VOYAGER производства RAITH (Германия) – это новый прибор класса высокопроизводительных электронно-лучевых литографов, построенный на инновационной технологии Raith eWrite.
Работа на подложках до 200 мм.
Рекомендован в областях, связанных как с серийным производством, так и с научно-исследовательскими работами, где требуется высокая производительность и максимум пространственного разрешения. Инновационная архитектура и высокие показатели спецификации разработаны для получения точных результатов при высокой скорости экспонирования и при весьма низкой стоимости владения прибором. VOYAGER, таким образом, снижает барьер для доступа в сферу профессиональной, ориентированной на высокую производительность электронно-лучевой литографии.
VOYAGER – первая система, в которой реализована новая технология Raith eWrite. eWrite объединяет в себе специализированную «выделенную» архитектуру электронно-лучевой колонны и паттерн-генератора, позволяющую осуществлять автоматизацию калибровок системы и высокую скорость при серийном производстве.
Концепцию VOYAGER подчеркивает:
- инновационная архитектура системы
- сниженные требования к условиям эксплуатации в помещении и малое занимаемое пространство
- производительность экспонирования более 1 см2/час
- невысокая стоимость владения
VOYAGER разработан для обеспечения высокой скорости экспонирования с автоматизированной системой калибровки «на лету» при сохранении максимальной точности и разрешения. Это обеспечивает быстрый поток образцов от проектирования до выгрузки готового образца. Интегрированное программное обеспечение Raith NANOSUITE является интуитивно понятной платформой и предоставляет даже новым пользователям полноценный контроль всего процесса ЭЛЛ.
VOYAGER позволяет осуществлять литографирование как на образцах малых площадей, так и работу на пластинах размером вплоть до 8 дюймов.
Архитектура VOYAGER была построена в соответствие с важными требованиями пользователей к производительности и на основе обратной связи заказчиков Raith. Благодаря smart-интеграции в окружающую среду, защитный кожух VOYAGER делает возможным работу в широком диапазоне вариации температуры окружающей среды лабораторных помещений и уровня шума. Экспонирование можно проводить с ультра-высоким, суб-10 нм разрешением при работе на пластинах вплоть до 8 дюймов. В добавок к функционалу ЭЛЛ, VOYAGER обладает режим РЭМ-изображения с высоким разрешением и разнообразными функциями метрологии и инспекции результатов.
VOYAGER предоставляет инновации как в архитектуре системы, так и в реализации приложений. Инновационные стратегии экспонирования, такие как режимы сшивки с нулевой ошибкой (traxx и periodixx) или FLEXposure (гибкие режимы направленного сканирования), самая современная электростатическая архитектура электронно-лучевой колонны и низко-шумная электроника дают отличные результаты и расширяют потенциал электронно-лучевой литографии. VOYAGER подготовлен к задачам ЭЛЛ будущего.
Скорость и высокая производительность
Электронная оптика обеспечивает ток пучка до 40 нА. Большое поле экспонирования, 500 мкм, снижает необходимость в частых перемещениях стола и большом количестве сшивок. Паттерн-генератор 50 МГц построен в соответствии с последними стандартами в области дизайна электроники. Его высокоэффективный поток данных полностью решает проблемы применения в фотонике и оптике, где требуется оперировать большим комплексным массивом данных. VOYAGER способен экспонировать 1 см2 комплексных данных растрового массива в оттенках серого менее чем 1 час!
• Интуитивно понятная оболочка Windows® 7
• Автоматическая фокусировка и настройка стигматора
• Преднастройки в один клик для высокого разрешения или высокой пропускной способности (например, элементы структур большого размера)
• Комплексная единая оболочка Raith NANOSUITE с GDS II CAD редактором
• Коррекция эффекта близости
• До 500 мкм поля экспонирования с динамическими коррекциями в реальном времени
• Самое современное поколение архитектуры электростатических дефлекторов
• Паттерн-генератор 50 МГц
• Более 1 см2 / ч (при 50% заполнении)
• Более 50 инженеров поддержки по всему миру
• Автоматическое переключение между режимами пропускной способности и высокого разрешения
Экономичная стоимость владения
• Защитный кожух экономит затраты на микроклимат в лабораторных помещениях в течение всего жизненного цикла прибора
• Компактность, чтобы сохранить дорогостоящее лабораторное пространство
• Загрузка образца через стенку (split-room setup) позволяет установку системы вне пространства дорогостоящих чистых комнат
• Встроенная функция визуализации с высоким разрешением, навигация по образцу
• Экономически выгодная замена катода вместо катодного узла (пушки) части колонны
• Гибкая схемы обслуживания и поддержки поможет сохранить стоимость владения низкой
Инновационные и уникальные методы экспонирования
Стандартный режим пошагового и повторяющегося экспонирования подразумевают ошибки сшивки полей и ошибки наложения полей. Этого можно полностью избежать, выбрав уникальные методы Raith непрерывного и бесшовного экспонирования traxx и periodixx, используя разработанную Raith технологию экспонирования лазерным интерферометрическим столиком при фиксированном луче (FBMS) и экспонирования лазерным интерферометрическим столиком при модулированном пучке (MBMS). Качество получаемых структур и устройств, особенно в оптических и оптоэлектронных применениях, таких как: решетки большой площади, френелевские линзы, волноводы или фотонные кристаллы, - может быть значительно улучшено.
