+7 (495) 909-89-53

Raith e_Line PLUS

e_line8e_line7e_line6e_line5e_line4e_line3e_line2

e_LiNE plus (“Lithography and NanoEngineering”) производства RAITH (Германия) – это система «под ключ», которая объединяет в себе функционал передового электронно-лучевого литографа ультравысокого разрешения, расширенные возможности аналитического автоэмиссионного электронного микроскопа и инструменты рабочей станции для наноинжиниринга. e_LiNE plus предназначен для научных центров и центров коллективного пользования, специализирующихся на разработках и исследованиях в сфере физики, оптики, фотоники, микро, наноэлектроники и нанотехнологий.

С e_LiNE plus инновационные исследования получают доступ к кластерному научно-исследовательскому прибору с расширяемым потенциалом, объединяющим литографию, наноконструирование, изображение с ультра-высоким разрешением и микроанализ. e_LiNE plus – единственная система, сочетающая в себе классическую нанолитографическую рабочую станцию и возможности реализации разнообразных многоцелевых приложений без компромисса относительно самых передовых показателей производительности нанолитографа. Безотносительно расширенных возможностей, e_LiNE plus обеспечивает самое эффективное выполнение разработческих задач литографирования и сканирования пластин.

e_LiNE plus позволяет осуществлять литографирование с ультра-высоким разрешением на пластинах размером вплоть до 4 дюймов с автоматическим контролем и корректировкой процесса экспонирования. Cтабильность параметров электронно-оптической колонны и применение методов автоматической корректировки дрейфа и фокусировки позволяет осуществлять длительную работу с образцами как малой, так и большой площади поверхности. При этом, e_LiNE plus - единственная система, которая позволяет профессионально выполнять как задачи литографирования сложных структур, так и задачи наноконструирования. Профессиональная нанолитография достигнута за счет полностью интегрированной литографической архитектуры прибора и гибкого программного обеспечения, контролируемого лазерным интерферометром предметного стола, обеспечивающего нанометровую точность позиционирования, а также уникальных режимов экспонирования FBMS (литографирование столом при неподвижном пучке) и MBMS (литографирование столом и модулированным пучком), позволяющим достигнуть бесшовного экспонирования протяженных (например, волноводов) или периодических структур (например, фотонных кристаллов) на больших площадях поверхности.

Для задач наноконструирования и аналитических электронно-микроскопических целей e_LiNE plus может быть оборудована как различными детекторами, так и полностью интегрированными в управляющее программное обеспечение Raith Nanosuite наноманипуляторами и системой газовой химии с возможностью создания автоматизированных процессов.

Уникальные детекторы, позволяющие на порядок превзойти показатели стандартных литографических систем, дополняют гибкость конфигурации e_LiNE plus. Внутрилинзовый детектор вторичных электронов, внутрилинзовый детектор обратно-рассеянных электронов с селекцией по энергии, соосный детектор обратно-рассеянных электронов с селекцией по углу обеспечивают обеспечивают максимум эффективности и гибкости в задачах распознавания маркеров выравнивания, удобную калибровку, высококачественную визуализацию и идентификацию наноструктур по контрасту материала. 

Особенности

  • e_LiNE plus - единственная система, разработанная для решения многоцелевых задач в повседневной научно-исследовательской практике, которая также включает в себя функционал применения in situ, для таких приложений как, например:
  • прямые электрические измерения на образце, многоточечные измерения
  • механические тесты наноструктур
  • профилометрия
  • создание острий для полевой эмиссии или острий на вершине стандартной пирамидки кантилевера атомно-силового микроскопа
  • наноконструирование структур в 3D
  • создание наноотверстий (нанопор)
  • создание «твердых» масок для травления (защита поверхности, герметизация)
  • нано/микротрубки, нанопипетки
  • ретушь/модификация микросхем на этапе разработки, ретушь и восстановление фотошаблонов
  • подводка контактов и их приварка к наноструктурам in situ для измерений транспорта
  • получение высококонтрастных изображений, анализ по материалу и измерение критических размеров
  • Технология
  • GEMINI, Raith Fixed Beam Moving Stage, Raith Modulated Beam Moving Stage
  • Программное обеспечение - Raith Nanosuite. Стандарт GDSII. Единый модуль дизайна CAD-объектов с привязкой к слоям, параметрам экспонирования, контроль позиционирования в системе координат образца, скриптинг, автоматизация, “DirectAlignDesign”, “Flexposure”, коррекция эффекта близости, литография в 3D.
Скачать брошюру продуктов RAITH в PDF

Характеристики

Лазерный интерферометрический стол и точность сшивки/наложения - 100х100х30 мм
- Точность сшивки полей и наложения полей на больших площадях <40 нм (среднее значение + 3 сигма)
- Точность позиционирования 1 нм
Электронно-оптическая колонна - Автоэмиссионный катод Шоттки, диаметр пятна зонда <2 нм
- Колонна без кроссоверов (т.е. без пересечений траекторий лучей пучка): низкие аберрации, высокая плотность тока зонда (> 7 500 A/cm2), высокое пространственное разрешение как при высоких, так и при низких ускоряющих напряжениях
- Внутрилинзовый детектор вторичных электронов
- Метрологические возможности и получение РЭМ-изображений при ускоряющих напряжениях в том числе менее 1 кВ
- Долговременная стабильность тока пучка (<0,5% / 8 часов)
- Непревзойденная точность позиционирования луча на образце
Энергия пучка 20 эВ – 30 кэВ
Зондовый ток 5 пА – 20 нА
Режимы и характеристики  - Автоматизация всех операций, автоматическое выравнивание плоскости фокуса, коррекция дрейфа, коррекция доз по измеряемому току
- GDSII; импорт форматов AutoCAD DXF, ASCII, CIF
- “DirectAlignDesign”
- “Flexposure”
- Коррекция эффекта близости
- Литография в 3D
Минимальный размер получаемой структуры/линии < 10 нм

Генератор развертки

20 МГц

Доп оборудование

  • Система газовой химии на 5 линий. Полный спектр газообразных реактивов-прекурсоров.
  • Система газовой химии на 1 линию (mono-GIS).
  • Управляемый вручную шлюз для загрузки образца.
  • До 4х наноманипуляторов.
  • Энерго-дисперсионная спектроскопия (EDX)
  • Внутрилинзовый детектор обратно-рассеянных электронов с селекцией по энергии (EsB)
  • STEM-детектор
  • Четырех-секционный детектор обратно-рассеянных электронов с селекцией по углу (AsB)
  • Плазменная очистка камеры образца
  • Встроенный оптический макроскоп с системой подсветки
  • Система нагрева/охлаждения образца
  • Система автоматического выравнивания плоскости фокуса
  • Модуль наклона и поворота образца
  • Активная платформа виброподавления, активная система подавления шумов магнитного поля

Запросить предложение можно по ссылке или направив нам письмо по адресу info@minateh.ru

Новости

Все новости

Система плазменной очистки ATTO с нашего склада в Москве

Подробнее

Международная выставка испытательного и контрольно-измерительного оборудования Testing & Control

Подробнее

МИНАТЕХ начинает сотрудничество с немецким специалистом по метрологии SURAGUS

Подробнее

Новая установка безмасковой лазерной литографии DWL 66+

Подробнее

МИНАТЕХ начинает сотрудничество с немецкой компанией Accurion GmbH

Подробнее

Процесс совмещения на установках MLA от HIMT

Подробнее

Новый компактный 3D профилометр-конфокальный микроскоп S lynx от SENSOFAR

Подробнее

SENTECH анонсировал новую серию спектроскопических эллипсометров SENresearch 4.0.

Подробнее