Заявка на обратный звонок

Контактное лицо*
Номер телефона*
* - обязательные для заполнения поля
Введите этот код
###
+7 (495) 909-89-53
Обратный звонок
RU | EN
Минатех » Оборудование » Технологическое оборудование » Диффузионные печи » Лабораторная настольная горизонтальные диффузионные печи SVCS

Лабораторная настольная горизонтальные диффузионные печи SVCS

Универсальные горизонтальные диффузионные печи table top furnacetable top furnace for laboratory

Настольные лаборатрные горизонтальные диффузионные печи производстве от SVCS (Чехия).  

Настольная диффузионная печь SVCS создана для применения в научно-исследовательских лабораториях и опытном производстве, сохраняя при этом характерный для полупроводниковой промышленности уровень качества. Система может быть использована для целого ряда различных процессов, благодаря широкой универсальности и количеству доступных опций.

Процессы: 

  • Диффузия из твердых, жидких и газообразных источников
  • Сухое или влажное окисление + Trans-LC
  • Отжиг (в форминг-газе или азоте)
  • Спекание
  • Сушка и термообработка полиимидов
  • APCVD, LPCVD, MOCVD
  • Нитрид кремния
  • Поликремний, аморфный кремний
  • TEOS, HTO, LTO
  • Графен, УНТ, нанопроводники

Особенности

  • Конструкция для атмосферных или вакуумных процессов
  • Компактный размер
  • Малое энергопотребление
  • Простое управление и обслуживание
  • Нагревательный элемент, 1 или 3 температурные зоны с макс. температурой до 1300 oC
  • Современная проприетарная модульная система управления
  • До 8 газовых линий и до 2 жидких источников
  • Аппаратная блокировка, разделенная с системой управления
  • Интеграция вакуумных насосов от ведущих производителей вакуумного оборудования
Запросить брошюру в PDF

Характеристики

 Размер пластин  2″ — 6″ (50 мм — 150 мм)
 Размер загрузки  до 25 пластин в загрузке
 Нагреватель  1 или 3 зоны, провод из материала Kanthal® APM/A1
 Рабочая зона  12″ (300 мм)
 Температура процесса  200 oC  —  1300 oC, ± 0.5 oC по длине зоны
 Энергопотребление  20 кВА
 Источник питания  Трехфазный, 400 или 480VAC, 50 A, 50 или 60 Гц
(система всегда адаптируется к сети питания заказчика)
 Сжатый воздух  70 – 110 psig (от 4,8 до 7,6 бар)
 Охлаждающая вода  40 — 60 л/мин
 Вытяжная вентиляция  210 м³/ч
 Опции  модуль CEM, система EBS, инженерное оборудование


Запросить предложение можно по ссылке или направив нам письмо по адресу info@minateh.ru

Запросить предложение товара

Лабораторная настольная горизонтальные диффузионные печи SVCS

Также Вас может заинтересовать
Лабораторные диффузионные печи серии PEO для атмосферных процессов, PECVD и LPCVD

Универсальные лабораторные диффузионные печи для атмосферных процессов, PECVD и LPCVD для групповой обработки пластин в мелкосерийном производстве и НИОКР производства от ATV Technologie GmbH (Германия).  

Применение:
Обработка в атмосфере (диффузия, окисление, отжиг, PECVD, LPCVD) 
Температурный диапазон: от RT до 1150°C (в зависимости от версии печи)
Загрузка: ручная (групповая) 
Диаметр пластин до 300 мм в зависимости от модели печи.
Загрузка от 5 до 60 пластин
Вакуум: опция 

Универсальные лабораторные диффузионные печи для атмосферных процессов, PECVD и LPCVD для групповой обработки пластин в мелкосерийном производстве и НИОКР производства от ATV Technologie GmbH (Германия).  

Применение:
Обработка в атмосфере (диффузия, окисление, отжиг, PECVD, LPCVD) 
Температурный диапазон: от RT до 1150°C (в зависимости от версии печи)
Загрузка: ручная (групповая) 
Диаметр пластин до 300 мм в зависимости от модели печи.
Загрузка от 5 до 60 пластин
Вакуум: опция 

Горизонтальные диффузионные печи SVCS для PECVD процессов

Универсальные горизонтальные диффузионные печи для PECVD процессов для групповой обработки пластин в крупносерийном, так и в мелкосерийном производстве от SVCS (Чехия).  

Применение:
PECVD осаждение: 

  • Нитрид кремния (включая антиотражающие покрытия для солнечных элементов)
  • Оксид кремния
  • Оксинитрид кремния

Температурный диапазон: от 200 до 800°C (в зависимости от версии печи)
Загрузка: ручная или автоматическая
Диаметр пластин до 300 мм в зависимости от требований.
Загрузка от 25 до 300 пластин (на процесс - трубу) 
До 4 труб на печь

Универсальные горизонтальные диффузионные печи для PECVD процессов для групповой обработки пластин в крупносерийном, так и в мелкосерийном производстве от SVCS (Чехия).  

Применение:
PECVD осаждение: 

  • Нитрид кремния (включая антиотражающие покрытия для солнечных элементов)
  • Оксид кремния
  • Оксинитрид кремния

Температурный диапазон: от 200 до 800°C (в зависимости от версии печи)
Загрузка: ручная или автоматическая
Диаметр пластин до 300 мм в зависимости от требований.
Загрузка от 25 до 300 пластин (на процесс - трубу) 
До 4 труб на печь

Горизонтальные диффузионные печи SVCS для LPCVD процессов

Универсальные горизонтальные диффузионные печи для LPCVD процессов для групповой обработки пластин в крупносерийном, так и в мелкосерийном производстве от SVCS (Чехия).  

Применение:
LPCVD осаждение (Si3N4, LTO, HTO, TEOS, PolySi, doped PolySi) 
Температурный диапазон: от RT до 1200°C (в зависимости от версии печи)
Загрузка: ручная или автоматическая
Диаметр пластин до 300 мм в зависимости от требований.
Загрузка от 25 до 300 пластин (на процесс - трубу) 
До 4 труб на печь

Универсальные горизонтальные диффузионные печи для LPCVD процессов для групповой обработки пластин в крупносерийном, так и в мелкосерийном производстве от SVCS (Чехия).  

Применение:
LPCVD осаждение (Si3N4, LTO, HTO, TEOS, PolySi, doped PolySi) 
Температурный диапазон: от RT до 1200°C (в зависимости от версии печи)
Загрузка: ручная или автоматическая
Диаметр пластин до 300 мм в зависимости от требований.
Загрузка от 25 до 300 пластин (на процесс - трубу) 
До 4 труб на печь

Свернуть
Свернуть
Свернуть

ООО "Минатех"— Микро и нано технологии
Статьи
© Все права защищены

Россия, Москва, ул. Ткацкая, д.5с1.

тел./факс: +7 (495) 909-89-53 / +7 (495) 909-89-54
моб.тел.: +7 (926) 134-69-15
e-mail: info@minateh.ru

Карта сайта