Установки плазменного осаждения диэлектриков SI 500 PPD производства SENTECH Instruments GmbH (Германия) c вакуумным загрузочным шлюзом.
Система осаждения диэлектриков SI 500 PPD (PECVD) с вакуумным загрузочным шлюзом производства SENTECH Instruments GmbH предназначен для использования в НИОКР для реализации процессов осаждения слоев SiO2, Si3N4, SiOx, SiNy, SiOxNy, a-Si на подложки размером до 200 мм в диаметре. Установка выполнена с вакуумным загрузочным шлюза и имеет очень компактный дизайн и бюджетную цену.
Модель установки | SI 500 PPD |
Диаметр обрабатываемых пластин | до 200 мм. |
Реактор | AlMgSi 0.5 материал камеры, внутренний диаметр 348 мм PPD электрод |
Электрод подложки | Диаметр электрода 240 мм Температурный контроль в диапазоне КТ - 350оС. Температурный контроль в диапазоне КТ - 400оС (опция) |
Верхний электрод | алюминиевый электрод с газовым душем RF электрод, 13,56 МГц Опция: LF генератор 300-500 кГц для смешивания частот |
Вакуумная система | форвакуумный насос + турбина 10-5 mbar антикоррозионное исполнение |
Газовые линии | до 8 газовых линий с MFC и фильтрами и отсечными клапанами |
RF/ LF генератор | ВЧ генератор 13,56 МГц, 600 Вт., воздушное охлаждение автоматическое согласование LF генератор 300-500 кГц, до 1250 Вт для смешивания частот |
Вакуумный загрузочный шлюз (load-lock) | сухая откачка Пирани вакууметр Давление <10 Па |
Контроль | SENTECH control software |
Опции |
- Более производительная вакуумная система |
Запросить предложение можно по ссылке или направив нам письмо по адресу info@minateh.ru
Установки плазменного осаждения диэлектриков Depolab 200 производства SENTECH Instruments GmbH (Германия) без вакуумного загрузочного шлюза.
Обработка пластин диаметром до 200 мм.
Установки плазменного осаждения диэлектриков Depolab 200 производства SENTECH Instruments GmbH (Германия) без вакуумного загрузочного шлюза.
Обработка пластин диаметром до 200 мм.
Установки плазменного высокоскоростного осаждения диэлектриков в индуктивно-связанной плазме SI 500 D производства SENTECH Instruments GmbH (Германия) c вакуумным загрузочным шлюзом.
Обработка пластин диаметром до 200 мм.
Источник индуктивно-связанной плазмы
Вакуумный загрузочный шлюз
Процесс: ICPECVD
До 16 газовых линий
Программное обеспечение SENTECH Software
OES и лазерная интерферометрия, in-situ эллипсометр
Подача жидких прекурсоров (TEOS)
Установки плазменного высокоскоростного осаждения диэлектриков в индуктивно-связанной плазме SI 500 D производства SENTECH Instruments GmbH (Германия) c вакуумным загрузочным шлюзом.
Обработка пластин диаметром до 200 мм.
Источник индуктивно-связанной плазмы
Вакуумный загрузочный шлюз
Процесс: ICPECVD
До 16 газовых линий
Программное обеспечение SENTECH Software
OES и лазерная интерферометрия, in-situ эллипсометр
Подача жидких прекурсоров (TEOS)