+7 (495) 909-89-53

Установка плазменной очистки Nano

Установка плазменной очистки низкого давления модели Nano Nano_2Nano_3Nano_4Nano_5Nano_6pcce_main_encontrol_pc.gif

Установка плазменной очистки низкого давления модели Nano производства Diener electronic (Германия).

Применение: очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы), создание гидрофобных и гидрофильных покрытий, карбонизация, снятие и подчистка фоторезста

Примеры применения по отраслям...

  • мелкосерийное производство
  • аналитика (SEM, TEM)
  • медицина
  • стерилизация
  • исследования
  • археология
  • обработка текстиля
  • полупроводники
  • обработка пластиков

Особенности

  • Камера: цилиндрическая или прямоугольная, около 18 литров

  • Вакуумный насос на выбор

  • Датчик давления Pirani (опция)
  • Ганератор 40 кГц, до 1000 Вт или 13,56 МГц, до 300 Вт или 2,45 ГГц, до 600 Вт.

  • Управление: ручное или автоматическое (PLC или PC)

  • Газовые линии - до 3 шт. (игольчатые глапана или MFC)

Скачать брошюру Nano в PDF

Характеристики

Тип установки плазма низкого давления
Вакуумная камера цилиндрическая, около 18 литров: Ø 240 мм, глубина 400 мм
прямоугольная, около 24 литров: 240 х 240 х 420 мм
Материал камеры Боросиликатное стекло или кварцевое стекло или нержавеющая сталь
Подвод газа до 3-х газовых линий с игольчатым клапанов или MFC
Генератор плазмы 40 кГц, до 1000 Вт
13,56 МГц, до 300 Вт
2,45 ГГц, до 600 Вт
Контроль Ручной 
PCCE-Control (Microsoft Windows CE) - PLC
PC-Control (Microsoft Windows XPe) - PC
Производительность вакуумного насоса сухой насос или лопастной по выбору
Подключение 220 В, 50 Гц или 400В, 3 фазы (в зависимости от конфигурации)

Видеопрезентация установки Nano


Видеопрезентация фирмы Diener



Запросить предложение можно по ссылке или направив нам письмо по адресу info@minateh.ru

Запросить предложение товара

Установка плазменной очистки Nano

Также Вас может заинтересовать
Установка плазменной очистки и травления CIONE 4 (PE/RIE) от Femto Science (Корея)

Установка плазменной очистки низкого давления модели CIONE 4 производства FEMTO SCIENCE (Ю. Корея) с двумя режимами плазменной обработки - RIE & PE

Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, прецизионное травление тонких слоев (мелкосерийные процессы), травление 2D материаллов

Process Mode: Mode: PE (Plasma Etching) & RIE (Reactive Ion Etching) Mode with dual electrode
Камера: прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 140 x 200 x 110 (мм)
Вакуумный насос, ~ 5 x 10-4 Torr 
Ганератор: 20-100 кГц (шаг 10 кГц), мощность до 100 Вт.
Управление: ручное или автоматическое (PLC)
Газовые линии - до 3 шт (MFC)

Установка плазменной очистки низкого давления модели CIONE 4 производства FEMTO SCIENCE (Ю. Корея) с двумя режимами плазменной обработки - RIE & PE

Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, прецизионное травление тонких слоев (мелкосерийные процессы), травление 2D материаллов

Process Mode: Mode: PE (Plasma Etching) & RIE (Reactive Ion Etching) Mode with dual electrode
Камера: прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 140 x 200 x 110 (мм)
Вакуумный насос, ~ 5 x 10-4 Torr 
Ганератор: 20-100 кГц (шаг 10 кГц), мощность до 100 Вт.
Управление: ручное или автоматическое (PLC)
Газовые линии - до 3 шт (MFC)

Установка плазменной очистки и травления CIONE 6 (PE/RIE) от Femto Science (Корея)

Установка плазменной очистки низкого давления модели CIONE 6 производства FEMTO SCIENCE (Ю. Корея) с двумя режимами плазменной обработки - RIE & PE

Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, прецизионное травление тонких слоев (мелкосерийные процессы), травление 2D материаллов

Process Mode: Mode: PE (Plasma Etching) & RIE (Reactive Ion Etching) Mode with dual electrode
Камера: прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 200 x 220 x 160 (мм)
Вакуумный насос, ~ 5 x 10-4 Torr 
Ганератор: 20-100 кГц (шаг 10 кГц), мощность до 300 Вт. или 13,56 МГц, 300 Вт.
Управление: ручное или автоматическое (PLC)
Газовые линии - до 4 шт (MFC)

Установка плазменной очистки низкого давления модели CIONE 6 производства FEMTO SCIENCE (Ю. Корея) с двумя режимами плазменной обработки - RIE & PE

Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, прецизионное травление тонких слоев (мелкосерийные процессы), травление 2D материаллов

Process Mode: Mode: PE (Plasma Etching) & RIE (Reactive Ion Etching) Mode with dual electrode
Камера: прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 200 x 220 x 160 (мм)
Вакуумный насос, ~ 5 x 10-4 Torr 
Ганератор: 20-100 кГц (шаг 10 кГц), мощность до 300 Вт. или 13,56 МГц, 300 Вт.
Управление: ручное или автоматическое (PLC)
Газовые линии - до 4 шт (MFC)

Установка плазменной очистки CUTE от Femto Science (Корея)

Установка плазменной очистки низкого давления модели CUTE производства FEMTO SCIENCE (Ю. Корея)

Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы)

Process Mode: PE
Камера: прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 140 x 200 x 110 (мм)
Вакуумный насос, ~ 5 x 10-4 Torr 
Ганератор: 20-100 кГц (шаг 10 кГц), мощность до 100 Вт.
Управление: ручное или автоматическое (PLC)
Газовые линии - до 3 шт (MFC)

Установка плазменной очистки низкого давления модели CUTE производства FEMTO SCIENCE (Ю. Корея)

Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы)

Process Mode: PE
Камера: прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 140 x 200 x 110 (мм)
Вакуумный насос, ~ 5 x 10-4 Torr 
Ганератор: 20-100 кГц (шаг 10 кГц), мощность до 100 Вт.
Управление: ручное или автоматическое (PLC)
Газовые линии - до 3 шт (MFC)

Уже установлено в России и СНГ: 1 шт