+7 (495) 909-89-53

Установка осаждения диэлектриков Depolab 200 (PECVD)

SI 500 PPD PECVD

Установки плазменного осаждения диэлектриков Depolab 200 производства SENTECH Instruments GmbH (Германия) без вакуумного загрузочного шлюза.

Система осаждения диэлектриков Depolab 200 (PECVD) производства SENTECH Instruments GmbH предназначен для использования в НИОКР для реализации процессов осаждения слоев SiO2, SiNx, SiONx на подложки размером до 200 мм в диаметре. Установка выполнена без вакуумного загрузочного шлюза и имеет очень компактный дизайн и бюджетную цену. 

Особенности

  • Обработка пластин диаметром до 200 
  • Процесс: PECVD (SiO2, SiNx, SiONx)
  • Групповая обработка пластин
  • Держатели для пластин меньшего размера
  • Компактный дизайн и малая занимаемая площадь
  • до 8 газовых линий
  • Программное обеспечение SENTECH control software  
  • Возможность апгрейда вакуумным загрузочным шлюзом (опция)
  • Возможность установки турбомолекулярного насоса (опция)
  • OES и лазерная интрферометрия, in-situ эллипсометрия
  • LF генератор (смешивание частот для стресс-контроля)
Запросить брошюру в PDF

Характеристики

Модель установки Depolab 200
Диаметр обрабатываемых пластин до 200 мм.
Реактор  AlMgSi 0.5 материал камеры
Электрод подложки Диаметр электрода 240 мм
Температурный контроль в диапазоне 200оС - 400оС.
Верхний электрод алюминиевый электрод с газовым душем
диаметр душевой системы - 218 мм
RF электрод, 13,56 МГц
Опция: LF генератор 300-500 кГц для смешивания частот
Вакуумная система  < 10-2 mbar, 
форвакуумный насос 
Опционально: турбина <10-5 mbar
антикоррозионное исполнение
Газовые линии до 8 газовых линий с MFC и фильтрами и отсечными клапанами
RF/ LF генератор ВЧ генератор 13,56 МГц, 300 Вт., воздушное охлаждение
автоматическое согласование
LF генератор 300-500 кГц, до 1250 Вт для смешивания частот
Контроль SENTECH control software
Опции

- Более производительная вакуумная система
- Дополнительный газовые линии
- Порты камеры реактора
- LF электрод
- Нагреа стенок реактора
- Лазерный интерферометр для определния окончания процесса
- OES
- in-situ эллипсометр 


Запросить предложение можно по ссылке или направив нам письмо по адресу info@minateh.ru  

Новости

Все новости

Международная выставка испытательного и контрольно-измерительного оборудования Testing & Control

Подробнее

МИНАТЕХ начинает сотрудничество с немецким специалистом по метрологии SURAGUS

Подробнее

Новая установка безмасковой лазерной литографии DWL 66+

Подробнее

МИНАТЕХ начинает сотрудничество с немецкой компанией Accurion GmbH

Подробнее

Процесс совмещения на установках MLA от HIMT

Подробнее

Новый компактный 3D профилометр-конфокальный микроскоп S lynx от SENSOFAR

Подробнее

SENTECH анонсировал новую серию спектроскопических эллипсометров SENresearch 4.0.

Подробнее