+7 (495) 909-89-53

Установки LPCVD осаждения графена и CNT

LPCVD-1AAngstrom-December-2013-044angstrom_0331angstrom_0325angstrom_0317angstrom_0305lpcvd-chamber

LPCVD установка для создания (осаждения) графена и углеродныx нанотрубок (CNT) произвдства Angstrom Engineering Inc. (Канада) - компактное экономичное решение подходящее для множества применений вакуумного напыления для НИИОКР.

LPCVD установка от Angstrom Engineering Inc. выводит заказчиков на новый уровень в исследовании графена и углеродных нанотрубок (CNT).

Установка LPCVD от Angstrom спроектирована для удовлетворения требований высокой скорости нагрева и охлаждения в процессе и высокой температуре процесса при исследовании в технологии создания графена и углеродных нанотрубок.    

Для обеспечения подобных требований инженеры Angstrom разработали водоохлаждаемую печь, которая может достигать температуры 1100 оС и затем быстро охлаждаться. Достижение температуры 1100 оС за 10 минут значительно уменьшает требуемое время процесса. Охлаждение ниже 800 оС производится за 2 минуты обеспечивая контролируемый рост графена. Возможны различные размеры процессных труб для установки пластин от 2 дюймов до 8 дюймов. Установка позволяет работать (конфигурируется) как с единичной загрузкой пластин или кусочков образцов так и с партией пластин диаметром 6 дюймов, например.

Графен является 2D углеродным кристаллом. Однослойная структура графена показывает большой потенциал в использовании этого материала для создания изделий тонкопленочной электроники и технологии создания приборов на гибких подложках. Одной из важных свойств графена является прозрачность, гибкость и очень хорошая электрическая проводимость делающая этот материал хорошим кандидатом для использования в качестве TCO слоя во многих устройствах.

Для удовлетворения потребностей быстро растущего рынка углеродных нанотрубок, графена и других 2D кристаллов Angstrom предлагает систему обеспечивающую высокопрецизионный контроль и гибкость в  в течение процесса. Система блокировок защищает пользователя от воздействия высоких температур, процессных газов и высокого напряжения, которые присутствует в установке. При отключении PC или PLCсенсор переведет установку в безопасное состояние.

Полностью автоматический контроль процесса в системе позволяет пользователям создавать, сохранять сложные рецепты (до 50 шаогв) использую 24-х дюймовый touch screen интерфейс. Данные сохраняются для каждого процесса (data log) и могут быть загружены через USB интерфейс для анализа.

 

Процессы:

Рост углеродных нанотрубое (CNT)

Рост графена

Особенности

  • Возможность обрабатывать на пластины диаметром от 50 до 200 мм или единичные подложики до 150х150 мм
  • Однородность и контроль температуры процесса в диапазоне от комнатной (КТ) до 1100 оС.
  • Очень быстрые циклы нагрева и охлаждения (Нагрев до 1100 oC за 10 минут., охлажение с 1100 оС до 800 oC за 2 минуты)

    Стабильный контроль давления от 100 мТор до 500 Тор
  • До 12 газовых линий с контроллерами массового расхода (MFC)
  • Полностью безопасная конструкция и дизайн с полностью закрытым кабинетом
  • Запросить брошюру в PDF 
 

Запросить предложение товара

Установки LPCVD осаждения графена и CNT

Новости

Все новости

Система плазменной очистки ATTO с нашего склада в Москве

Подробнее

Международная выставка испытательного и контрольно-измерительного оборудования Testing & Control

Подробнее

МИНАТЕХ начинает сотрудничество с немецким специалистом по метрологии SURAGUS

Подробнее

Новая установка безмасковой лазерной литографии DWL 66+

Подробнее

МИНАТЕХ начинает сотрудничество с немецкой компанией Accurion GmbH

Подробнее

Процесс совмещения на установках MLA от HIMT

Подробнее

Новый компактный 3D профилометр-конфокальный микроскоп S lynx от SENSOFAR

Подробнее

SENTECH анонсировал новую серию спектроскопических эллипсометров SENresearch 4.0.

Подробнее