+7 (495) 909-89-53

Установка безмасковой лазерной литографии DWL 2000/ DWL 4000

dwl2000_application 3dwl2000_application 2dwl2000_application 1

Установки безмасковой лазерной литографии (генератор изображения) модели DWL 2000 / DWL 4000 производства Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH (Германия).

Высокопроизводительные лазерные устновки лазерной литографи (генераторы изображения) DWL DWL 2000 и DWL 4000 предназначены для задач производств крупных серий для ормирования топологических структур на металлизированных фотошаблонах при производстве интегральных схем, гибридных интегральных схем, а также для формирования структур на пластине, при производстве МЭМС, БиоМЭМС, интегрированной оптики и др.

Для обеспечения высокоточного перемещения подложки генератор оборудован специальной оптической системой и системой позиционирования подложки. Во время экспонирования положение координатного столика контролируется с помощью интерферометрической системы высокого разрешения. Оптическая ситема смонтрована на тяжелом гранитном основании.

Камера микроклимата, с помощью которой подверживется стабильная температура в камере литографа для достижения наилучшх результатов, точности и стабильности параметров. 

Для обеспечения наилучшей разрешающей способности генератор оборудован системой автофокусировки с подстройкой пьезомодулем и системой модуляции луча с помощью акусто-оптического модулятора.

В базовой комплектации система оснащена диодным лазером, работающим на длине волны 405 нм, (100 мВт или больше по запросу). В зависимости от технических требований заказчика установка может быть оснащена различными лазерными системами: Kr-ion (413 нм, 300 мВт) или UV (375 нм, 18 мВт).

Генератор может быть снабжён автоматической системой загрузки пластин (из кассеты в кассету), возможна загрузка пластин диаметром 200 мм или размером 178 х 178 мм.

Установку можно оснастить сменными пишущими линзами с минимальным размером элемента 0,5 мкм, 0,7 мкм и 0,8 мкм и 1,3 мкм соответствено (по выбору). Пишущие головки сменные и могут меняться оператором при смене процесса.

Опции: оптический автофокус (дополнительно к пневматческой системе автофокусировки), режим вектороного экспонирования, продвинутый или профессиональный режим 3D экспонирование для полутоновой шкалы экспонирования (Advanced and Professional Gray Scale Exposure Mode).

Особенности

  • Сменные пишущие линзы (головы) на 0,5 мкм, 0,7 мкм, 0,8 мкм, 1,3 мкм.

  • Источники излучения: Диодный лазер — 405 нм, 100 мВт, 5000 часов, воздушное охлаждение (для тонких и стандартных резистов),   Kr-ion (413 нм, 300 мВт) или UV лазер (375 нм, 18 мВт) для УФ резистов

  • Размер обрабатываемых подложек и пластин до 9 х 9 и 17 х 17 дюймов

  • Размер поля экспонирования до 200 х 200 мм2 и 400 х 400 мм2 (минимум 5х5 мм)
  • Толщина подложки до 6 мм

  • Рамер адесной сетки от 5 нм
  • Работа с дизайнами форматов DXF, CIF, GDSII, Gerber
  • Скорость письма (экспонировния) от 6 до 1000 мм2/мин в зависимости от выбора пишущей линзы.
  • Погрешность позиционирования подложки: 10 нм;
Скачать брошюру в PDF

Характеристики

Режим работы I II III IV
Размер адресной сетки, нм   5    10   12,5   25 
Минимальный размер элекмента, мкм 0,5 0,7 0,8 1,3
Скорость экспонирования с диодным лазером (рисования), мм2/мин 29 110 - -
Скорость экспонирования с Kr-ion (рисования), мм2/мин 29 110 170 340
Неровность края (3σ), нм 40 50 60 80
Равномерность линии (3σ), нм 60 80 90 120

Точность совмещения (3σ), нм (Overlay accuracy (3σ), nm)

160 200 225 350

Alignment measurement accuracy (3σ), нм

60 70 90 140

Запросить предложение можно по ссылке или направив нам письмо по адресу info@minateh.ru

Новости

Все новости

Международная выставка испытательного и контрольно-измерительного оборудования Testing & Control

Подробнее

МИНАТЕХ начинает сотрудничество с немецким специалистом по метрологии SURAGUS

Подробнее

Новая установка безмасковой лазерной литографии DWL 66+

Подробнее

МИНАТЕХ начинает сотрудничество с немецкой компанией Accurion GmbH

Подробнее

Процесс совмещения на установках MLA от HIMT

Подробнее

Новый компактный 3D профилометр-конфокальный микроскоп S lynx от SENSOFAR

Подробнее

SENTECH анонсировал новую серию спектроскопических эллипсометров SENresearch 4.0.

Подробнее