+7 (495) 909-89-53

Диффузионные печи

Лабораторные диффузионные печи серии PEO для атмосферных процессов, PECVD и LPCVD

Универсальные лабораторные диффузионные печи для атмосферных процессов, PECVD и LPCVD для групповой обработки пластин в мелкосерийном производстве и НИОКР производства от ATV Technologie GmbH (Германия).  

Применение:
Обработка в атмосфере (диффузия, окисление, отжиг, PECVD, LPCVD) 
Температурный диапазон: от RT до 1150°C (в зависимости от версии печи)
Загрузка: ручная (групповая) 
Диаметр пластин до 300 мм в зависимости от модели печи.
Загрузка от 5 до 60 пластин
Вакуум: опция 

Универсальные лабораторные диффузионные печи для атмосферных процессов, PECVD и LPCVD для групповой обработки пластин в мелкосерийном производстве и НИОКР производства от ATV Technologie GmbH (Германия).  

Применение:
Обработка в атмосфере (диффузия, окисление, отжиг, PECVD, LPCVD) 
Температурный диапазон: от RT до 1150°C (в зависимости от версии печи)
Загрузка: ручная (групповая) 
Диаметр пластин до 300 мм в зависимости от модели печи.
Загрузка от 5 до 60 пластин
Вакуум: опция 

Лабораторная настольная горизонтальные диффузионные печи SVCS

Настольные лаборатрные горизонтальные диффузионные печи производстве от SVCS (Чехия).  

Применение:
Процессы:

  • Диффузия из твердых, жидких и газообразных источников
  • Сухое или влажное окисление + Trans-LC
  • Отжиг (в форминг-газе или азоте)
  • Спекание
  • Сушка и термообработка полиимидов
  • APCVD, LPCVD, MOCVD
  • Нитрид кремния
  • Поликремний, аморфный кремний
  • TEOS, HTO, LTO
  • Графен, УНТ, нанопроводники

Температурный диапазон: от 200 до 1300°C (в зависимости от версии печи)
Загрузка: ручная 
Диаметр пластин до 150 мм в зависимости от требований.
Загрузка от 25 

Настольные лаборатрные горизонтальные диффузионные печи производстве от SVCS (Чехия).  

Применение:
Процессы:

  • Диффузия из твердых, жидких и газообразных источников
  • Сухое или влажное окисление + Trans-LC
  • Отжиг (в форминг-газе или азоте)
  • Спекание
  • Сушка и термообработка полиимидов
  • APCVD, LPCVD, MOCVD
  • Нитрид кремния
  • Поликремний, аморфный кремний
  • TEOS, HTO, LTO
  • Графен, УНТ, нанопроводники

Температурный диапазон: от 200 до 1300°C (в зависимости от версии печи)
Загрузка: ручная 
Диаметр пластин до 150 мм в зависимости от требований.
Загрузка от 25 

Горизонтальные диффузионные печи SVCS для атмосферных процессов

Универсальные горизонтальные диффузионные печи для атмосферных процессов для групповой обработки пластин в крупносерийном, так и в мелкосерийном производстве от SVCS (Чехия).  

Применение:
Обработка в атмосфере (диффузия, окисление, отжиг и др.) 
Температурный диапазон: от RT до 1300°C (в зависимости от версии печи)
Загрузка: ручная или автоматическая
Диаметр пластин до 300 мм в зависимости от требований.
Загрузка от 25 до 300 пластин (на процесс - трубу) 
До 4 труб на печь

Универсальные горизонтальные диффузионные печи для атмосферных процессов для групповой обработки пластин в крупносерийном, так и в мелкосерийном производстве от SVCS (Чехия).  

Применение:
Обработка в атмосфере (диффузия, окисление, отжиг и др.) 
Температурный диапазон: от RT до 1300°C (в зависимости от версии печи)
Загрузка: ручная или автоматическая
Диаметр пластин до 300 мм в зависимости от требований.
Загрузка от 25 до 300 пластин (на процесс - трубу) 
До 4 труб на печь

Горизонтальные диффузионные печи SVCS для LPCVD процессов

Универсальные горизонтальные диффузионные печи для LPCVD процессов для групповой обработки пластин в крупносерийном, так и в мелкосерийном производстве от SVCS (Чехия).  

Применение:
LPCVD осаждение (Si3N4, LTO, HTO, TEOS, PolySi, doped PolySi) 
Температурный диапазон: от RT до 1200°C (в зависимости от версии печи)
Загрузка: ручная или автоматическая
Диаметр пластин до 300 мм в зависимости от требований.
Загрузка от 25 до 300 пластин (на процесс - трубу) 
До 4 труб на печь

Универсальные горизонтальные диффузионные печи для LPCVD процессов для групповой обработки пластин в крупносерийном, так и в мелкосерийном производстве от SVCS (Чехия).  