Экспонирование сложных форм и сверхмалых наноструктур может требовать специфических стратегий для оптимальной точности и расположения рисунка. Режимы Raith FLEXposure направленного сканирования помогают оптимизировать и значительно улучшить воспроизводимость запроектированных форм, особенно в отношении к нанометровым величинам производственных допусков.
Основные применения
Лазерный интерферометрический стол и точность сшивки/наложения | - Перемещение 6 дюймов (работа на пластинах до 8 дюймов) - Точность сшивки полей и наложения полей <25 нм (среднее значение + 3 сигма) |
Стандартное единичное поле экспонирования | 500 мкм; Динамические коррекции в реальном времени |
Электронно-оптическая колонна | - Автоэмиссионный катод Шоттки - Электростатическая колонна - SE-ET детектор вторичных электронов - Детектор обратно-рассеянных электронов ASB (опция) - Стабильность позиции пучка <200 нм/8 час - Стабильность тока пучка: дрейф <0,5% / 1 час |
Энергия пучка | до 50 кэВ |
Зондовый ток | 50 пА – 40 нА |
Режимы и характеристики | - Адаптивные гибкие схемы распознавания маркеров выравнивания - Разрешение 18 бит на образце (20 бит опция) - Режимы FLEXposure, traxx (опция), periodixx (опция) - Коррекция эффекта близости - Литография в 3D (опция) |
Минимальный размер получаемой структуры/линии | < 10 нм |
Минимальный размер периода решетки |
< 40 нм |
Генератор развертки |
50 МГц |
Доп оборудование |
Программное обеспечение: Raith Nanosuite. Стандарт GDSII. Единый модуль дизайна CAD-объектов с привязкой к слоям, параметрам экспонирования, контролем позиционирования в системе координат образца, контролем колонны, скриптингом, макросами, автоматизацией, режимами “FLEXposure” и т.д., коррекцией эффекта близости, литографией в 3D.
|
e_LiNE plus (“Lithography and NanoEngineering”) производства RAITH (Германия) – это система «под ключ», которая объединяет в себе функционал передового электронно-лучевого литографа ультравысокого разрешения, расширенные возможности аналитического автоэмиссионного электронного микроскопа и инструменты рабочей станции для наноинжиниринга. e_LiNE plus предназначен для научных центров и центров коллективного пользования, специализирующихся на разработках и исследованиях в сфере физики, оптики, фотоники, микро, наноэлектроники и нанотехнологий.
С e_LiNE plus инновационные исследования получают доступ к кластерному научно-исследовательскому прибору с расширяемым потенциалом, объединяющим литографию, наноконструирование, изображение с ультра-высоким разрешением и микроанализ. e_LiNE plus – единственная система, сочетающая в себе классическую нанолитографическую рабочую станцию и возможности реализации разнообразных многоцелевых приложений без компромисса относительно самых передовых показателей производительности нанолитографа. Безотносительно расширенных возможностей, e_LiNE plus обеспечивает самое эффективное выполнение разработческих задач литографирования и сканирования пластин.
e_LiNE plus (“Lithography and NanoEngineering”) производства RAITH (Германия) – это система «под ключ», которая объединяет в себе функционал передового электронно-лучевого литографа ультравысокого разрешения, расширенные возможности аналитического автоэмиссионного электронного микроскопа и инструменты рабочей станции для наноинжиниринга. e_LiNE plus предназначен для научных центров и центров коллективного пользования, специализирующихся на разработках и исследованиях в сфере физики, оптики, фотоники, микро, наноэлектроники и нанотехнологий.
