+7 (495) 909-89-53

Настольная установка безмаскового совмещения и экспонирования MLA100

mpg 501_application 3mpg 501_application 2mpg 501_application 1

Установка безмаскового совмещения и экспонирования модели MLA100 производства Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH (Германия).
Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH (Германия) представила новую линейку установок для безмаскового совмещения и экспонирования (MLA - Maskless Aligners).









Установки бесмаскового совмещения и экспонирования серии MLA (Maskless Aligners) - это высокопроизводительные системы прямого экспонирования специально разработанные для процессов совмещения и экспонирования без использования фотошаблонов (масок). Установки предлагают все возможности традиционной технологии совмещения и экспонирования для однослойных и многослойных применений и даже дают возможность преодолеть некоторые из ограничений фотошаблонной технологии. Установки MLA позволят избавиться от потребности в фотошаблонах и сокращает цикл производства, что существенно сокращает затраты на производство или исследования.
Экспонирование по фоторезсту или фотоэмульсии.

Разработанная с акцентом на высокую производительность по доступной цене, установка MLA100 является идеальным решением для литографии многих приложений R & D. Оптическая система, использующая высокоотражающие зеркали и DMDTM (Digital Micro Device)  предназначена для экспонирования структур размером до 1 мкм при скорости 50 мм²/мин по фоторезисту, без необходимости использования фотошаблонов. Устранение фотошаблонов в литографическом процессе повысит гибкость и значительно сократит производственный цикл. MLA100 управляется мастер-программой (GUI), которая помогает оператору в течение всего процесса совмещения и экспонирования: загрузка подложки, выбор дизайна и экспонирование. Установка занимает малую площадь и требует только подключения электропитание и сжатого воздуха.

Применение установки MLA100: медицина. MEMS, микрооптика, полупроводники, сенсоры, датчики, MOEMS, исследование материалов, нанотрубки, графены и др.

Система может быть оснащена либо LED источником, работающим на длине волны 390 нм с мощностью 10 Вт, либо UV LED источником работающим на длине волны 365 нм с мощностью 10 Вт. Иточники устанавливаются в зависимости от применения.

Опции: базовый 3D экспонирование для полутоновой шкалы экспонирования (Basic Gray Scale Exposure Mode), антивибрационный стол.

Особенности

  • Минимальный топологически размер 1,0 мкм.

  • Размер шаблонов или пластин до 6 х 6 дюймов.

  • Минимальный размер подложки: 5 х 5 мм2
  • Область экспонирования до 125 х 125 мм. или до Ø100 мм

  • Точность совмещения (50x50 мм² [3sigma, нм]) -  1000 нм.

  • Камера для предварительно совмещения и микрокамера для точного совмещения
  • Время экспонирования области 100х100 мм² - 200 минут. (около 3 часов)

  • Скорость экспонирования 50 мм2/мин. 

  • Источники излучения: LED источник, 390 нм, 10 Вт, 10000 часов, UV LED источник, 365 нм, 10 Вт, 10000 часов (для стандартных и УФ-резистов таких как SU8)

  • Погрешность позиционирования подложки: 20 нм;
  • Работа с дизайнами форматов DXF, CIF, GDSII, Gerber
  • Габаритные размеры: 630 х 770 х 530 мм, вес: 100 кг;
Скачать брошюру MLA100 в PDF

Характеристики

Режим работы I
Минимальный размер элемента топологии для LED или UV LED источника, мкм 1,0 
Скорость экспонирования (рисования), мм2/мин 50
Время экспонирования области 20х20 мм2, мин 8
Время экспонирования области 50х50 мм2, мин 50
Время экспонирования области 100х100 мм2, мин 200
Равномерность ширины линии (3σ), нм 200
Точность совмещения для 50х50 мм2 , (3σ), нм 1000
Область письма (экспонирования), мм 125 х 125 или до Ø100 

Видеопрезентация установки MLA



Процесс совмещения на установках MLA



Запросить предложение можно по ссылке или направив нам письмо по адресу info@minateh.ru

Запросить предложение товара

Настольная установка безмаскового совмещения и экспонирования MLA100

Новости

Все новости

Система плазменной очистки ATTO с нашего склада в Москве

Подробнее

Международная выставка испытательного и контрольно-измерительного оборудования Testing & Control

Подробнее

МИНАТЕХ начинает сотрудничество с немецким специалистом по метрологии SURAGUS

Подробнее

Новая установка безмасковой лазерной литографии DWL 66+

Подробнее

МИНАТЕХ начинает сотрудничество с немецкой компанией Accurion GmbH

Подробнее

Процесс совмещения на установках MLA от HIMT

Подробнее

Новый компактный 3D профилометр-конфокальный микроскоп S lynx от SENSOFAR

Подробнее

SENTECH анонсировал новую серию спектроскопических эллипсометров SENresearch 4.0.

Подробнее