+7 (495) 909-89-53

Raith EBPG5150 / EBPG5200

Установка электронно-лучевой литографии серии Raith EBPG5200 фото Установка электронно-лучевой литографии серии Raith EBPG5150 фотоSplit Ring ResonatorsS-3-Applikation-6S-3-Applikation-3S-3-Applikation-2S-3-Applikation-1GASa Tgater device

Установки электронно-лучевой литографии серии Raith EBPG5150 / EBPG 5200 производства RAITH (Германия) – высокопроизводительные электронно-лучевой литографы, рассчитанные на работу с пластинами до 150 и до 200 мм.

EBPG – это установки мирового стандарта качества, которая зарекомендовала себя и является предпочтительным выбором заказчиков как в серийном производстве в микроэлектронике, так и в ведущих научно-исследовательских центрах компетенции университетского уровня.

Эволюционная технология EBPG представляет пользователям наиболее мощный и современный из существующих на рынке приборов нанолитографии гауссовым пучком. Высокие показатели спецификации и эффективность работы являются результатом многолетней эволюции серии EBPG и внедрения обратной связи пользователей для максимальной оптимизации технологии. Стабильность, высокая производительность и возможность апгрейда EBPG обеспечивают заказчику гарантию надежного инвестирования, готовность и передовую позицию в производстве сегодняшнего дня и разработке технологий будущего.

EBPG разработан в соответствие с многочисленными требованиями как различных задач прямой нанолитографии, так и особенностей изготовления высокоточных масок-фотошаблонов для нужд R&D.

Литограф EBPG5150

Оптимизирован для всех приложений нанолитографии, рассчитанных на площади вплоть до 155 х 155 мм. Система использует единый стандарт всех составных частей совместно с серией 5200 и обеспечивает такие же пространственное разрешение, автоматизацию и производительность. EBPG5150 позволяет работать с широким диапазоном размеров образца – как с частями пластин, так и с пластинами вплоть до 6”. Система обеспечена такой же стратегией апгрейдов, как и в случае EBPG5200, предоставляя скорость паттерн-генератора 100 МГц, увеличенный размер поля экспонирования и скорости стола, больший шлюзовой загрузчик образца. Все это дает заказчикам, как академической сферы, так и сферы индустрии, возможность работы с наиболее современной автоматизированной системой электронно-лучевой литографии.

Литограф EBPG5200

Высокопроизводительная система нанолитографии на площадях до 200 мм. Будучи самой быстрой системой в своем классе приборов, EBPG5200 обладает скоростью паттерн-генератора до 100 МГц, полной автоматизацией работы системы, высоким пространственным разрешением в литографии на больших полях экспонирования и малым занимаемым пространством чистых комнат. EBPG5200 является наилучшим выбором для достижения самых передовых результатов в нанолитографии и изготовлении фотошаблонов для R&D.

В сфере индустрии, EBPG – ключевая технология, которая открывает возможность производства современных оптоэлектронных и транзисторных структур на полупроводниках типа А3Б5. Множество систем EBPG применяются заказчиками в режиме 24/7, где основным безусловным требованием является высокая степень стабильности и воспроизводимости результатов. EBPG5200 обеспечивает минимальный размер структур <10 нм даже в большом поле экспонирования до 1 мм. Позволяя работать на площадях до 200 мм и предоставляя возможность точной подвижки по Z (Z-lift, опционально), EBPG5200 обеспечивает как легкость работы с образцами малого размера, так и готовность к применениям будущего в 3D. 

Особенности

  • Работа на подложках до 155х155 и до 200х200 мм соответственно.
  • Колонна 100 кэВ
  • Автоматическая калибровка системы  

  • Установки электронной оптики 

  • Осевой и внеосевой фокус

  • Коррекция астигматизма 

  • Коррекции дисторсии поля 

  • Высокий зондовый ток (>200 нА) 
  • Высокая скорость дефлекторов (100 МГц) 
  • Большое единичное поле экспонирования (до 1 мм) 
  • Высокая скорость стола 
  • Минимизированное время простоя паттерн-генератора (overhead) 
  • Оптимизированные стратегии экспонирования 
  • Работа системы в полностью автоматическом режиме, без оператора 
  • Многопользовательский интерфейс 
  • Высокая точность сшивки полей и наложения полей 
  • Высокое пространственное разрешение получаемых структур 
  • Различные варианты держателей образцов как малого размера, так и стандартных пластин 
  • Полностью автоматическое экспонирование пластин 
  • Полностью автоматический загрузчик на 10 держателей 
  • Детальное обучение, консультации по применениям, сервисная поддержка в течение всего жизненного цикла прибора
  • Высокое ускоряющее напряжение для наноструктур с большим аспектным соотношением 
  • Высокая скорость прямого экспонирования (direct write) 
  • Серийное производство, напр., в сфере сложных полупроводниковых структур и приборов 
  • Оптические структуры для элементов защиты от подделок 
Скачать брошюру продуктов RAITH в PDF

