Компактная установка AS-Premium для быстрых термических процессов (RTP)

Компактная система AS-Premium производства ANNEALSYS (Франция) для быстрых термических процессов (RTP) для обработки пластин размером до 8х8 дюймов (200 х 200 мм) с холодными стенками.  

Применение:
Послеимплантационный отжиг
Отжиг контактов A3B5 и SiC
Быстрый термический отжиг (RTA - Rapid Thermal Annealing)
Быстрое термическое окисление (RTO - Rapid Thermal Oxidation)
Быстрое термическая нитритизация (RTТ - Rapid Thermal Nitridation)
Отжиг SiC контактов, карбонизация
Отжиг соединений полупроводников
Селенизация (CIGS solar cell)
Дифузия, Кристализация
Контроль качества имплантации
Рост углеродных нанотрубок и др.

Особенности

• Быстрая термическая обработка пластин до 200х200 мм
• Малая занимаемая площадь в чистой комнате
• Система быстрых термических процессов AS-Premium имеет высокую функциональность для широкого диапазона процессов от отжига до быстрого термического осаждения из газовой фазы (RTCVD)
• Версия установки для высокой температуры может проводить процесс отжига при 1300 °C и позволяет разрабатывать новые процессы. 
• Технология холодных стенок из нержавеющей стали дающая высокую воспроизводимость процесса с ультра чистой средой и отсутствием загрязнений
• Загрузочный шлюз и кластерная конфигурация системы доступны по запросу для увеличения чистоты процесса
• Расширенный температурный диапазон, вакуум (от атмосферы до 10-6 Торр) и возможность смешивания газов делает установку AS-Premium подходящей для большого числа RTP процессов 
• Доступны конфигурации как только с верхним расположением ламп так и конфигурация для вдухсторонненог нагрева с верхним и нижним расположением ламп
• Пирометр и термопара для контроля температуры вместе с быстрым цифровым контроллером PID температуры обеспечивает высокую точность и стабильность температуры
• Ручная загрузка или загрузка из загрузочного шлюза (load-lock)
• Высокая надежность и низкая стоимость владения
• Высокая воспроизводимость процесса
• Ультра чистая среда и отсутствие загрязнений
• Высокая скорость охлаждения и низкий эффект памяти
  
• До 8-ми газовых линий