Применение:
LPCVD осаждение (Si3N4, LTO, HTO, TEOS, PolySi, doped PolySi) 
Температурный диапазон: от RT до 1200°C (в зависимости от версии печи)
Загрузка: ручная или автоматическая
Диаметр пластин до 300 мм в зависимости от требований.
Загрузка от 25 до 300 пластин (на процесс - трубу) 
До 4 труб на печь

Горизонтальные диффузионные печи SVCS для PECVD процессов

Универсальные горизонтальные диффузионные печи для PECVD процессов для групповой обработки пластин в крупносерийном, так и в мелкосерийном производстве от SVCS (Чехия).  

Применение:
PECVD осаждение: 

  • Нитрид кремния (включая антиотражающие покрытия для солнечных элементов)
  • Оксид кремния
  • Оксинитрид кремния

Температурный диапазон: от 200 до 800°C (в зависимости от версии печи)
Загрузка: ручная или автоматическая
Диаметр пластин до 300 мм в зависимости от требований.
Загрузка от 25 до 300 пластин (на процесс - трубу) 
До 4 труб на печь

Универсальные горизонтальные диффузионные печи для PECVD процессов для групповой обработки пластин в крупносерийном, так и в мелкосерийном производстве от SVCS (Чехия).  

Применение:
PECVD осаждение: 

  • Нитрид кремния (включая антиотражающие покрытия для солнечных элементов)
  • Оксид кремния
  • Оксинитрид кремния

Температурный диапазон: от 200 до 800°C (в зависимости от версии печи)
Загрузка: ручная или автоматическая
Диаметр пластин до 300 мм в зависимости от требований.
Загрузка от 25 до 300 пластин (на процесс - трубу) 
До 4 труб на печь

Диффузионные печи широко используются для обработки полупроводниковых и кремниевых пластин такими способами, как: термическое сухое и влажное окисление, диффузия, сплавление, отжиг, загонка и разгонка легирующих примесей. 

Как правило, первым этапом изготовления полупроводниковых приборов является термическое окисление наружной поверхности пластины. Окисление называется сухим, если проходит в атмосфере кислорода, или же жидкостным – если проходит в атмосфере, содержащей кислород с парами воды. Термическое окисление позволяет получить пленку диоксида кремния толщиной около одного микрона. Такая пленка способствует защите пластины кремния от проникновения сторонних химических веществ и служит основой для последующего процесса диффузии. Возможность создания на кремнии химически устойчивой защитной пленки диоксида кремния, делает такие пластины широко применяемыми полупроводниковыми подложками. 

Диффузия, проводимая в диффузионной печи, является наиболее признанным методом образования переходов в полупроводниках. Диффузионный метод заключается в том, что кремниевая пластина, находясь в диффузионной печи подвергается воздействию высокой температуры. В печи, также находятся необходимые добавки, находящиеся в парообразном состоянии. В результате процесса, в кремниевой пластине формируются области p- или n-типа проводимости. Обычно, в качестве примесей для р-типа используется бор (B), а для n-типа фосфор (Р), мышьяк (As) или сурьма (Sb). 

Сплавлением называется процесс, при котором в низкотемпературную диффузионную печь помещаются металлизированные обложки (обычно алюминиевые), для обеспечения контакта с низким сопротивлением, между металлом и кремниевой подложкой. После этапа сплавления пластины в диффузионной печи подвергают воздействию газовой смеси, содержащей водород, при температуре от 400 до 500°C. 

Операция отжига предназначена для оптимизации и стабилизации характеристик прибора, благодаря соединению водорода несвязанными атомами на границе раздела среды кремния и диоксида кремния. 

Процессы: 

  • Нитрид кремния (включая антиотражающие покрытия для солнечных элементов)
  • Оксид кремния
  • Оксинитрид кремния
  • Нитрид кремния
  • Низкотемпературный оксид (LTO)
  • Высокотемпературный оксид (HTO)
  • ТЭОС
  • Поликремний
  • Легированный поликремний
  • Оксинитрид
  • Диффузия (загонка), высокотемпературные процессы
  • Легирование из твердых, жидких и газообразных источников, например: BBr₃, B2H6, POCL₃, PH₃, BN
  • Различные термические процессы: отжиг, вжигание, спекание
  • Пирогенное окисление с внешней горелкой
  • Влажное окисление с использованием сверхчистого пара
  • Сухое окисление
  • HiPOx (Окисление под повышенным давлением)
  • Применение DCE (TCA) или HCl для всех процессов

Диффузионные печи производства ATV Technologie GmbH (Германия) и SVCS (Чехия), представленные в нашем ассортименте, прекрасно справляются со всеми вышеперечисленными процессами.