Установка нанолитографии NanoFrazor Explore производства HEIDELBERG INSTRUMENTS NANO (SwissLitho AG, Швейцария).
NanoFrazor Explore на рынке с 2014 года, является первой коммерческой системой NanoFrazor. Эта хорошо зарекомендовавшая себя система обеспечивает полную гибкость для обслуживания практически любого исследовательского приложения, которое требует четко определенных наноструктур.
Первая на рынке гибридная система нанолитографии объединяющая в себе 2 метода литографии: нано и микро (Mix&Match) в одной машине!
NanoFrazor Explore позволяет получать как паттерн (структуру), так и топографическую визуализацию с очень высокой скоростью и точностью. Это достигается с помощью умной и гибкой конструкции из пьезосканера, которая сочетает в себе высокую жесткость, нулевое механическое трение и сильно уменьшенное сцепление, обеспечивающее превосходную точность позиционирования. Низкошумные, сверхчувствительные датчики с температурной компенсацией с высокой скоростью обработки информации и выдающейся линейностью встроены в сканер, чтобы обеспечить продвинутое управление позиционированием с обратной связью с полной компенсацией ошибок от пьезо-гистерезиса и ползучести.
На любом образце диаметром до 4 дюймов (100мм) и толщиной 2 см может создан паттерн установкой NanoFrazor Explore. Высококачественные направляющие с поперечным роликом образуют основу для системы позиционирования с жесткой и высокой точностью. Все оси оснащены высококачественными оптическими датчиками (энкодерами), которые обеспечивают нанометровое разрешение позиционирования.
Высокоскоростной пьезосканер и система позиционирования фиксируются непосредственно на тяжелой ультраплоской гранитной плите внутри корпуса. Пневматические изоляторы с гибридной конструкцией камеры и большим упругостью сильно сглаживают как вертикальные, так и горизонтальные вибрации снаружи. Многослойное VSG ламинированное безопасное стекло по бокам, покрытое антиакустическая пена сверху и снизу и герметичный корпус из акрилового стекла изолируют установку от акустического шума. Эта конструкция позволяет использовать литографию сверхвысокого разрешения практически в любой среде.
Установка NanoFrazor Explore разработана для обеспечения высокой надежности и надежности с одновременным акцентом на полную гибкость. Корпус «все в одном» имеет небольшую площадь и изготовлен из высококачественной стали и ламинированного безопасного стекла. Вся система может быть установлена за один день, и один человек может переместить ее между лабораториями. Несколько отделенных отсеков располагают все компоненты системы и доступны со всех сторон, чтобы обеспечить простоту использования и быстрое обслуживание. Корпус также обеспечивает блокируемое пространство для хранения образцов и кантилеверов. Дополнительное свободное пространство во всех отсеках и гибкие проемы для кабелей и труб позволяют интегрировать будущие расширения в систему. Такие расширения могут быть собственными модификациями пользователя для тестирования новых идей и выполнения пользовательских экспериментов или коммерческих надстроек, таких как встроенные устройства DLS для лазерной литографии.
Влажность и температура внутри Explore контролируются компьютером, а газовую атмосферу контролируют с помощью программного обеспечения NanoFrazor. Подача газа может быть подключена из лаборатории или из газового балона, который может храниться внутри отсека для контроля газа инструмента.
