+7 (495) 909-89-53

Установка AS-Master для быстрых термических процессов (RTP) и RTCVD

ASMasterCC_Detouree

Универсальная система AS-Master  производства ANNEALSYS (Франция) для быстрых термических процессов (RTP) для обработки пластин диаметром до 8 дюймов (200 мм.) с возможностью проведения процессов RTCVD (опция).  

Применение:
Отжиг контактов A3B5 и SiC
Быстрый термический отжиг (RTA - Rapid Thermal Annealing)
Быстрое термическое окисление (RTO - Rapid Thermal Oxidation)
Отжиг SiC контактов, карбонизация
Отжиг соединений полупроводников
Селенизация, Нитритизация
Дифузия
Кристализация
Контроль качества имплантации
Послеимплантационный отжиг
RTCVD (поликремний - Poly Si, SiO2, SiNx...) и др.

Особенности

  • Быстрая термическая обработка пластин диаметром до 200 мм
  • Система быстрых термических процессов AS-Master имеет высокую функциональность для широкого диапазона процессов от отжига до быстрого термического осаждения из газовой фазы (RTCVD)
  • Версия установки для высокой температуры может проводить процесс отжига при 1450 °C и позволяет разрабатывать новые процессы.  Опционально: кубическая камера реактора для больших и квадратных и прямоугольных образцов
  • Технология холодных стенок из нержавеющей стали дающая высокую воспроизводимость процесса с ультра чистой средой и отсутствием загрязнений
  • Загрузочный шлюз и кластерная конфигурация системы доступны по запросу для увеличения чистоты процесса
  • Расширенный температурный диапазон, вакуум (от атмосферы до 10-6 Торр) и возможность смешивания газов делает установку AS-Master подходящей для большого числа RTP процессов и RTCVD процессов
  • Пирометр и термопара для контроля температуры вместе с быстрым цифровым контроллером PID температуры обеспечивает высокую точность и стабильность температуры
  • Ручная загрузка или загрузка из кассеты (опция) делает систему подходящей для переноса процесса разработки и НИОКР в производство
  • Высокая надежность и низкая стоимость владения
  • Высокая воспроизводимость процесса
  • Ультра чистая среда и отсутствие загрязнений
  • Высокая скорость охлаждения и низкий эффект памяти
  • До 8-ми газовых линий
Скачать брощюру в PDF
Скачать презентацию в PDF

Характеристики

Температурный диапазон

от комнатной (RT) до 1450°C (в зависимости от версии)

Скорость нагрева Скорость нагрева до 200°C/сек или до 50°C/сек с графитовым держателем
Скрорость охлаждения 50°C/сек в стандартном исполнении и до 100°C/сек со специальным оборудованием (опция)
Газовая система Возможность смешивать процессные газы, Контроллеры массового расхода газа
Вакуум от атм. (н.у.) до 10-6 Торр с турбомолекулярным насосом (опция)
Контроль температуры измерение температуры термопарой и быстрым температурным контроллером PID гарантирует высокий и стабильный температурный контроль по всему диапазону температур
Управление система имеет управление с ПК с программным обеспечением на базе Windows
Опции Низкотемпературный или высокотемпературный пиромерт,
Кассетная станция с одной или двумя кассетами для разных диаметров пластин

Запросить предложение можно по ссылке или направив нам письмо по адресу info@minateh.ru

Новости

Все новости

Система плазменной очистки ATTO с нашего склада в Москве

Подробнее

Международная выставка испытательного и контрольно-измерительного оборудования Testing & Control

Подробнее

МИНАТЕХ начинает сотрудничество с немецким специалистом по метрологии SURAGUS

Подробнее

Новая установка безмасковой лазерной литографии DWL 66+

Подробнее

МИНАТЕХ начинает сотрудничество с немецкой компанией Accurion GmbH

Подробнее

Процесс совмещения на установках MLA от HIMT

Подробнее

Новый компактный 3D профилометр-конфокальный микроскоп S lynx от SENSOFAR

Подробнее

SENTECH анонсировал новую серию спектроскопических эллипсометров SENresearch 4.0.

Подробнее