+7 (495) 909-89-53

Установки безмаскового совмещения и экспонирования (MLA)

Настольная установка безмаскового совмещения и экспонирования MLA100

Установка безмаскового совмещения и экспонирования модели MLA100 производства Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH (Германия).

MLA100 предназначена для решения задач, не требующих очень высокой производительности - лабораторные исследования, НИОКР, опытное производство и др. Высокая производительность, малая занимаемая площадь, низкая стоимость использования. 
Экспонирование по фоторезсту или фотоэмульсии.

Минимальный топологически размер 1,0 мкм.
Размер шаблонов или пластин до 6 х 6 дюймов.
Область экспонирования до 125 х 125 мм. или до Ø100 мм
Точность совмещения (50x50 мм² [3sigma, нм]) -  1000 нм.
Время экспонирования области 100х100 мм² - 200 минут. (около 3 часов)
Скорость экспонирования 50 мм2/мин. 

Растровое (бинарное) экспонирование и 3D экспонирование для режима полутоновой шкалы экспонирования (Basic Gray Scale Exposure Mode).

Установка безмаскового совмещения и экспонирования модели MLA100 производства Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH (Германия).

MLA100 предназначена для решения задач, не требующих очень высокой производительности - лабораторные исследования, НИОКР, опытное производство и др. Высокая производительность, малая занимаемая площадь, низкая стоимость использования. 
Экспонирование по фоторезсту или фотоэмульсии.

Минимальный топологически размер 1,0 мкм.
Размер шаблонов или пластин до 6 х 6 дюймов.
Область экспонирования до 125 х 125 мм. или до Ø100 мм
Точность совмещения (50x50 мм² [3sigma, нм]) -  1000 нм.
Время экспонирования области 100х100 мм² - 200 минут. (около 3 часов)
Скорость экспонирования 50 мм2/мин. 

Растровое (бинарное) экспонирование и 3D экспонирование для режима полутоновой шкалы экспонирования (Basic Gray Scale Exposure Mode).

Установка безмаскового совмещения и экспонирования MLA150

Установка безмаскового совмещения и экспонирования модели MLA150 производства Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH (Германия).

Новое поколение систем прямого экспонирования - установка MLA150 объединяет в себе легкость использования и высокую точность совмещения и высокую производительность. Предназначена для решения задач, требующих высокой производительности в производстве, а также задачи исследования, НИОКР.
Экспонирование по фоторезсту или фотоэмульсии.

Минимальный топологический размер 1,0 мкм.
Размер шаблонов или пластин до 9 х 9 дюймов.
Область экспонирования до 150 х 150 мм. или до Ø150 мм (до 200 х 200 опционально)
Точность совмещения (100x100 мм² [3sigma, нм]) -  500 нм.
Время экспонирования области 100х100 мм² - 9 минут.
Обратное совмещение (BSA) - опция.
Серая шкала - опция
Возможность установки двух источников - 405 нм и 375 нм.

Установка безмаскового совмещения и экспонирования модели MLA150 производства Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH (Германия).

Новое поколение систем прямого экспонирования - установка MLA150 объединяет в себе легкость использования и высокую точность совмещения и высокую производительность. Предназначена для решения задач, требующих высокой производительности в производстве, а также задачи исследования, НИОКР.
Экспонирование по фоторезсту или фотоэмульсии.

Минимальный топологический размер 1,0 мкм.
Размер шаблонов или пластин до 9 х 9 дюймов.
Область экспонирования до 150 х 150 мм. или до Ø150 мм (до 200 х 200 опционально)
Точность совмещения (100x100 мм² [3sigma, нм]) -  500 нм.
Время экспонирования области 100х100 мм² - 9 минут.
Обратное совмещение (BSA) - опция.
Серая шкала - опция
Возможность установки двух источников - 405 нм и 375 нм.

Оборудование для безмаскового совмещения и экспонирования от компании Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH используется для решения полного спектра задач фотолитографии без использования фотошаблонов. Такого рода генераторы изображения позволяют проводить операции экспонирования как для мелкосерийного, так для в массового производства. Главное преимущество в том, что безмасковая литография намного сокращает процесс изготовления полупроводниковых приборов и минимизирует затраты. Система имеет простой интерфейс и легка в использовании. Достаточно лишь загрузить пластину или подложку, загрузить нужный дизайн и с помощью лазерного или LED источника начать экспонирование.

Установки безмаскового совмещения и экспонирования поддерживают работу как в однослойных, так и многоуровневых приложениях с высокой точностью совмещения.

Экспонирование осуществляется по фоторезисту или фотоэмульсии, в зависимости от необходимого результата. Оптическая система производит экспонирование структур с топологическим размером вплоть до 1 мкм и скоростью от 50 мм² / мин до 1000 мм² / мин в зависимости от модели устновки. Установки экспонирования по фоторезисту или фотоэмульсии Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH занимают достаточно небольшое пространство и предназначены для лабораторий любых размеров. Применяется в таких областях, как:

● MEMS, БиоMEMS

● Полупроводниковые маски

● Безмасковое непосредственное формирование изображения

● Интегральная оптика

● Производство ИС

Новости

Все новости

Система плазменной очистки ATTO с нашего склада в Москве

Подробнее

Международная выставка испытательного и контрольно-измерительного оборудования Testing & Control

Подробнее

МИНАТЕХ начинает сотрудничество с немецким специалистом по метрологии SURAGUS

Подробнее

Новая установка безмасковой лазерной литографии DWL 66+

Подробнее

МИНАТЕХ начинает сотрудничество с немецкой компанией Accurion GmbH

Подробнее

Процесс совмещения на установках MLA от HIMT

Подробнее

Новый компактный 3D профилометр-конфокальный микроскоп S lynx от SENSOFAR

Подробнее

SENTECH анонсировал новую серию спектроскопических эллипсометров SENresearch 4.0.

Подробнее