e_LiNE plus (“Lithography and NanoEngineering”) производства RAITH (Германия) – это система «под ключ», которая объединяет в себе функционал передового электронно-лучевого литографа ультравысокого разрешения, расширенные возможности аналитического автоэмиссионного электронного микроскопа и инструменты рабочей станции для наноинжиниринга. e_LiNE plus предназначен для научных центров и центров коллективного пользования, специализирующихся на разработках и исследованиях в сфере физики, оптики, фотоники, микро, наноэлектроники и нанотехнологий.
С e_LiNE plus инновационные исследования получают доступ к кластерному научно-исследовательскому прибору с расширяемым потенциалом, объединяющим литографию, наноконструирование, изображение с ультра-высоким разрешением и микроанализ. e_LiNE plus – единственная система, сочетающая в себе классическую нанолитографическую рабочую станцию и возможности реализации разнообразных многоцелевых приложений без компромисса относительно самых передовых показателей производительности нанолитографа. Безотносительно расширенных возможностей, e_LiNE plus обеспечивает самое эффективное выполнение разработческих задач литографирования и сканирования пластин.
e_LiNE plus позволяет осуществлять литографирование с ультра-высоким разрешением на пластинах размером вплоть до 4 дюймов с автоматическим контролем и корректировкой процесса экспонирования. Cтабильность параметров электронно-оптической колонны и применение методов автоматической корректировки дрейфа и фокусировки позволяет осуществлять длительную работу с образцами как малой, так и большой площади поверхности. При этом, e_LiNE plus - единственная система, которая позволяет профессионально выполнять как задачи литографирования сложных структур, так и задачи наноконструирования. Профессиональная нанолитография достигнута за счет полностью интегрированной литографической архитектуры прибора и гибкого программного обеспечения, контролируемого лазерным интерферометром предметного стола, обеспечивающего нанометровую точность позиционирования, а также уникальных режимов экспонирования FBMS (литографирование столом при неподвижном пучке) и MBMS (литографирование столом и модулированным пучком), позволяющим достигнуть бесшовного экспонирования протяженных (например, волноводов) или периодических структур (например, фотонных кристаллов) на больших площадях поверхности.
Для задач наноконструирования и аналитических электронно-микроскопических целей e_LiNE plus может быть оборудована как различными детекторами, так и полностью интегрированными в управляющее программное обеспечение Raith Nanosuite наноманипуляторами и системой газовой химии с возможностью создания автоматизированных процессов.
Уникальные детекторы, позволяющие на порядок превзойти показатели стандартных литографических систем, дополняют гибкость конфигурации e_LiNE plus. Внутрилинзовый детектор вторичных электронов, внутрилинзовый детектор обратно-рассеянных электронов с селекцией по энергии, соосный детектор обратно-рассеянных электронов с селекцией по углу обеспечивают обеспечивают максимум эффективности и гибкости в задачах распознавания маркеров выравнивания, удобную калибровку, высококачественную визуализацию и идентификацию наноструктур по контрасту материала.
| Лазерный интерферометрический стол и точность сшивки/наложения | - 100х100х30 мм - Точность сшивки полей и наложения полей на больших площадях <40 нм (среднее значение + 3 сигма) - Точность позиционирования 1 нм |
| Электронно-оптическая колонна | - Автоэмиссионный катод Шоттки, диаметр пятна зонда <2 нм - Колонна без кроссоверов (т.е. без пересечений траекторий лучей пучка): низкие аберрации, высокая плотность тока зонда (> 7 500 A/cm2), высокое пространственное разрешение как при высоких, так и при низких ускоряющих напряжениях - Внутрилинзовый детектор вторичных электронов - Метрологические возможности и получение РЭМ-изображений при ускоряющих напряжениях в том числе менее 1 кВ - Долговременная стабильность тока пучка (<0,5% / 8 часов) - Непревзойденная точность позиционирования луча на образце |
| Энергия пучка | 20 эВ – 30 кэВ |
| Зондовый ток | 5 пА – 20 нА |
| Режимы и характеристики | - Автоматизация всех операций, автоматическое выравнивание плоскости фокуса, коррекция дрейфа, коррекция доз по измеряемому току - GDSII; импорт форматов AutoCAD DXF, ASCII, CIF - “DirectAlignDesign” - “Flexposure” - Коррекция эффекта близости - Литография в 3D |
| Минимальный размер получаемой структуры/линии | < 10 нм |
|
Генератор развертки |
20 МГц |
|
Доп оборудование |
|
Установки электронно-лучевой литографии серии Raith EBPG5150 / EBPG 5200 производства RAITH (Германия) – высокопроизводительные электронно-лучевой литографы, рассчитанные на работу с пластинами до 150 и до 200 мм
EBPG – это установки мирового стандарта качества, которая зарекомендовала себя и является предпочтительным выбором заказчиков как в серийном производстве в микроэлектронике, так и в ведущих научно-исследовательских центрах компетенции университетского уровня.
Эволюционная технология EBPG представляет пользователям наиболее мощный и современный из существующих на рынке приборов нанолитографии гауссовым пучком. Высокие показатели спецификации и эффективность работы являются результатом многолетней эволюции серии EBPG и внедрения обратной связи пользователей для максимальной оптимизации технологии. Стабильность, высокая производительность и возможность апгрейда EBPG обеспечивают заказчику гарантию надежного инвестирования, готовность и передовую позицию в производстве сегодняшнего дня и разработке технологий будущего.
