+7 (495) 909-89-53

Вакуумное напыление

Лабораторная установка резистивного испарения Covap

Вакуумная установка Covap производства Angstrom Engineering Inc. (Канада) - компактное экономичное решение подходящее для множества применений вакуумного напыления для НИИОКР.
Бюджетная система.
Может оснащаться перчаточным боксом.
Пластины до 100 мм.

Процессы:
резистивное термическое испарение (resistive thermal evaporation)

Вакуумная установка Covap производства Angstrom Engineering Inc. (Канада) - компактное экономичное решение подходящее для множества применений вакуумного напыления для НИИОКР.
Бюджетная система.
Может оснащаться перчаточным боксом.
Пластины до 100 мм.

Процессы:
резистивное термическое испарение (resistive thermal evaporation)

Установка напыления NexDep

Вакуумная установка NexDep производства Angstrom Engineering Inc. (Канада) - гибкий дизайн и компактное исполнение для различных применений. Система может быть сконструирована согласно требованиям заказчика.
Пластины диамером до 200 мм или до 100х100 мм.

Процессы:
резистивное термическое испарение (resistive thermal evaporation) 
магнетронное напыление (magnetron sputtering deposition)
электронно-лучевое испарение (electron beam evaporation)
ионное напыление (ion-assisted deposition)

Вакуумная установка NexDep производства Angstrom Engineering Inc. (Канада) - гибкий дизайн и компактное исполнение для различных применений. Система может быть сконструирована согласно требованиям заказчика.
Пластины диамером до 200 мм или до 100х100 мм.

Процессы:
резистивное термическое испарение (resistive thermal evaporation) 
магнетронное напыление (magnetron sputtering deposition)
электронно-лучевое испарение (electron beam evaporation)
ионное напыление (ion-assisted deposition)

Установка напыления Amod

Вакуумная установка Amod производства Angstrom Engineering Inc. (Канада) - сконструирована и разработана для удовлетворения продвинутых требований к процессам в одной машине для исследований в области напыления тонких пленок и мелкосерийного производства.
Может оснащаться перчаточным боксом и загрузочным шлюзом.
Пластины диамером до 300 мм или 3 х 100 мм, до 150х150 мм.

Процессы:
резистивное термическое испарение (resistive thermal evaporation) 
магнетронное напыление (magnetron sputtering deposition)
электронно-лучевое испарение (electron beam evaporation)
ионное напыление (ion-assisted deposition)

Вакуумная установка Amod производства Angstrom Engineering Inc. (Канада) - сконструирована и разработана для удовлетворения продвинутых требований к процессам в одной машине для исследований в области напыления тонких пленок и мелкосерийного производства.
Может оснащаться перчаточным боксом и загрузочным шлюзом.
Пластины диамером до 300 мм или 3 х 100 мм, до 150х150 мм.

Процессы:
резистивное термическое испарение (resistive thermal evaporation) 
магнетронное напыление (magnetron sputtering deposition)
электронно-лучевое испарение (electron beam evaporation)
ионное напыление (ion-assisted deposition)

Установка напыления EvoVac

Вакуумная установка EvoVac производства Angstrom Engineering Inc. (Канада) -одна из самых больших из серии установок Angstrom Engineering и имеет наибольшие возможности по конфигурирования системы для задач заказчика. Может оснащаться перчаточным боксом и загрузочным шлюзом.

Может оснащаться перчаточным боксом.
Пластины диамером до 300 мм или 3 х 100 мм, до 150х150 мм.

Процессы:
резистивное термическое испарение (resistive thermal evaporation) 
магнетронное напыление (magnetron sputtering deposition)
электронно-лучевое испарение (electron beam evaporation)
ионное напыление (ion-assisted deposition)

Вакуумная установка EvoVac производства Angstrom Engineering Inc. (Канада) -одна из самых больших из серии установок Angstrom Engineering и имеет наибольшие возможности по конфигурирования системы для задач заказчика. Может оснащаться перчаточным боксом и загрузочным шлюзом.

Может оснащаться перчаточным боксом.
Пластины диамером до 300 мм или 3 х 100 мм, до 150х150 мм.

Процессы:
резистивное термическое испарение (resistive thermal evaporation) 
магнетронное напыление (magnetron sputtering deposition)
электронно-лучевое испарение (electron beam evaporation)
ионное напыление (ion-assisted deposition)

Установка напыления Box Coaters

Вакуумные установки Box Coaters для производства производства Angstrom Engineering Inc. (Канада) -самая большая из платформ установкок Angstrom Engineering и имеет наибольшие возможности по конфигурирования системы для задач заказчика. Установки предназначены для груповой обработки пластин в том числе большого диаметра.  

Может оснащаться перчаточным боксом.
Пластины диамером до 300 мм.

Процессы:
резистивное термическое испарение (resistive thermal evaporation) 
магнетронное напыление (magnetron sputtering deposition)
электронно-лучевое испарение (electron beam evaporation)
ионное напыление (ion-assisted deposition)

Вакуумные установки Box Coaters для производства производства Angstrom Engineering Inc. (Канада) -самая большая из платформ установкок Angstrom Engineering и имеет наибольшие возможности по конфигурирования системы для задач заказчика. Установки предназначены для груповой обработки пластин в том числе большого диаметра.  

