Настольная модель mPG 101 лазерной безмасковой литографии производства Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH (Германия).
Установка предназначена для решения задач, не требующих высокой производительности - лабораторные исследования, НИОКР, опытное производство и др.
Лазерный генератор изображения Heidelberg mPG 101 является компактным бюджетным решением для лабораторий и мелкосерийных производств. Несмотря на свою компактность, установка справляется со всеми теми же задачами, что выполняют более крупные модели генераторов. Установка может использоваться для производства фотошаблонов, а также для получения топологических структур на прочих пластинах с фоторезистом или фотоэмульсией при производстве интегральных схем, гибридных интегральных схем, а также для формирования структур на пластине, при производстве МЭМС, БиоМЭМС, интегрированной оптики, формирование структур на фотоэмульсии (ВРП-6).
Для обеспечения высокоточного перемещения лазерного луча генератор оборудован специальной оптической системой и системой позиционирования подложки.
Для обеспечения наилучшей разрешающей способности генератор оборудован системой автофокусировки с подстройкой пьезомодулем и системой модуляции луча с помощью акустооптического модулятора.
Для перемещения подложки в горизонтальной плоскости есть специальная система позиционирования.
В базовой комплектации система оснащена диодным лазером, работающим на длине волны 405 нм, 120 мВт. В зависимости от технических требований заказчика установка может быть оснащена УФ диодным лазерным источником (375 нм, 70 мВт).
Установку можно оснастить сменными пишущими линзами с минимальным размером элемента 5 микрон, 2,5 микрона и 0,9 микрон и 0,6 микрон (по выбору). Пишущие головки сменные и могут меняться оператором при смене процесса.
Опции: оптический автофокус, режим вектороного экспонирования, базовый режим экспонирования в градации серого (3D экспонирование).
Сменные пишущие линзы (головы) на 0,6 мкм, 1,0 мкм, 2,5 мкм и 5,0 мкм.
Источники излучения: Диодный лазер — 405 нм, 120 мВт, 8000 часов, воздушное охлаждение (для тонких и стандартных резистов) или УФ-диодный лазер (по заказу) — 375 нм, 70 мВт, 7000 часов, воздушное охлаждение (для УФ-резистов).
Размер обрабатываемых подложек и пластин до 6 х 6 дюймов;
Толщина подложки до 6 мм;
Точная фокусировка луча до 100 нм;
| Режим работы | I | II | III | IV |
| Размер адресной сетки, нм | 20 | 40 | 100 | 200 |
| Минимальный размер элемента, мкм | 0,6 | 1,0 | 2,5 | 5,0 |
| Скорость экспонирования (рисования), мм2/мин | 1 | 5 | 35 | 90 |
| Однородность ширины линии (3σ), нм | 150 | 200 | 400 | 800 |
| Неровность края (3σ), нм | 100 | 120 | 200 | 400 |
| Точность совмещения (3σ), нм | 200 | 200 | 400 | 800 |
| Область письма (экспонирования), мм2 | 50 x 50 | 100 x 100 | 125 x 125 | 125 x 125 |
Обновленные установки безмасковой лазерной литографии (генератор изображения) модели VPG+ 200 / VPG+ 400 производства Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH (Германия).
VPG+ - High Speed Pattern Generators. Установки для серийного производства.
Теперь установки VPG+ стали в почти 3 раза быстрее чем предудущая сери установок VPG.
Предназначены для задач производств крупных серий. Формирования топологических структур на металлизированных фотошаблонах при производстве интегральных схем, гибридных интегральных схем, а также для формирования структур на пластине, при производстве МЭМС, БиоМЭМС, интегрированной оптики.
Минимальый топологический размер 0,75 мкм.
Сменные пишущие головки на 0,75 мкм, 1,0 мкм, 2,0 мкм, 4,0 мкм.
Скорость письма от 970 до 13500 мм2/мин в зависимости от выбора пишущей линзы и модели.
Размер шаблонов или пластин до 9 х 9 дюймов и 17 х 17 дюймов (для VPG+ 200/VPG+ 400)
Область экспонирования до 200 х 200 мм2 и 400 х 400 мм2 (для VPG+ 200/VPG+ 400)
Растровое (бинарное) экспонирование, оптический автофокус в дополнение с пневматическому.
Обновленные установки безмасковой лазерной литографии (генератор изображения) модели VPG+ 200 / VPG+ 400 производства Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH (Германия).
VPG+ - High Speed Pattern Generators. Установки для серийного производства.
Теперь установки VPG+ стали в почти 3 раза быстрее чем предудущая сери установок VPG.
Предназначены для задач производств крупных серий. Формирования топологических структур на металлизированных фотошаблонах при производстве интегральных схем, гибридных интегральных схем, а также для формирования структур на пластине, при производстве МЭМС, БиоМЭМС, интегрированной оптики.
Минимальый топологический размер 0,75 мкм.
Сменные пишущие головки на 0,75 мкм, 1,0 мкм, 2,0 мкм, 4,0 мкм.
Скорость письма от 970 до 13500 мм2/мин в зависимости от выбора пишущей линзы и модели.
