+7 (495) 909-89-53

Установка реактивно-ионного травления SI 500 RIE

SI 500 _clustersentech_clustertooltrough the wall installationSI 591 with loadlocklaser interferometer

Установки реактивно-ионного травления SI 500 RIE производства SENTECH Instruments GmbH (Германия) с гелиевым охлаждением обратной стороны подложки и вакуумным загрузочным шлюзом.

Система травления SI 500 RIE производства SENTECH Instruments GmbH предназначена для использования в НИОКР для реализации процессов сухого плазменного травления. Cистема SI 500 RIE успешно применяться для широкого спектра процессов, таких как травление III/V cтруктур, диэлектриков (SiO
2, Si3N4), кремния Si,  металлов (фторная/хлорная химия) и травления фотошаблонов размером до 7х7 дюймов.

Установка имеет систему гелиевого охлажения обратной стороны подложки.

Система позволяет обрабатывать как пластины диаметром до 200 мм, так и кусочки. Мощная двухступенчатая вакуумная система позволяет быстро откачивать камеру реактора и получать достаточно глубокий вакуум для проведения процессов травления.

Особенности

  • Обработка пластин диаметром до 200 мм или до 7х7 дюймов
  • Процесс: RIE
  • Гелиевое охлаждение обратной стороны подложки 
  • Вакуумный загрузочный шлюз
  • Химия: фторна / хлорная
  • Кластерная конфигурация
  • Групповая обработка пластин
  • Держатели для пластин меньшего размера
  • Компактный дизайн и малая занимаемая площадь
  • до 16 газовых линий (фторная химия)
  • Программное обеспечение SENTECH control software  
  • OES и лазерная интрферометрия
  • Большое колличество опций
Запросить брошюру в PDF

Характеристики

Модель установки SI 500 RIE
Диаметр обрабатываемых пластин до 200 мм
Вакуумный загрузочный шлюз (load-lock) наличие, оборудован сухим фор насосом
Реактор  диаметр камеры реактора 348 мм, AlMgSi 0.5 материал камеры
Электрод электрод с водяным охлаждением, диаметр электрода 240 мм
механический прижим пластины
температурный диапазон: -30...+250 оС
(другой температурный диапазон при наличии чиллера)
Гелиевое охлаждение обратной стороны подложки
Вакуумная система  < 10-5 mbar
форвакуумный насос + турбина
антикоррозионное исполнение,
сухой форвакуумный насос для шлюза.
турбина для шлюза - опция
Газовые линии до 16 газовых линий с MFC и фильтрами и отсечными клапанами
RF генератор ВЧ генератор 13,56 МГц, 600 Вт., воздушное охлаждение
автоматическое согласование
Контроль SENTECH control software
Опции

- Более производительная вакуумная система
- Турбина на магнитном подвесе
- Турбина для вакуумного шлюза
- Дополнительный газовые линии
- Чилер
- Порты камеры реактора
- PE электрод
- Нагреа стенок реактора
- Лазерный интерферометр для определния окончания процесса
- OES
- кластерная конфигурация
- температурный сенсор для измерения температуры на обратной стороне подложки
- загрузка из кассеты в кассету (С to C)
- установка через стену


Запросить предложение можно по ссылке или направив нам письмо по адресу info@minateh.ru  

Запросить предложение товара

Установка реактивно-ионного травления SI 500 RIE

Новости

Все новости

Система плазменной очистки ATTO с нашего склада в Москве

Подробнее

Международная выставка испытательного и контрольно-измерительного оборудования Testing & Control

Подробнее

МИНАТЕХ начинает сотрудничество с немецким специалистом по метрологии SURAGUS

Подробнее

Новая установка безмасковой лазерной литографии DWL 66+

Подробнее

МИНАТЕХ начинает сотрудничество с немецкой компанией Accurion GmbH

Подробнее

Процесс совмещения на установках MLA от HIMT

Подробнее

Новый компактный 3D профилометр-конфокальный микроскоп S lynx от SENSOFAR

Подробнее

SENTECH анонсировал новую серию спектроскопических эллипсометров SENresearch 4.0.

Подробнее