Может оснащаться перчаточным боксом.
Пластины диамером до 300 мм.

Процессы:
резистивное термическое испарение (resistive thermal evaporation) 
магнетронное напыление (magnetron sputtering deposition)
электронно-лучевое испарение (electron beam evaporation)
ионное напыление (ion-assisted deposition)

Кластерные установка напыления NEBULA

Кластерные вакуумные установки NEBULA производства Angstrom Engineering Inc. (Канада) - соединение всех технологий Angstrom Engineering в одном кластере. Имеет наибольшие возможности по конфигурирования системы для задач заказчика. Может оснащаться перчаточным боксом и загрузочным шлюзом, кассетной станцией и камерами для различных процессов в зависимости от задач заказчика.

Может оснащаться перчаточным боксом.
Кассетаная станция (до 25 пластин в кассете)
Вакуумные загрузочный шлюз
Пластины до 200х200 мм, круглые подложки и др.
Процессы: PVD, LPCVD, ALD, RIE or ICP-RIE, PECVD or ICPECVD

Процессы:
резистивное термическое испарение (resistive thermal evaporation) 
магнетронное напыление (magnetron sputtering deposition)
электронно-лучевое испарение (electron beam evaporation)
ионное напыление (ion-assisted deposition)
Атомно-слоевое осаждение (ALD)
Плазменное травление (RIE, ICP-RIE)
Плазменное осаждение (PECVD, ICPECVD)

Кластерные вакуумные установки NEBULA производства Angstrom Engineering Inc. (Канада) - соединение всех технологий Angstrom Engineering в одном кластере. Имеет наибольшие возможности по конфигурирования системы для задач заказчика. Может оснащаться перчаточным боксом и загрузочным шлюзом, кассетной станцией и камерами для различных процессов в зависимости от задач заказчика.

Может оснащаться перчаточным боксом.
Кассетаная станция (до 25 пластин в кассете)
Вакуумные загрузочный шлюз
Пластины до 200х200 мм, круглые подложки и др.
Процессы: PVD, LPCVD, ALD, RIE or ICP-RIE, PECVD or ICPECVD

Процессы:
резистивное термическое испарение (resistive thermal evaporation) 
магнетронное напыление (magnetron sputtering deposition)
электронно-лучевое испарение (electron beam evaporation)
ионное напыление (ion-assisted deposition)
Атомно-слоевое осаждение (ALD)
Плазменное травление (RIE, ICP-RIE)
Плазменное осаждение (PECVD, ICPECVD)

Установка магнетронного распыления линейного типа (Linear sputter system)

Вакуумные установки магнетронного распыления линейного типа Linear Sputter System производства Angstrom Engineering Inc. (Канада). Установки для серийного производства и напыления на пластины или шаблоны (Al, Ni, Cr, V, Ti, Cu и др.). Установки заменят выходящие из строя старые установки МАГНА-2М или Оратория 29 и т.п. 

Загрузка из кассеты в кассету
до 3-х прямоугольных магнетронов
Ионный источник для очистки
Нагрев 
кварцевый контроль (QSM)

Процессы:
магнетронное напыление (magnetron sputtering deposition)

Вакуумные установки магнетронного распыления линейного типа Linear Sputter System производства Angstrom Engineering Inc. (Канада). Установки для серийного производства и напыления на пластины или шаблоны (Al, Ni, Cr, V, Ti, Cu и др.). Установки заменят выходящие из строя старые установки МАГНА-2М или Оратория 29 и т.п. 

Загрузка из кассеты в кассету
до 3-х прямоугольных магнетронов
Ионный источник для очистки
Нагрев 
кварцевый контроль (QSM)

Процессы:
магнетронное напыление (magnetron sputtering deposition)

Процессы вакуумного напыления (Application)

- резистивное термическое испарение (resistive thermal evaporation) 
- магнетронное напыление (magnetron sputtering deposition)
- электронно-лучевое испарение (electron beam evaporation)
- ионное напыление (ion-assisted deposition)

- резистивное термическое испарение (resistive thermal evaporation) 
- магнетронное напыление (magnetron sputtering deposition)
- электронно-лучевое испарение (electron beam evaporation)
- ионное напыление (ion-assisted deposition)

Новости

Все новости

Система плазменной очистки ATTO с нашего склада в Москве

Подробнее

Международная выставка испытательного и контрольно-измерительного оборудования Testing & Control

Подробнее

МИНАТЕХ начинает сотрудничество с немецким специалистом по метрологии SURAGUS

Подробнее

Новая установка безмасковой лазерной литографии DWL 66+

Подробнее

МИНАТЕХ начинает сотрудничество с немецкой компанией Accurion GmbH

Подробнее

Процесс совмещения на установках MLA от HIMT

Подробнее

Новый компактный 3D профилометр-конфокальный микроскоп S lynx от SENSOFAR

Подробнее

SENTECH анонсировал новую серию спектроскопических эллипсометров SENresearch 4.0.

Подробнее