Вакуумная установка NexDep производства Angstrom Engineering Inc. (Канада) - гибкий дизайн и компактное исполнение для различных применений. Система может быть сконструирована согласно требованиям заказчика. 

Система Nexdep может быть построена согласно требованиям заказчика компактного размера и по экономичной цене.
Система может быть адаптирована под любой процесс: резистивное термическое испарение, магнетронное распыление или электронно-лучевое напыление, ионное асистирование.

Возможность установки нескольких разных процессов в одной камере.   

Процессы:
резистивное термическое испарение (resistive thermal evaporation) 
магнетронное напыление (magnetron sputtering deposition)
электронно-лучевое испарение (electron beam evaporation)
ионное напыление (ion-assisted deposition)

Особенности

• Возможность обрабатывать на пластины диаметром до 200 мм с заданием различной скорости вращения держателя

• ø400мм x 475мм высотой D-образной формы камера с закрепленной на петлях дверью.

• Камера из алюминия или нержавеющей стали (опция)

• Различные варианты исполнения камеры по высоте для процессов ЭЛИ

• Дизайн согласно требованиям заказчика к процессам

• Поддержка нескольких разных PVD процессов в одной камере.

• 600мм х 1000мм - площадь занимаемая системой

• Автоматическое управление процессами осаждения многослойных пленок на основе рецептов.

• Процесс последовательного или параллельного (co-deposition) напыления.

• Контроль вакуума и вакуумная система:

  - Автоматический форвакуумный насос

  - Сухие насосы (опция)

  - Высокий вакуум обеспечивается турбомолекулярным насосом (крионасос - опция)

  - Пневматически воздушный фильтр

• Управление процессом осаждения:

  - теневая маска и выравнивание подложки

  - легко и быстро устанавливаемые датчики для поддержки и контроля процесса

  - датчики скорости осаждения для контроля и управления процессом

  - конфигурация для реализации процесса соосаждения- co-deposition (параллельное осаждение нескольких материалов для получения сплава)

  - QCM - изолированный датчик обеспечивает отсутствие интерференции при напылении от прилегающих источников

  - Изолирующие экраны из нержавеющей стали защищающие от загрязнения от перекрестного напыления.

  - Нагрев подложки, охлаждение и доп. смещение на подложку

  - Планетарное вращение или GLAD держатель с изменением угла при напылении