Установки электронно-лучевой литографии серии Raith EBPG5150 / EBPG 5200 производства RAITH (Германия) – высокопроизводительные электронно-лучевой литографы, рассчитанные на работу с пластинами до 150 и до 200 мм
EBPG – это установки мирового стандарта качества, которая зарекомендовала себя и является предпочтительным выбором заказчиков как в серийном производстве в микроэлектронике, так и в ведущих научно-исследовательских центрах компетенции университетского уровня.
Эволюционная технология EBPG представляет пользователям наиболее мощный и современный из существующих на рынке приборов нанолитографии гауссовым пучком. Высокие показатели спецификации и эффективность работы являются результатом многолетней эволюции серии EBPG и внедрения обратной связи пользователей для максимальной оптимизации технологии. Стабильность, высокая производительность и возможность апгрейда EBPG обеспечивают заказчику гарантию надежного инвестирования, готовность и передовую позицию в производстве сегодняшнего дня и разработке технологий будущего.
VOYAGER производства RAITH (Германия) – это новый прибор класса высокопроизводительных электронно-лучевых литографов, построенный на инновационной технологии Raith eWrite.
Работа на подложках до 200 мм.
Рекомендован в областях, связанных как с серийным производством, так и с научно-исследовательскими работами, где требуется высокая производительность и максимум пространственного разрешения. Инновационная архитектура и высокие показатели спецификации разработаны для получения точных результатов при высокой скорости экспонирования и при весьма низкой стоимости владения прибором. VOYAGER, таким образом, снижает барьер для доступа в сферу профессиональной, ориентированной на высокую производительность электронно-лучевой литографии.
VOYAGER – первая система, в которой реализована новая технология Raith eWrite. eWrite объединяет в себе специализированную «выделенную» архитектуру электронно-лучевой колонны и паттерн-генератора, позволяющую осуществлять автоматизацию калибровок системы и высокую скорость при серийном производстве.
Концепцию VOYAGER подчеркивает:
- инновационная архитектура системы
- сниженные требования к условиям эксплуатации в помещении и малое занимаемое пространство
- производительность экспонирования более 1 см2/час
- невысокая стоимость владения
VOYAGER производства RAITH (Германия) – это новый прибор класса высокопроизводительных электронно-лучевых литографов, построенный на инновационной технологии Raith eWrite.
Работа на подложках до 200 мм.
Рекомендован в областях, связанных как с серийным производством, так и с научно-исследовательскими работами, где требуется высокая производительность и максимум пространственного разрешения. Инновационная архитектура и высокие показатели спецификации разработаны для получения точных результатов при высокой скорости экспонирования и при весьма низкой стоимости владения прибором. VOYAGER, таким образом, снижает барьер для доступа в сферу профессиональной, ориентированной на высокую производительность электронно-лучевой литографии.
VOYAGER – первая система, в которой реализована новая технология Raith eWrite. eWrite объединяет в себе специализированную «выделенную» архитектуру электронно-лучевой колонны и паттерн-генератора, позволяющую осуществлять автоматизацию калибровок системы и высокую скорость при серийном производстве.
Концепцию VOYAGER подчеркивает:
- инновационная архитектура системы
- сниженные требования к условиям эксплуатации в помещении и малое занимаемое пространство
- производительность экспонирования более 1 см2/час
- невысокая стоимость владения
RAITH150-TWO производства RAITH (Германия) – это электронно-лучевой литограф ультравысокого разрешения, рассчитанный на работу с пластинами и масками вплоть до 7-8 дюймов, который предназначен для центров коллективного пользования и опытно конструкторских отделов предприятий, работающих в области нанотехнологий.
RAITH150-TWO является нанотехнологическим инструментом новейшего поколения и создан специально, чтобы отвечать современной динамике требований в нанотехнологиях. RAITH150-TWO позволяет объединить научные исследования, разработку устройств и мелкосерийное производство в условиях комплексной автоматизации, максимальной воспроизводимости результатов, максимальной скорости работы и расширенного функционала. Простота в обращении, низкая стоимость эксплуатационных затрат, умеренные требования к условиям помещения и небольшой размер занимаемой площади делают RAITH150-TWO производительным и высокоэффективным оборудованием для электронно-лучевой литографии, навигации по пластинам и сканирования чипов с высоким разрешением.
RAITH150-TWO – это мост между научными исследованиями, разработками и мелкосерийным производством.
RAITH150-TWO производства RAITH (Германия) – это электронно-лучевой литограф ультравысокого разрешения, рассчитанный на работу с пластинами и масками вплоть до 7-8 дюймов, который предназначен для центров коллективного пользования и опытно конструкторских отделов предприятий, работающих в области нанотехнологий.
RAITH150-TWO является нанотехнологическим инструментом новейшего поколения и создан специально, чтобы отвечать современной динамике требований в нанотехнологиях. RAITH150-TWO позволяет объединить научные исследования, разработку устройств и мелкосерийное производство в условиях комплексной автоматизации, максимальной воспроизводимости результатов, максимальной скорости работы и расширенного функционала. Простота в обращении, низкая стоимость эксплуатационных затрат, умеренные требования к условиям помещения и небольшой размер занимаемой площади делают RAITH150-TWO производительным и высокоэффективным оборудованием для электронно-лучевой литографии, навигации по пластинам и сканирования чипов с высоким разрешением.
RAITH150-TWO – это мост между научными исследованиями, разработками и мелкосерийным производством.
ООО "Минатех"— Микро и нано технологии
Статьи
© Все права защищены
Россия, Москва, ул. Ткацкая, д.5с1.
тел./факс: +7 (495) 909-89-53 / +7 (495) 909-89-54
моб.тел.: +7 (926) 134-69-15
e-mail: info@minateh.ru