С e_LiNE plus инновационные исследования получают доступ к кластерному научно-исследовательскому прибору с расширяемым потенциалом, объединяющим литографию, наноконструирование, изображение с ультра-высоким разрешением и микроанализ. e_LiNE plus – единственная система, сочетающая в себе классическую нанолитографическую рабочую станцию и возможности реализации разнообразных многоцелевых приложений без компромисса относительно самых передовых показателей производительности нанолитографа. Безотносительно расширенных возможностей, e_LiNE plus обеспечивает самое эффективное выполнение разработческих задач литографирования и сканирования пластин.
RAITH150-TWO производства RAITH (Германия) – это электронно-лучевой литограф ультравысокого разрешения, рассчитанный на работу с пластинами и масками вплоть до 7-8 дюймов, который предназначен для центров коллективного пользования и опытно конструкторских отделов предприятий, работающих в области нанотехнологий.
RAITH150-TWO является нанотехнологическим инструментом новейшего поколения и создан специально, чтобы отвечать современной динамике требований в нанотехнологиях. RAITH150-TWO позволяет объединить научные исследования, разработку устройств и мелкосерийное производство в условиях комплексной автоматизации, максимальной воспроизводимости результатов, максимальной скорости работы и расширенного функционала. Простота в обращении, низкая стоимость эксплуатационных затрат, умеренные требования к условиям помещения и небольшой размер занимаемой площади делают RAITH150-TWO производительным и высокоэффективным оборудованием для электронно-лучевой литографии, навигации по пластинам и сканирования чипов с высоким разрешением.
RAITH150-TWO – это мост между научными исследованиями, разработками и мелкосерийным производством.
RAITH150-TWO производства RAITH (Германия) – это электронно-лучевой литограф ультравысокого разрешения, рассчитанный на работу с пластинами и масками вплоть до 7-8 дюймов, который предназначен для центров коллективного пользования и опытно конструкторских отделов предприятий, работающих в области нанотехнологий.
RAITH150-TWO является нанотехнологическим инструментом новейшего поколения и создан специально, чтобы отвечать современной динамике требований в нанотехнологиях. RAITH150-TWO позволяет объединить научные исследования, разработку устройств и мелкосерийное производство в условиях комплексной автоматизации, максимальной воспроизводимости результатов, максимальной скорости работы и расширенного функционала. Простота в обращении, низкая стоимость эксплуатационных затрат, умеренные требования к условиям помещения и небольшой размер занимаемой площади делают RAITH150-TWO производительным и высокоэффективным оборудованием для электронно-лучевой литографии, навигации по пластинам и сканирования чипов с высоким разрешением.
RAITH150-TWO – это мост между научными исследованиями, разработками и мелкосерийным производством.
Установки электронно-лучевой литографии серии Raith EBPG5150 / EBPG 5200 производства RAITH (Германия) – высокопроизводительные электронно-лучевой литографы, рассчитанные на работу с пластинами до 150 и до 200 мм
EBPG – это установки мирового стандарта качества, которая зарекомендовала себя и является предпочтительным выбором заказчиков как в серийном производстве в микроэлектронике, так и в ведущих научно-исследовательских центрах компетенции университетского уровня.
Эволюционная технология EBPG представляет пользователям наиболее мощный и современный из существующих на рынке приборов нанолитографии гауссовым пучком. Высокие показатели спецификации и эффективность работы являются результатом многолетней эволюции серии EBPG и внедрения обратной связи пользователей для максимальной оптимизации технологии. Стабильность, высокая производительность и возможность апгрейда EBPG обеспечивают заказчику гарантию надежного инвестирования, готовность и передовую позицию в производстве сегодняшнего дня и разработке технологий будущего.
Установки электронно-лучевой литографии серии Raith EBPG5150 / EBPG 5200 производства RAITH (Германия) – высокопроизводительные электронно-лучевой литографы, рассчитанные на работу с пластинами до 150 и до 200 мм
EBPG – это установки мирового стандарта качества, которая зарекомендовала себя и является предпочтительным выбором заказчиков как в серийном производстве в микроэлектронике, так и в ведущих научно-исследовательских центрах компетенции университетского уровня.
Эволюционная технология EBPG представляет пользователям наиболее мощный и современный из существующих на рынке приборов нанолитографии гауссовым пучком. Высокие показатели спецификации и эффективность работы являются результатом многолетней эволюции серии EBPG и внедрения обратной связи пользователей для максимальной оптимизации технологии. Стабильность, высокая производительность и возможность апгрейда EBPG обеспечивают заказчику гарантию надежного инвестирования, готовность и передовую позицию в производстве сегодняшнего дня и разработке технологий будущего.