+7 (495) 909-89-53

Установка осаждения диэлектриков SI 500 PPD (PECVD)

SI 500 PPD PECVDtrough the wall installationsentech_clustertoolThickness map of Si3N4Mapping of refractive index of Si3N4Stress control of SiNx films at the PECVD processTypical Raman spectrum of 100 nm PECVD a-Si film deposited at 100 °CTypical k spectrum of a PECVD a-Si film deposited at 100 °C measured by spectroscopic ellipsometer SENDIRARaman spectra of PECVD Si-films deposited with RF power of 150 W at different temperatures

Установки плазменного осаждения диэлектриков SI 500 PPD производства SENTECH Instruments GmbH (Германия) c вакуумным загрузочным шлюзом.

Система осаждения диэлектриков SI 500 PPD (PECVD) с вакуумным загрузочным шлюзом производства SENTECH Instruments GmbH предназначен для использования в НИОКР для реализации процессов осаждения слоев SiO2, Si3N4, SiOx, SiNy, SiOxNy, a-Si на подложки размером до 200 мм в диаметре. Установка выполнена с вакуумным загрузочным шлюза и имеет очень компактный дизайн и бюджетную цену. 

Особенности

  • Обработка пластин диаметром до 200 
  • Процесс: PECVD (SiO2, Si3N4, SiOx, SiNy, SiOxNy, a-Si)
  • Держатели для пластин меньшего размера
  • Компактный дизайн и малая занимаемая площадь
  • до 16 газовых линий
  • Программное обеспечение SENTECH control software  
  • Возможность установки турбомолекулярного насоса (опция)
  • OES и лазерная интрферометрия, in-situ эллипсометрия
  • LF генератор (смешивание частот для стресс-контроля)
  • Кластерная конфигурация
  • Загрузка из кассеты в кассету (С to C)
  • TEOS или HMDS (осаждения с жидкого прекурсора)
Запросить брошюру в PDF

Характеристики

Модель установки SI 500 PPD
Диаметр обрабатываемых пластин до 200 мм.
Реактор  AlMgSi 0.5 материал камеры, внутренний диаметр 348 мм
PPD электрод 
Электрод подложки Диаметр электрода 240 мм
Температурный контроль в диапазоне КТ - 350оС.
Температурный контроль в диапазоне КТ - 400оС (опция)
Верхний электрод алюминиевый электрод с газовым душем
RF электрод, 13,56 МГц
Опция: LF генератор 300-500 кГц для смешивания частот
Вакуумная система  форвакуумный насос + турбина
10-5 mbar
антикоррозионное исполнение
Газовые линии до 8 газовых линий с MFC и фильтрами и отсечными клапанами
RF/ LF генератор ВЧ генератор 13,56 МГц, 600 Вт., воздушное охлаждение
автоматическое согласование
LF генератор 300-500 кГц, до 1250 Вт для смешивания частот
Вакуумный загрузочный шлюз (load-lock) сухая откачка 
Пирани вакууметр
Давление <10 Па
Контроль SENTECH control software
Опции

- Более производительная вакуумная система
- Дополнительный газовые линии
- Порты камеры реактора
- LF электрод
- Нагреа стенок реактора
- Лазерный интерферометр для определния окончания процесса
- OES
- in-situ эллипсометр 
- кластерная конфигурация
- Загрузка из кассеты в кассету
- TEOS или HMDS (осаждение с жидкого прекурсора)
- Чиллер 


Запросить предложение можно по ссылке или направив нам письмо по адресу info@minateh.ru  

Новости

Все новости

Международная выставка испытательного и контрольно-измерительного оборудования Testing & Control

Подробнее

МИНАТЕХ начинает сотрудничество с немецким специалистом по метрологии SURAGUS

Подробнее

Новая установка безмасковой лазерной литографии DWL 66+

Подробнее

МИНАТЕХ начинает сотрудничество с немецкой компанией Accurion GmbH

Подробнее

Процесс совмещения на установках MLA от HIMT

Подробнее

Новый компактный 3D профилометр-конфокальный микроскоп S lynx от SENSOFAR

Подробнее

SENTECH анонсировал новую серию спектроскопических эллипсометров SENresearch 4.0.

Подробнее