Характеристики

Лазерный интерферометрический стол и точность сшивки/наложения - Перемещение 210х210 мм EBPG5200 (экспонирование пластин до 8”, фотошаблонов до 7”) 
- Перемещение 155х155 мм EBPG5150 (экспонирование пластин до 6”) 
- Точность сшивки полей и наложения полей вплоть до <10 нм  
Стандартное единичное поле экспонирования  100 - 524 мкм  
Электронно-оптическая колонна - Колонна с катодом Шоттки - 100 кэВ 
- Работа колонны на 20 кВ, 50 кВ и 100 кВ 
- Полностью автоматический контроль колонны 
- Стабильность тока пучка: дрейф <0,5% / 1 час
Стандартный загрузчик держателей образцов Автоматический, на 2 держателя 
Режимы и характеристики - Графический пользовательский интерфейс 
- Экспонирование в режиме step&repeat с оптимизированной траекторией и минимизированной установкой (settling) стола 
- Разрешение 20 бит по полю экспонирования
Минимальный размер получаемой структуры/линии  < 8 нм
Стандартный паттерн-генератор 50 МГц 

Опции

- 100 МГц 
- единичное поле экспонирования до 1 мм 
- автоматический загрузчик на 10 держателей 
- увеличенная скорость стола 
- автоматическая смена апертур 
- Z-lift до 10 мм для серии 5200
 

Запросить предложение можно по ссылке или направив нам письмо по адресу info@minateh.ru

Запросить предложение товара

Raith EBPG5150 / EBPG5200

Также Вас может заинтересовать
Raith VOYAGER

VOYAGER производства RAITH (Германия) – это новый прибор класса высокопроизводительных электронно-лучевых литографов, построенный на инновационной технологии Raith eWrite.

Работа на подложках до 200 мм. 

Рекомендован в областях, связанных как с серийным производством, так и с научно-исследовательскими работами, где требуется высокая производительность и максимум пространственного разрешения. Инновационная архитектура и высокие показатели спецификации разработаны для получения точных результатов при высокой скорости экспонирования и при весьма низкой стоимости владения прибором. VOYAGER, таким образом, снижает барьер для доступа в сферу профессиональной, ориентированной на высокую производительность электронно-лучевой литографии. 

VOYAGER – первая система, в которой реализована новая технология Raith eWrite. eWrite объединяет в себе специализированную «выделенную» архитектуру электронно-лучевой колонны и паттерн-генератора, позволяющую осуществлять автоматизацию калибровок системы и высокую скорость при серийном производстве. 

Концепцию VOYAGER подчеркивает: 
- инновационная архитектура системы 
- сниженные требования к условиям эксплуатации в помещении и малое занимаемое пространство 
- производительность экспонирования более 1 см2/час 
- невысокая стоимость владения 

VOYAGER производства RAITH (Германия) – это новый прибор класса высокопроизводительных электронно-лучевых литографов, построенный на инновационной технологии Raith eWrite.

Работа на подложках до 200 мм. 

Рекомендован в областях, связанных как с серийным производством, так и с научно-исследовательскими работами, где требуется высокая производительность и максимум пространственного разрешения. Инновационная архитектура и высокие показатели спецификации разработаны для получения точных результатов при высокой скорости экспонирования и при весьма низкой стоимости владения прибором. VOYAGER, таким образом, снижает барьер для доступа в сферу профессиональной, ориентированной на высокую производительность электронно-лучевой литографии. 

VOYAGER – первая система, в которой реализована новая технология Raith eWrite. eWrite объединяет в себе специализированную «выделенную» архитектуру электронно-лучевой колонны и паттерн-генератора, позволяющую осуществлять автоматизацию калибровок системы и высокую скорость при серийном производстве. 

