеристики

Максимальный размер образца

до 4 дюймов и до 8 дюймов в диаметре.

Температурный диапазон

от комнатной (RT) до 850°C +/- 1°C (в зависимости от версии)

Скорость нагрева

до 200 0С/сек

Газовая система и DLI система  Возможность смешивать процессные газы, Контроллеры массового расхода газа
До 8 штук (MFC) 
До 4 инжекторов для подачи прекурсоров (DLI - Direct Liquid Injection)
Вакуум от атм. (н.у.) до 10-3 Торр 
Контроль температуры измерение температуры термопарой и быстрым температурным контроллером PID гарантирует высокий и стабильный температурный контроль по всему диапазону температур
Управление система имеет управление с ПК с программным обеспечением на базе Windows
Опции  Перчаточный бокс для загрузки (опция)

Запросить предложение можно по ссылке или направив нам письмо по адресу info@minateh.ru

Новости

Все новости

Международная выставка испытательного и контрольно-измерительного оборудования Testing & Control

Подробнее

МИНАТЕХ начинает сотрудничество с немецким специалистом по метрологии SURAGUS

Подробнее

Новая установка безмасковой лазерной литографии DWL 66+

Подробнее

МИНАТЕХ начинает сотрудничество с немецкой компанией Accurion GmbH

Подробнее

Процесс совмещения на установках MLA от HIMT

Подробнее

Новый компактный 3D профилометр-конфокальный микроскоп S lynx от SENSOFAR

Подробнее

SENTECH анонсировал новую серию спектроскопических эллипсометров SENresearch 4.0.

Подробнее