Применение установки NanoFrazor:
● MEMS
● Нанолитография и исследования
● Наномагниты
● Наноэлектроника
● Плазмоника
● Полупроводники
● Безмасковое непосредственное формирование изображения
● Протопирование
● Наноимпринт штампы
| Метод создания рисунка | Thermal probe pattering | Direct Laser Sublimation |
| Максимальный размер образца (XYZ) | 100 х 100 х 20 мм | |
| Материал подложки | без ограничений (1) | |
| Pettering (создание паттерна на пластине) | ||
| Минимальный размер элемента | 15 нм | 600 нм |
| Минимальный размер элемента для Lines and spaces (half-pitch in resist) (2) | 25 нм | 1000 нм |
| Вертикальное (3D) разрешение (3) (отличимый размер ступеньки) | 2 нм | - |
| Скорость (линейная) создание паттерна (@50 nm размере пискселя) | 1 мм/сек | 5 мм/сек |
| Скорость создание паттерна (@50 nm размере пискселя): | 100 мкм2/мин | 100 000 мкм2/мин |
| Точность сшивки полей (markerless, using in-situ AFM imaging) | 25 нм | 300 нм |
| Точность совмещения (overlay accuracy) | 25 нм | 100 нм |
| Patterning field size (поле создания структуры) | 60 х 60 мкм | 60 х 60 мкм |
| AFM Topography Imaging (метрология установки) | ||
| Латеральное разрешение (topography feature size) | 10 нм | |
| Вертикальное (imaging) разрешение (topography sensitivity) | 0,2 нм | |
| Imaging speed (@50 nm размере пискселя) | 1000 мкм2/мин | |
| Imaging field size (поле метрологического контроля) | 60 х 60 мкм | |
| Совмещение и сшивка | ||
| Точность сшивки (4) | 25 нм | 300 нм |
| Точность совмещения (5) | 25 нм | 100 нм |
| Контроль нагрева кантилевера | ||
| Диапазон температуры | от КТ до 1100 oC | |
| Разреешние контроля | < 1 K | |
| Режим нагрева | DC или Pulsed | |
| Система позиционирования | ||
| Диапазон перемещения (макс область создания паттерна) | 100 х 100 мм, 20 мм | |
| Разрешение позиционирования | < 5 нм | |
| Оптический микроскоп | ||
| Коаксиальная белая подсветка | Управеление с ПК | |
| Оптическое разрешение | 0.6 мкм | |
| Поле зрения | 1.0 x 1.0 мм | |
| Камера | 2592 x 1944 pixel | |
| Рабочее расстояние | 36 мм | |
| Держатель кантилевера | ||
| Время замены кантилевера | 1 мин. | |
| Электроника | ||
| Процессор реального времени | 1 GHz | |
| High speed, low noise ADC/DAC channels | 4/4 channels (up to 24 bit) | |
| NanoFrazor программное обеспечение | ||
| Интуитивный пользовательский интерфейс | Включен | |
| Фроматы дизайнов | GDSII, JPG, PNG, BMP, TIFF | |
| Пикселизация (определение размера пикселя) | 0.1 нм | |
| Максимальное количество уровней для одного поля | 256 | |
| Калибровка кантилевера (расстояние, температура, срабатывание...) | автоматическое | |
| Совмещение | автоматическая в процессе создания паттерна | |
| In-situ коррекция дрефа по Z | автоматческая в процессе создания паттерна | |
| Контроль окружающей среды | ||
| Контроль влажности температуры | да | |
| Контроль натекания газа | Управление с ПК | |
| Виброизоляция | > 98 % @ 10 Hz, resonance < 1.5 Hz | |
| Акустическая изоляция | 3 уровня, 40 dB (@ 50-5000 Hz) | |
| Размеры | ||
| Занимаемая площадь на столе | 780 х 1280 х 1850 мм | |
| Вес | 650 кг. | |
| Требования к подключению | ||
| Электропитание | 1x 220 В AC, 10 A | |
| Подача инертного газа (опционально) | > 4 bar (60psi) | |
| Сжатый воздух | > 4 bar (60psi) | |
| Внешний уровень вибрации | VC-B or better | |
| Дополнительная виброизоялция | не требуется. встроен | |
| Внешний акустический шум | < 60 dB | |
| Опции | ||
| Виброизоляционный стол | не нужен | |
| Direct Laser Sublimation (DLS) extension | да | |
|
1 Patterning on completely insulating substrates is possible, but with restrictions on the electrostatic force actuation 2 Sub-10nm half-pitch and feature size has been demonstrated (Ryu Cho et al., ACS Nano, 2017) 3 A vertical resolution of < 1 nm (1 sigma error) has been demonstrated (Rawlings et al, Scientific Reports, 2017) 4 A stitching error of < 10 nm in all directions has been demonstrated (Paul et al., Nanotechnology, 2012) 5 An overlay accuracy of < 5 nm has been demonstrated (Rawlings et al., ACS Nano, 2015) |
||
Установка нанолитографии NanoFrazor Scholar производства HEIDELBERG INSTRUMENTS NANO (SwissLitho AG, Швейцария).
