Установки электронно-лучевой литографии серии Raith EBPG5150 / EBPG 5200 производства RAITH (Германия) – высокопроизводительные электронно-лучевой литографы, рассчитанные на работу с пластинами до 150 и до 200 мм.
EBPG – это установки мирового стандарта качества, которая зарекомендовала себя и является предпочтительным выбором заказчиков как в серийном производстве в микроэлектронике, так и в ведущих научно-исследовательских центрах компетенции университетского уровня.
Эволюционная технология EBPG представляет пользователям наиболее мощный и современный из существующих на рынке приборов нанолитографии гауссовым пучком. Высокие показатели спецификации и эффективность работы являются результатом многолетней эволюции серии EBPG и внедрения обратной связи пользователей для максимальной оптимизации технологии. Стабильность, высокая производительность и возможность апгрейда EBPG обеспечивают заказчику гарантию надежного инвестирования, готовность и передовую позицию в производстве сегодняшнего дня и разработке технологий будущего.
EBPG разработан в соответствие с многочисленными требованиями как различных задач прямой нанолитографии, так и особенностей изготовления высокоточных масок-фотошаблонов для нужд R&D.
Оптимизирован для всех приложений нанолитографии, рассчитанных на площади вплоть до 155 х 155 мм. Система использует единый стандарт всех составных частей совместно с серией 5200 и обеспечивает такие же пространственное разрешение, автоматизацию и производительность. EBPG5150 позволяет работать с широким диапазоном размеров образца – как с частями пластин, так и с пластинами вплоть до 6”. Система обеспечена такой же стратегией апгрейдов, как и в случае EBPG5200, предоставляя скорость паттерн-генератора 100 МГц, увеличенный размер поля экспонирования и скорости стола, больший шлюзовой загрузчик образца. Все это дает заказчикам, как академической сферы, так и сферы индустрии, возможность работы с наиболее современной автоматизированной системой электронно-лучевой литографии.
Высокопроизводительная система нанолитографии на площадях до 200 мм. Будучи самой быстрой системой в своем классе приборов, EBPG5200 обладает скоростью паттерн-генератора до 100 МГц, полной автоматизацией работы системы, высоким пространственным разрешением в литографии на больших полях экспонирования и малым занимаемым пространством чистых комнат. EBPG5200 является наилучшим выбором для достижения самых передовых результатов в нанолитографии и изготовлении фотошаблонов для R&D.
В сфере индустрии, EBPG – ключевая технология, которая открывает возможность производства современных оптоэлектронных и транзисторных структур на полупроводниках типа А3Б5. Множество систем EBPG применяются заказчиками в режиме 24/7, где основным безусловным требованием является высокая степень стабильности и воспроизводимости результатов. EBPG5200 обеспечивает минимальный размер структур <10 нм даже в большом поле экспонирования до 1 мм. Позволяя работать на площадях до 200 мм и предоставляя возможность точной подвижки по Z (Z-lift, опционально), EBPG5200 обеспечивает как легкость работы с образцами малого размера, так и готовность к применениям будущего в 3D.
Автоматическая калибровка системы
Установки электронной оптики
Осевой и внеосевой фокус
Коррекция астигматизма
Коррекции дисторсии поля
Лазерный интерферометрический стол и точность сшивки/наложения | - Перемещение 210х210 мм EBPG5200 (экспонирование пластин до 8”, фотошаблонов до 7”) - Перемещение 155х155 мм EBPG5150 (экспонирование пластин до 6”) - Точность сшивки полей и наложения полей вплоть до <10 нм |
Стандартное единичное поле экспонирования | 100 - 524 мкм |
Электронно-оптическая колонна | - Колонна с катодом Шоттки - 100 кэВ - Работа колонны на 20 кВ, 50 кВ и 100 кВ - Полностью автоматический контроль колонны - Стабильность тока пучка: дрейф <0,5% / 1 час |
Стандартный загрузчик держателей образцов | Автоматический, на 2 держателя |
Режимы и характеристики | - Графический пользовательский интерфейс - Экспонирование в режиме step&repeat с оптимизированной траекторией и минимизированной установкой (settling) стола - Разрешение 20 бит по полю экспонирования |
Минимальный размер получаемой структуры/линии | < 8 нм |
Стандартный паттерн-генератор | 50 МГц |
Опции |
- 100 МГц - единичное поле экспонирования до 1 мм - автоматический загрузчик на 10 держателей - увеличенная скорость стола - автоматическая смена апертур - Z-lift до 10 мм для серии 5200 |
VOYAGER производства RAITH (Германия) – это новый прибор класса высокопроизводительных электронно-лучевых литографов, построенный на инновационной технологии Raith eWrite.
Работа на подложках до 200 мм.
Рекомендован в областях, связанных как с серийным производством, так и с научно-исследовательскими работами, где требуется высокая производительность и максимум пространственного разрешения. Инновационная архитектура и высокие показатели спецификации разработаны для получения точных результатов при высокой скорости экспонирования и при весьма низкой стоимости владения прибором. VOYAGER, таким образом, снижает барьер для доступа в сферу профессиональной, ориентированной на высокую производительность электронно-лучевой литографии.
VOYAGER – первая система, в которой реализована новая технология Raith eWrite. eWrite объединяет в себе специализированную «выделенную» архитектуру электронно-лучевой колонны и паттерн-генератора, позволяющую осуществлять автоматизацию калибровок системы и высокую скорость при серийном производстве.
