+7 (495) 909-89-53

Установка криогенного травления в индуктивно-связанной плазме SI 500 С

SI 500 ICPtrough the wall installationsentech_clustertoolCryogenic etching of siliconCryogenic etching of silicon with SF6 _ O2 at -100°Claser interferometer

Установка криогенного травления в индуктивно-связанной плазме SI 500 С производства SENTECH Instruments GmbH (Германия).

Система криогенного травления  SI 500 С PTSA ICP Cryo plasma etcher производстваSENTECH Instruments GmbH идеальный выбор для проведения высокоскоростного плазмо-химического травления кремния при создании MEMS структур и микрооптики.

Отличительными особенностями SI 500 С являются наличие источника индуктивно-связанной плазмы, крио-электрод (- 150°С до 400°С) подложки с охлаждением гелием и высокопроизводительная вакуумная система. Управление всеми важными параметрами оборудования осуществляется автоматически. Установка SI 500 была разработана для использования в пилотных производствах и НИОКР. 

Отличительной особенностью системы SI 500 С является запатентованный источник индуктивно связанной плазмы ICP-PTSA 200 (плоская тройная спиральная антенна), специально подходящий для травления с низким повреждением структуры, электрод подложки с гелиевым охлаждением и динамическим контролем температуры для поддержания постоянной температуры независимо от мощности плазмы, вакуумная система позволяет обеспечивать высокую производительность требуемую для процессов травления и магнито-пневматический загрузочный шлюз для высочайшей надежности при загрузке/ выгрузке пластин. Все важнейшие параметры системы контролируются автоматически.

Система позволяет обрабатывать как пластины диаметром до 200 мм, так и кусочки. Мощная двухступенчатая вакуумная система позволяет быстро откачивать камеру реактора и получать достаточно глубокий вакуум для проведения процессов травления.

Особенности

  • Обработка пластин диаметром до 200 мм 
  • Процесс: Cryo ICP-RIE, ICP-RIE, RIE
  • Источник индуктивно-связанной плазмы (ICP)
  • Гелиевое охлаждение обратной стороны подложки 
  • Криогенный электрод (-150 oС...+400 oС)
  • Вакуумный загрузочный шлюз
  • Превосходная однородность, прекрасная воспроизводимость при травлении
  • Высокая скорость травления

  • Низкий уровень повреждений
  • Высокое аспектное отношение

  • Химия: фторна / хлорная
  • Кластерная конфигурация
  • Групповая обработка пластин
  • Держатели для пластин меньшего размера
  • Компактный дизайн и малая занимаемая площадь
  • до 16 газовых линий (фторная химия)
  • Программное обеспечение SENTECH control software  
  • OES и лазерная интрферометрия
  • Большое колличество опций
Запросить брошюру в PDF

Характеристики

Модель установки SI 500 C
Диаметр обрабатываемых пластин до 200 мм (8 дюймов)
Источник индуктивно-связанной плазмы (ICP) PTSA 200 (planar triple spiral antenna)
Частота: 13,56 МГц
Мошность: 100-1200 Вт или 100-2500 Вт
Вакуумный загрузочный шлюз (load-lock) наличие, оборудован сухим фор насосом
Реактор  Цельная камера без сварных швов, материал камеры - AlMgSi 0.5 
Электрод электрод с водяным охлаждением, диаметр электрода 240 мм
механический прижим пластины
температурный диапазон: -150...+400 оС
(другой температурный диапазон при наличии чиллера)
Гелиевое охлаждение обратной стороны подложки
Вакуумная система  < 10-6 mbar
форвакуумный насос + турбина
антикоррозионное исполнение,
сухой форвакуумный насос для шлюза.
турбина для шлюза - опция
Газовые линии до 16 газовых линий с MFC и фильтрами и отсечными клапанами
RF генератор ВЧ генератор 13,56 МГц, 600 Вт., воздушное охлаждение
автоматическое согласование
Контроль SENTECH control software
Опции

- Более производительная вакуумная система
- Bosch процесс (DRIE)
- Сосуд дюара
- Турбина на магнитном подвесе
- Турбина для вакуумного шлюза
- Дополнительный газовые линии
- Чилер
- Порты камеры реактора
- Нагреа стенок реактора
- Лазерный интерферометр для определния окончания процесса
- OES
- кластерная конфигурация
- температурный сенсор для измерения температуры на обратной стороне подложки
- загрузка из кассеты в кассету (С to C)
- установка через стену


Запросить предложение можно по ссылке или направив нам письмо по адресу info@minateh.ru  

Новости

Все новости

Система плазменной очистки ATTO с нашего склада в Москве

Подробнее

Международная выставка испытательного и контрольно-измерительного оборудования Testing & Control

Подробнее

МИНАТЕХ начинает сотрудничество с немецким специалистом по метрологии SURAGUS

Подробнее

Новая установка безмасковой лазерной литографии DWL 66+

Подробнее

МИНАТЕХ начинает сотрудничество с немецкой компанией Accurion GmbH

Подробнее

Процесс совмещения на установках MLA от HIMT

Подробнее

Новый компактный 3D профилометр-конфокальный микроскоп S lynx от SENSOFAR

Подробнее

SENTECH анонсировал новую серию спектроскопических эллипсометров SENresearch 4.0.

Подробнее