NanoFrazor Scholar - новейшая система NanoFrazor, доступная только с 2017 года. Начальный уровень NanoFrazor особенно подходит для академических исследовательских групп, которые ищут простой способ создания своих нанопаттеров или устройств с высоким разрешением.
NanoFrazor Scholar - это гибкая настольная литографическая система, которая занимает очень мало места. Установку можно даже поставить внутри перчаточного бокса, позволяя изготовить устройство или локальные модификации поверхности, не подвергая образец воздействию воздуха.
Максимальный размер образца (XYZ): 50 х 50 х 20 мм
Минимальный размер образца: 1 х 1 мм2
Pattering:
Минимальный размер письма : менее 20 нм.
Минимальный размер письма для Lines and spaces (half-pitch in resist)2: менее 30 нм.
Вертикальное (3D) разрешение3 (отличимый размер ступеньки): менее 3 нм
Скорость (линейная) создание паттерна (@50 nm размере пискселя): 0.5 мм/сек
Скорость (при размере пикселя 50 нм) создание паттерна : 500 мкм2/мин
Topography Imaging
Латеральное разрешение (topography feature size): менее 10 нм.
Вертикальное (imaging) разрешение (topography sensitivity): менее 0,2 нм
Imaging speed (@50 nm размере пискселя): 500 мкм2/мин
Imaging and writing field size: до 50 х 50 мкм
Точность совмещения: менее 50 нм
Установка нанолитографии NanoFrazor Scholar производства HEIDELBERG INSTRUMENTS NANO (SwissLitho AG, Швейцария).
NanoFrazor Scholar - новейшая система NanoFrazor, доступная только с 2017 года. Начальный уровень NanoFrazor особенно подходит для академических исследовательских групп, которые ищут простой способ создания своих нанопаттеров или устройств с высоким разрешением.
NanoFrazor Scholar - это гибкая настольная литографическая система, которая занимает очень мало места. Установку можно даже поставить внутри перчаточного бокса, позволяя изготовить устройство или локальные модификации поверхности, не подвергая образец воздействию воздуха.
Максимальный размер образца (XYZ): 50 х 50 х 20 мм
Минимальный размер образца: 1 х 1 мм2
Pattering:
Минимальный размер письма : менее 20 нм.
Минимальный размер письма для Lines and spaces (half-pitch in resist)2: менее 30 нм.
Вертикальное (3D) разрешение3 (отличимый размер ступеньки): менее 3 нм
Скорость (линейная) создание паттерна (@50 nm размере пискселя): 0.5 мм/сек
Скорость (при размере пикселя 50 нм) создание паттерна : 500 мкм2/мин
Topography Imaging
Латеральное разрешение (topography feature size): менее 10 нм.
Вертикальное (imaging) разрешение (topography sensitivity): менее 0,2 нм
Imaging speed (@50 nm размере пискселя): 500 мкм2/мин
Imaging and writing field size: до 50 х 50 мкм
Точность совмещения: менее 50 нм
ООО "Минатех"— Микро и нано технологии
Статьи
© Все права защищены
Россия, Москва, ул. Ткацкая, д.5с1.
тел./факс: +7 (495) 909-89-53 / +7 (495) 909-89-54
моб.тел.: +7 (926) 134-69-15
e-mail: info@minateh.ru