Размер шаблонов или пластин до 9 х 9 дюймов и 17 х 17 дюймов (для VPG+ 200/VPG+ 400)
Область экспонирования до 200 х 200 мм2 и 400 х 400 мм2 (для VPG+ 200/VPG+ 400)
Растровое (бинарное) экспонирование, оптический автофокус в дополнение с пневматическому.
Установки безмасковой лазерной литографии высокого разрешения (генератор изображения) модели DWL 2000 / DWL 4000 производства Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH (Германия).
Предназначена для задач производств крупных серий. Формирования топологических структур на металлизированных фотошаблонах при производстве интегральных схем, гибридных интегральных схем, а также для формирования структур на пластине, при производстве МЭМС, БиоМЭМС, интегрированной оптики и др.
Минимальый топологический размер 0,5 мкм.
Сменные пишущие головки на 0,5 мкм, 0,7 мкм, 0,8 мкм, 1,3 мкм.
Скорость письма от 29 до 340 мм2/мин в зависимости от выбора пишущей линзы.
Размер шаблонов или пластин до 9 х 9 дюймов и 17 х 17 дюймов (для DWL 2000/DWL 4000)
Область экспонирования до 200 х 200 мм2 и 400 х 400 мм2 (для DWL 2000/DWL 4000)
Растровое (бинарное) экспонирование, векторное экспонирование (Vector Exposure Mode) и 3D экспонирование для режима полутоновой шкалы экспонирования (Advanced and Professional Gray Scale Exposure Mode), оптический автофокус в дополнение с пневматическому.
Установки безмасковой лазерной литографии высокого разрешения (генератор изображения) модели DWL 2000 / DWL 4000 производства Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH (Германия).
Предназначена для задач производств крупных серий. Формирования топологических структур на металлизированных фотошаблонах при производстве интегральных схем, гибридных интегральных схем, а также для формирования структур на пластине, при производстве МЭМС, БиоМЭМС, интегрированной оптики и др.
Минимальый топологический размер 0,5 мкм.
Сменные пишущие головки на 0,5 мкм, 0,7 мкм, 0,8 мкм, 1,3 мкм.
Скорость письма от 29 до 340 мм2/мин в зависимости от выбора пишущей линзы.
Размер шаблонов или пластин до 9 х 9 дюймов и 17 х 17 дюймов (для DWL 2000/DWL 4000)
Область экспонирования до 200 х 200 мм2 и 400 х 400 мм2 (для DWL 2000/DWL 4000)
Растровое (бинарное) экспонирование, векторное экспонирование (Vector Exposure Mode) и 3D экспонирование для режима полутоновой шкалы экспонирования (Advanced and Professional Gray Scale Exposure Mode), оптический автофокус в дополнение с пневматическому.
Ультраточная установка безмасковой лазерной литографии (генератор изображения) модели ULTRA производства Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH (Германия).
Ультраточная установка безмасковой лазерной литографии (генератор изображения) модели ULTRA предназначена для производства фотошаблонов или прямого экспонирования на пластине с очень высокой точностью. Формирования топологических структур на металлизированных фотошаблонах при производстве интегральных схем, гибридных интегральных схем, а также для формирования структур на пластине, при производстве МЭМС, БиоМЭМС, интегрированной оптики и др.
Экспонирование по фоторезсту.
Минимальый топологический размер до 0,5 мкм.
Шероховатость линии - 20 нм
Точность освмещения второго слоя - 100 нм.
Скорость письма до 580 мм2/мин в зависимости от режима
Размер шаблонов или пластин до 9 х 9 дюймов (опционально 17 х 17 дюймов)
Область экспонирования до 228 х 228 мм (опционально 400 х 400 мм)
Толщина подложки до 9 мм.
Автоматический загрузчик фотошаблонов
SECS / GEM protocol
Ультраточная установка безмасковой лазерной литографии (генератор изображения) модели ULTRA производства Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH (Германия).
Ультраточная установка безмасковой лазерной литографии (генератор изображения) модели ULTRA предназначена для производства фотошаблонов или прямого экспонирования на пластине с очень высокой точностью. Формирования топологических структур на металлизированных фотошаблонах при производстве интегральных схем, гибридных интегральных схем, а также для формирования структур на пластине, при производстве МЭМС, БиоМЭМС, интегрированной оптики и др.
Экспонирование по фоторезсту.
Минимальый топологический размер до 0,5 мкм.
Шероховатость линии - 20 нм
Точность освмещения второго слоя - 100 нм.
Скорость письма до 580 мм2/мин в зависимости от режима
Размер шаблонов или пластин до 9 х 9 дюймов (опционально 17 х 17 дюймов)
Область экспонирования до 228 х 228 мм (опционально 400 х 400 мм)
Толщина подложки до 9 мм.
Автоматический загрузчик фотошаблонов
SECS / GEM protocol
ООО "Минатех"— Микро и нано технологии
Статьи
© Все права защищены
Россия, Москва, ул. Ткацкая, д.5с1.
тел./факс: +7 (495) 909-89-53 / +7 (495) 909-89-54
моб.тел.: +7 (926) 134-69-15
e-mail: info@minateh.ru
