+7 (495) 909-89-53

Raith EBPG5150 / EBPG5200

EBPG5150Split Ring ResonatorsS-3-Applikation-6S-3-Applikation-3S-3-Applikation-2S-3-Applikation-1GASa Tgater device

Установки электронно-лучевой литографии серии Raith EBPG5150 / EBPG 5200 производства RAITH (Германия) – высокопроизводительные электронно-лучевой литографы, рассчитанные на работу с пластинами до 150 и до 200 мм.

EBPG – это установки мирового стандарта качества, которая зарекомендовала себя и является предпочтительным выбором заказчиков как в серийном производстве в микроэлектронике, так и в ведущих научно-исследовательских центрах компетенции университетского уровня.

Эволюционная технология EBPG представляет пользователям наиболее мощный и современный из существующих на рынке приборов нанолитографии гауссовым пучком. Высокие показатели спецификации и эффективность работы являются результатом многолетней эволюции серии EBPG и внедрения обратной связи пользователей для максимальной оптимизации технологии. Стабильность, высокая производительность и возможность апгрейда EBPG обеспечивают заказчику гарантию надежного инвестирования, готовность и передовую позицию в производстве сегодняшнего дня и разработке технологий будущего.

EBPG разработан в соответствие с многочисленными требованиями как различных задач прямой нанолитографии, так и особенностей изготовления высокоточных масок-фотошаблонов для нужд R&D.

Литограф EBPG5150

Оптимизирован для всех приложений нанолитографии, рассчитанных на площади вплоть до 155 х 155 мм. Система использует единый стандарт всех составных частей совместно с серией 5200 и обеспечивает такие же пространственное разрешение, автоматизацию и производительность. EBPG5150 позволяет работать с широким диапазоном размеров образца – как с частями пластин, так и с пластинами вплоть до 6”. Система обеспечена такой же стратегией апгрейдов, как и в случае EBPG5200, предоставляя скорость паттерн-генератора 100 МГц, увеличенный размер поля экспонирования и скорости стола, больший шлюзовой загрузчик образца. Все это дает заказчикам, как академической сферы, так и сферы индустрии, возможность работы с наиболее современной автоматизированной системой электронно-лучевой литографии.

Литограф EBPG5200

Высокопроизводительная система нанолитографии на площадях до 200 мм. Будучи самой быстрой системой в своем классе приборов, EBPG5200 обладает скоростью паттерн-генератора до 100 МГц, полной автоматизацией работы системы, высоким пространственным разрешением в литографии на больших полях экспонирования и малым занимаемым пространством чистых комнат. EBPG5200 является наилучшим выбором для достижения самых передовых результатов в нанолитографии и изготовлении фотошаблонов для R&D.

В сфере индустрии, EBPG – ключевая технология, которая открывает возможность производства современных оптоэлектронных и транзисторных структур на полупроводниках типа А3Б5. Множество систем EBPG применяются заказчиками в режиме 24/7, где основным безусловным требованием является высокая степень стабильности и воспроизводимости результатов. EBPG5200 обеспечивает минимальный размер структур <10 нм даже в большом поле экспонирования до 1 мм. Позволяя работать на площадях до 200 мм и предоставляя возможность точной подвижки по Z (Z-lift, опционально), EBPG5200 обеспечивает как легкость работы с образцами малого размера, так и готовность к применениям будущего в 3D. 

Особенности

  • Работа на подложках до 155х155 и до 200х200 мм соответственно.
  • Колонна 100 кэВ
  • Автоматическая калибровка системы  

  • Установки электронной оптики 

  • Осевой и внеосевой фокус

  • Коррекция астигматизма 

  • Коррекции дисторсии поля 

  • Высокий зондовый ток (>200 нА) 
  • Высокая скорость дефлекторов (100 МГц) 
  • Большое единичное поле экспонирования (до 1 мм) 
  • Высокая скорость стола 
  • Минимизированное время простоя паттерн-генератора (overhead) 
  • Оптимизированные стратегии экспонирования 
  • Работа системы в полностью автоматическом режиме, без оператора 
  • Многопользовательский интерфейс 
  • Высокая точность сшивки полей и наложения полей 
  • Высокое пространственное разрешение получаемых структур 
  • Различные варианты держателей образцов как малого размера, так и стандартных пластин 
  • Полностью автоматическое экспонирование пластин 
  • Полностью автоматический загрузчик на 10 держателей 
  • Детальное обучение, консультации по применениям, сервисная поддержка в течение всего жизненного цикла прибора
  • Высокое ускоряющее напряжение для наноструктур с большим аспектным соотношением 
  • Высокая скорость прямого экспонирования (direct write) 
  • Серийное производство, напр., в сфере сложных полупроводниковых структур и приборов 
  • Оптические структуры для элементов защиты от подделок 
Скачать брошюру продуктов RAITH в PDF

Характеристики

Лазерный интерферометрический стол и точность сшивки/наложения - Перемещение 210х210 мм EBPG5200 (экспонирование пластин до 8”, фотошаблонов до 7”) 
- Перемещение 155х155 мм EBPG5150 (экспонирование пластин до 6”) 
- Точность сшивки полей и наложения полей вплоть до <10 нм  
Стандартное единичное поле экспонирования  100 - 524 мкм  
Электронно-оптическая колонна - Колонна с катодом Шоттки - 100 кэВ 
- Работа колонны на 20 кВ, 50 кВ и 100 кВ 
- Полностью автоматический контроль колонны 
- Стабильность тока пучка: дрейф <0,5% / 1 час
Стандартный загрузчик держателей образцов Автоматический, на 2 держателя 
Режимы и характеристики - Графический пользовательский интерфейс 
- Экспонирование в режиме step&repeat с оптимизированной траекторией и минимизированной установкой (settling) стола 
- Разрешение 20 бит по полю экспонирования
Минимальный размер получаемой структуры/линии  < 8 нм
Стандартный паттерн-генератор 50 МГц 

Опции

- 100 МГц 
- единичное поле экспонирования до 1 мм 
- автоматический загрузчик на 10 держателей 
- увеличенная скорость стола 
- автоматическая смена апертур 
- Z-lift до 10 мм для серии 5200
 

Запросить предложение можно по ссылке или направив нам письмо по адресу info@minateh.ru

Новости

Все новости

МИНАТЕХ начинает сотрудничество с немецким специалистом по метрологии SURAGUS

Подробнее

Новая установка безмасковой лазерной литографии DWL 66+

Подробнее

МИНАТЕХ начинает сотрудничество с немецкой компанией Accurion GmbH

Подробнее

Процесс совмещения на установках MLA от HIMT

Подробнее

Новый компактный 3D профилометр-конфокальный микроскоп S lynx от SENSOFAR

Подробнее

SENTECH анонсировал новую серию спектроскопических эллипсометров SENresearch 4.0.

Подробнее