+7 (495) 909-89-53

Установка напыления NexDep

angstromnexdep-1angstromnexdep-2angstromnexdep-3angstromnexdep-4angstromnexdep-6angstromnexdep-5Nexdep-Standardnexdep-cleanroomNexdep-downward-sputterCooled-Chamber---Variable-Angle---NexdepStandard-Tall-NexdepNexdep-with-Variable-Angle-stageVariable-GLAD-stageAngstrom-December-2013-033nexdep-sputter

Вакуумная установка NexDep производства Angstrom Engineering Inc. (Канада) - гибкий дизайн и компактное исполнение для различных применений. Система может быть сконструирована согласно требованиям заказчика. 

Система Nexdep может быть построена согласно требованиям заказчика компактного размера и по экономичной цене.
Система может быть адаптирована под любой процесс: резистивное термическое испарение, магнетронное распыление или электронно-лучевое напыление, ионное асистирование.

Возможность установки нескольких разных процессов в одной камере.   

Процессы:
резистивное термическое испарение (resistive thermal evaporation) 
магнетронное напыление (magnetron sputtering deposition)
электронно-лучевое испарение (electron beam evaporation)
ионное напыление (ion-assisted deposition)

Особенности

  • Возможность обрабатывать на пластины диаметром до 200 мм с заданием различной скорости вращения держателя
  • ø400мм x 475мм высотой D-образной формы камера с закрепленной на петлях дверью.

  • Камера из алюминия или нержавеющей стали (опция)

  • Различные варианты исполнения камеры по высоте для процессов ЭЛИ
  • Дизайн согласно требованиям заказчика к процессам

  • Поддержка нескольких разных PVD процессов в одной камере.

  • 600мм х 1000мм - площадь занимаемая системой

  • Автоматическое управление процессами осаждения многослойных пленок на основе рецептов.

  • Процесс последовательного или параллельного (co-deposition) напыления.

  • Контроль вакуума и вакуумная система:

    - Автоматический форвакуумный насос

    - Сухие насосы (опция)

    - Высокий вакуум обеспечивается турбомолекулярным насосом (крионасос - опция)

    - Пневматически воздушный фильтр

  • Управление процессом осаждения:

    - теневая маска и выравнивание подложки

    - легко и быстро устанавливаемые датчики для поддержки и контроля процесса

    - датчики скорости осаждения для контроля и управления процессом

    - конфигурация для реализации процесса соосаждения- co-deposition (параллельное осаждение нескольких материалов для получения сплава)

    - QCM - изолированный датчик обеспечивает отсутствие интерференции при напылении от прилегающих источников

    - Изолирующие экраны из нержавеющей стали защищающие от загрязнения от перекрестного напыления.

    - Нагрев подложки, охлаждение и доп. смещение на подложку

    - Планетарное вращение или GLAD держатель с изменением угла при напылении

Скачать брошюру в PDF

Видеопрезентация установки NexDep

Видеопрезентация GLAD держатель

Видеопрезентация компании Angstrom Engineering

Запросить предложение можно по ссылке или направив нам письмо по адресу info@minateh.ru

Новости

Все новости

Система плазменной очистки ATTO с нашего склада в Москве

Подробнее

Международная выставка испытательного и контрольно-измерительного оборудования Testing & Control

Подробнее

МИНАТЕХ начинает сотрудничество с немецким специалистом по метрологии SURAGUS

Подробнее

Новая установка безмасковой лазерной литографии DWL 66+

Подробнее

МИНАТЕХ начинает сотрудничество с немецкой компанией Accurion GmbH

Подробнее

Процесс совмещения на установках MLA от HIMT

Подробнее

Новый компактный 3D профилометр-конфокальный микроскоп S lynx от SENSOFAR

Подробнее

SENTECH анонсировал новую серию спектроскопических эллипсометров SENresearch 4.0.

Подробнее