Вакуумное напыление (PVD)

Вакуумная установка Covap производства Angstrom Engineering Inc. (Канада) - компактное экономичное решение подходящее для множества применений вакуумного напыления для НИИОКР.
Бюджетная система.
Может оснащаться перчаточным боксом.
Пластины до 100 мм.

Процессы:
резистивное термическое испарение (resistive thermal evaporation)

Вакуумная установка NexDep производства Angstrom Engineering Inc. (Канада) - гибкий дизайн и компактное исполнение для различных применений. Система может быть сконструирована согласно требованиям заказчика.
Пластины диаметром до 200 мм или до 100х100 мм.

Процессы:
резистивное термическое испарение (resistive thermal evaporation) 
магнетронное напыление (magnetron sputtering deposition)
электронно-лучевое испарение (electron beam evaporation)
ионное напыление (ion-assisted deposition)

Вакуумная установка Amod производства Angstrom Engineering Inc. (Канада) - сконструирована и разработана для удовлетворения продвинутых требований к процессам в одной машине для исследований в области напыления тонких пленок и мелкосерийного производства.
Может оснащаться перчаточным боксом и загрузочным шлюзом.
Пластины диаметром до 300 мм или 3 х 100 мм, до 150х150 мм.

Процессы:
резистивное термическое испарение (resistive thermal evaporation) 
магнетронное напыление (magnetron sputtering deposition)
электронно-лучевое испарение (electron beam evaporation)
ионное напыление (ion-assisted deposition)

Вакуумная установка EvoVac производства Angstrom Engineering Inc. (Канада) -одна из самых больших из серии установок Angstrom Engineering и имеет наибольшие возможности по конфигурирования системы для задач заказчика. Может оснащаться перчаточным боксом и загрузочным шлюзом.

Может оснащаться перчаточным боксом.
Пластины диаметром до 300 мм или 3 х 100 мм, до 150х150 мм.

Процессы:
резистивное термическое испарение (resistive thermal evaporation) 
магнетронное напыление (magnetron sputtering deposition)
электронно-лучевое испарение (electron beam evaporation)
ионное напыление (ion-assisted deposition)

Вакуумная установка ионно-лучевого распыления Reticle (IBSD) производства Angstrom Engineering Inc. (Канада) - идеальное решение для распыления оптических покрытий очень высокого качества.

Пластины диаметром до 200 мм.

Процессы:
IBSD (Ion beam sputter deposition)

Вакуумные становки серии Quantum для изготовления Джозефсоновских переходов (Josephson junction) производства Angstrom Engineering Inc. (Канада).  Angstrom Engineering Inc. разработал серию платформ, которые предоставляют пионерам аппаратного обеспечения квантовых вычислений средства для надежного и уверенного создания сверхпроводящих схем в автоматизированной среде с высокой повторяемостью.

Процессы:
изготовление Джозефсоновских переходов (Josephson junction) 

Кластерные вакуумные установки NEBULA производства Angstrom Engineering Inc. (Канада) - соединение всех технологий Angstrom Engineering в одном кластере. Имеет наибольшие возможности по конфигурирования системы для задач заказчика. Может оснащаться перчаточным боксом и загрузочным шлюзом, кассетной станцией и камерами для различных процессов в зависимости от задач заказчика.

• Может оснащаться перчаточным боксом.
• Кассетаная станция (до 25 пластин в кассете)
• Вакуумные загрузочный шлюз
• Пластины до 200х200 мм, круглые подложки и др.
• Процессы: PVD, LPCVD, ALD, RIE or ICP-RIE, PECVD or ICPECVD

Процессы:
резистивное термическое испарение (resistive thermal evaporation) 
магнетронное напыление (magnetron sputtering deposition)
электронно-лучевое испарение (electron beam evaporation)
ионное напыление (ion-assisted deposition)
Атомно-слоевое осаждение (ALD)
Плазменное травление (RIE, ICP-RIE)
Плазменное осаждение (PECVD, ICPECVD)

Вакуумные установки Box Coaters для производства производства Angstrom Engineering Inc. (Канада) -самая большая из платформ установкок Angstrom Engineering и имеет наибольшие возможности по конфигурирования системы для задач заказчика. Установки предназначены для груповой обработки пластин в том числе большого диаметра.  

Может оснащаться перчаточным боксом.
Пластины диамером до 300 мм.

Процессы:
резистивное термическое испарение (resistive thermal evaporation) 
магнетронное напыление (magnetron sputtering deposition)
электронно-лучевое испарение (electron beam evaporation)
ионное напыление (ion-assisted deposition)

Вакуумные установки магнетронного распыления линейного типа Linear Sputter System производства Angstrom Engineering Inc. (Канада). Установки для серийного производства и напыления на пластины или шаблоны (Al, Ni, Cr, V, Ti, Cu и др.). Установки заменят выходящие из строя старые установки МАГНА-2М или Оратория 29 и т.п. 

Загрузка из кассеты в кассету
до 3-х прямоугольных магнетронов
Ионный источник для очистки
Нагрев 
кварцевый контроль (QCM)

Процессы:
магнетронное напыление (magnetron sputtering deposition)

- резистивное термическое испарение (resistive thermal evaporation) 
- магнетронное напыление (magnetron sputtering deposition)
- электронно-лучевое испарение (electron beam evaporation)
- ионное напыление (ion-assisted deposition)