Концепцию VOYAGER подчеркивает:
- инновационная архитектура системы
- сниженные требования к условиям эксплуатации в помещении и малое занимаемое пространство
- производительность экспонирования более 1 см2/час
- невысокая стоимость владения
VOYAGER производства RAITH (Германия) – это новый прибор класса высокопроизводительных электронно-лучевых литографов, построенный на инновационной технологии Raith eWrite.
Работа на подложках до 200 мм.
Рекомендован в областях, связанных как с серийным производством, так и с научно-исследовательскими работами, где требуется высокая производительность и максимум пространственного разрешения. Инновационная архитектура и высокие показатели спецификации разработаны для получения точных результатов при высокой скорости экспонирования и при весьма низкой стоимости владения прибором. VOYAGER, таким образом, снижает барьер для доступа в сферу профессиональной, ориентированной на высокую производительность электронно-лучевой литографии.
VOYAGER – первая система, в которой реализована новая технология Raith eWrite. eWrite объединяет в себе специализированную «выделенную» архитектуру электронно-лучевой колонны и паттерн-генератора, позволяющую осуществлять автоматизацию калибровок системы и высокую скорость при серийном производстве.
Концепцию VOYAGER подчеркивает:
- инновационная архитектура системы
- сниженные требования к условиям эксплуатации в помещении и малое занимаемое пространство
- производительность экспонирования более 1 см2/час
- невысокая стоимость владения
RAITH150-TWO производства RAITH (Германия) – это электронно-лучевой литограф ультравысокого разрешения, рассчитанный на работу с пластинами и масками вплоть до 7-8 дюймов, который предназначен для центров коллективного пользования и опытно конструкторских отделов предприятий, работающих в области нанотехнологий.
RAITH150-TWO является нанотехнологическим инструментом новейшего поколения и создан специально, чтобы отвечать современной динамике требований в нанотехнологиях. RAITH150-TWO позволяет объединить научные исследования, разработку устройств и мелкосерийное производство в условиях комплексной автоматизации, максимальной воспроизводимости результатов, максимальной скорости работы и расширенного функционала. Простота в обращении, низкая стоимость эксплуатационных затрат, умеренные требования к условиям помещения и небольшой размер занимаемой площади делают RAITH150-TWO производительным и высокоэффективным оборудованием для электронно-лучевой литографии, навигации по пластинам и сканирования чипов с высоким разрешением.
RAITH150-TWO – это мост между научными исследованиями, разработками и мелкосерийным производством.
RAITH150-TWO производства RAITH (Германия) – это электронно-лучевой литограф ультравысокого разрешения, рассчитанный на работу с пластинами и масками вплоть до 7-8 дюймов, который предназначен для центров коллективного пользования и опытно конструкторских отделов предприятий, работающих в области нанотехнологий.
RAITH150-TWO является нанотехнологическим инструментом новейшего поколения и создан специально, чтобы отвечать современной динамике требований в нанотехнологиях. RAITH150-TWO позволяет объединить научные исследования, разработку устройств и мелкосерийное производство в условиях комплексной автоматизации, максимальной воспроизводимости результатов, максимальной скорости работы и расширенного функционала. Простота в обращении, низкая стоимость эксплуатационных затрат, умеренные требования к условиям помещения и небольшой размер занимаемой площади делают RAITH150-TWO производительным и высокоэффективным оборудованием для электронно-лучевой литографии, навигации по пластинам и сканирования чипов с высоким разрешением.
RAITH150-TWO – это мост между научными исследованиями, разработками и мелкосерийным производством.
e_LiNE plus (“Lithography and NanoEngineering”) производства RAITH (Германия) – это система «под ключ», которая объединяет в себе функционал передового электронно-лучевого литографа ультравысокого разрешения, расширенные возможности аналитического автоэмиссионного электронного микроскопа и инструменты рабочей станции для наноинжиниринга. e_LiNE plus предназначен для научных центров и центров коллективного пользования, специализирующихся на разработках и исследованиях в сфере физики, оптики, фотоники, микро, наноэлектроники и нанотехнологий.
С e_LiNE plus инновационные исследования получают доступ к кластерному научно-исследовательскому прибору с расширяемым потенциалом, объединяющим литографию, наноконструирование, изображение с ультра-высоким разрешением и микроанализ. e_LiNE plus – единственная система, сочетающая в себе классическую нанолитографическую рабочую станцию и возможности реализации разнообразных многоцелевых приложений без компромисса относительно самых передовых показателей производительности нанолитографа. Безотносительно расширенных возможностей, e_LiNE plus обеспечивает самое эффективное выполнение разработческих задач литографирования и сканирования пластин.
e_LiNE plus (“Lithography and NanoEngineering”) производства RAITH (Германия) – это система «под ключ», которая объединяет в себе функционал передового электронно-лучевого литографа ультравысокого разрешения, расширенные возможности аналитического автоэмиссионного электронного микроскопа и инструменты рабочей станции для наноинжиниринга. e_LiNE plus предназначен для научных центров и центров коллективного пользования, специализирующихся на разработках и исследованиях в сфере физики, оптики, фотоники, микро, наноэлектроники и нанотехнологий.
С e_LiNE plus инновационные исследования получают доступ к кластерному научно-исследовательскому прибору с расширяемым потенциалом, объединяющим литографию, наноконструирование, изображение с ультра-высоким разрешением и микроанализ. e_LiNE plus – единственная система, сочетающая в себе классическую нанолитографическую рабочую станцию и возможности реализации разнообразных многоцелевых приложений без компромисса относительно самых передовых показателей производительности нанолитографа. Безотносительно расширенных возможностей, e_LiNE plus обеспечивает самое эффективное выполнение разработческих задач литографирования и сканирования пластин.