+7 (495) 909-89-53

Установка безмаскового совмещения и экспонирования MLA150

mla150_application_1mla150_application_5mla150_application_4mla150_application_3mla150_application_2

Установка безмаскового совмещения и экспонирования модели MLA150 производства Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH (Германия).
Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH (Германия) представила новую линейку установок для безмаскового совмещения и экспонирования (MLA - Maskless Aligners).









MLA150 специально разработан для удобства эксплуатации и включает в себя все ноу-хау в безмасковой литографии, которые компания собрала за последние 30 лет. Литограф MLA150 предлагает все возможности, необходимые для однослойных и многослойных применений.

Установку  MLA150 отличает от других генераторов шаблонов не только удобство, но и экстремальная скорость экспонирования. Экспонирование области 100x100 мм² с размером структур 1 микрон займет менее 10 минут - независимо от коэффициента заполнения или количество структур в этой области. Совмещение в многослойных применениях достигается в течение 2 минут с помощью трех интегрированных камер с различным разрешением. Точность совмещения от слоя к слою лучше чем 500 нм (0,5 мкм) и не зависит от уровня оператора. 
Экспонирование по фоторезсту или фотоэмульсии.

Применение установки MLA150: медицина. MEMS, микрооптика, Полупроводники, сенсоры, датчики, MOEMS, исследование материалов, нанотрубки, графены и др.

Система может быть оснащена либо диодным лазером, работающим на длине волны 405 нм с мощностью 8 Вт, либо UV диодным лазером, работающим на длине волны 375 нм с мощностью 2,8 Вт. Можно установить оба лазера для работы как со стандартными резистами, так и с негативными резистами, в том числе с SU8.
Лазеры устанавливаются и используются в зависимости от применения.

Опции: обратное совмещения (BSA - back side alignment).

Особенности

  • Минимальный топологически размер 1,0 мкм.

  • Размер шаблонов или пластин до 9 х 9 дюймов.

  • Минимальный размер подложки: 5 х 5 мм2
  • Область экспонирования до 150 х 150 мм. или до Ø150 мм (до 200 x 200 мм - опционально)

  • Точность совмещения (100x100 мм² [3sigma, нм]) -  500 нм. (0,5 микрон)

  • Камера для предварительно совмещения и макро и микрокамера для точного совмещения
  • Время экспонирования области 100х100 мм² - 9 минут.

  • Время экспонирования области 150х150 мм² - 15 минут.
  • Совмещение по нижней стороне (BSA) - опция
  • Серая шкала (Grey Scale) - опция
  • Источники излучения: диодный лазер, 405 нм, 8 Вт, 10000 часов, UV диодный лазер, 375 нм, 2,8 Вт, 10000 часов (для стандартных и УФ-резистов таких как SU8). Возможность поставить оба лазера на установку.

  • Погрешность позиционирования подложки: 20 нм;
  • Работа с дизайнами форматов DXF, CIF, GDSII, Gerber
  • Габаритные размеры: 1300 х 1300 х 1950 мм, вес: 1000 кг;
Скачать брошюру MLA150 в PDF
Применение MLA150 в PDF 

Характеристики

Источник засвеки для экспонирования 405 нм 375 нм 
Минимальный размер элемента топологии для диодного лазера (405 нм) и UV диодного лазера (375 нм), мкм 1,0  1,0
Время экспонирования области 50х50 мм2, мин 4 10
Время экспонирования области 100х100 мм2, мин 9 32
Время экспонирования области 150х150 мм2, мин 16 65
Равномерность ширины линии (3σ), нм 120 120
Точность совмещения для 100х100 мм2 , (3σ), нм 500 500
Область письма (экспонирования), мм 150 х 150 или до Ø150 
(до 200х200 - опция)
150 х 150 или до Ø150 
(до 200х200 - опция)

Видеопрезентация установки MLA



Процесс совмещения на установках MLA



Запросить предложение можно по ссылке или направив нам письмо по адресу info@minateh.ru

Новости

Все новости

Международная выставка испытательного и контрольно-измерительного оборудования Testing & Control

Подробнее

МИНАТЕХ начинает сотрудничество с немецким специалистом по метрологии SURAGUS

Подробнее

Новая установка безмасковой лазерной литографии DWL 66+

Подробнее

МИНАТЕХ начинает сотрудничество с немецкой компанией Accurion GmbH

Подробнее

Процесс совмещения на установках MLA от HIMT

Подробнее

Новый компактный 3D профилометр-конфокальный микроскоп S lynx от SENSOFAR

Подробнее

SENTECH анонсировал новую серию спектроскопических эллипсометров SENresearch 4.0.

Подробнее