Концепцию VOYAGER подчеркивает: 
- инновационная архитектура системы 
- сниженные требования к условиям эксплуатации в помещении и малое занимаемое пространство 
- производительность экспонирования более 1 см2/час 
- невысокая стоимость владения 

Raith 150 TWO

RAITH150-TWO производства RAITH (Германия) – это электронно-лучевой литограф ультравысокого разрешения, рассчитанный на работу с пластинами и масками вплоть до 7-8 дюймов, который предназначен для центров коллективного пользования и опытно конструкторских отделов предприятий, работающих в области нанотехнологий.

RAITH150-TWO является нанотехнологическим инструментом новейшего поколения и создан специально, чтобы отвечать современной динамике требований в нанотехнологиях. RAITH150-TWO позволяет объединить научные исследования, разработку устройств и мелкосерийное производство в условиях комплексной автоматизации, максимальной воспроизводимости результатов, максимальной скорости работы и расширенного функционала. Простота в обращении, низкая стоимость эксплуатационных затрат, умеренные требования к условиям помещения и небольшой размер занимаемой площади делают RAITH150-TWO производительным и высокоэффективным оборудованием для электронно-лучевой литографии, навигации по пластинам и сканирования чипов с высоким разрешением.

RAITH150-TWO – это мост между научными исследованиями, разработками и мелкосерийным производством.

RAITH150-TWO производства RAITH (Германия) – это электронно-лучевой литограф ультравысокого разрешения, рассчитанный на работу с пластинами и масками вплоть до 7-8 дюймов, который предназначен для центров коллективного пользования и опытно конструкторских отделов предприятий, работающих в области нанотехнологий.

RAITH150-TWO является нанотехнологическим инструментом новейшего поколения и создан специально, чтобы отвечать современной динамике требований в нанотехнологиях. RAITH150-TWO позволяет объединить научные исследования, разработку устройств и мелкосерийное производство в условиях комплексной автоматизации, максимальной воспроизводимости результатов, максимальной скорости работы и расширенного функционала. Простота в обращении, низкая стоимость эксплуатационных затрат, умеренные требования к условиям помещения и небольшой размер занимаемой площади делают RAITH150-TWO производительным и высокоэффективным оборудованием для электронно-лучевой литографии, навигации по пластинам и сканирования чипов с высоким разрешением.

RAITH150-TWO – это мост между научными исследованиями, разработками и мелкосерийным производством.

Raith e_Line PLUS

e_LiNE plus (“Lithography and NanoEngineering”) производства RAITH (Германия) – это система «под ключ», которая объединяет в себе функционал передового электронно-лучевого литографа ультравысокого разрешения, расширенные возможности аналитического автоэмиссионного электронного микроскопа и инструменты рабочей станции для наноинжиниринга. e_LiNE plus предназначен для научных центров и центров коллективного пользования, специализирующихся на разработках и исследованиях в сфере физики, оптики, фотоники, микро, наноэлектроники и нанотехнологий.

С e_LiNE plus инновационные исследования получают доступ к кластерному научно-исследовательскому прибору с расширяемым потенциалом, объединяющим литографию, наноконструирование, изображение с ультра-высоким разрешением и микроанализ. e_LiNE plus – единственная система, сочетающая в себе классическую нанолитографическую рабочую станцию и возможности реализации разнообразных многоцелевых приложений без компромисса относительно самых передовых показателей производительности нанолитографа. Безотносительно расширенных возможностей, e_LiNE plus обеспечивает самое эффективное выполнение разработческих задач литографирования и сканирования пластин.

 

e_LiNE plus (“Lithography and NanoEngineering”) производства RAITH (Германия) – это система «под ключ», которая объединяет в себе функционал передового электронно-лучевого литографа ультравысокого разрешения, расширенные возможности аналитического автоэмиссионного электронного микроскопа и инструменты рабочей станции для наноинжиниринга. e_LiNE plus предназначен для научных центров и центров коллективного пользования, специализирующихся на разработках и исследованиях в сфере физики, оптики, фотоники, микро, наноэлектроники и нанотехнологий.

С e_LiNE plus инновационные исследования получают доступ к кластерному научно-исследовательскому прибору с расширяемым потенциалом, объединяющим литографию, наноконструирование, изображение с ультра-высоким разрешением и микроанализ. e_LiNE plus – единственная система, сочетающая в себе классическую нанолитографическую рабочую станцию и возможности реализации разнообразных многоцелевых приложений без компромисса относительно самых передовых показателей производительности нанолитографа. Безотносительно расширенных возможностей, e_LiNE plus обеспечивает самое эффективное выполнение разработческих задач литографирования и сканирования пластин.