Фотошаблонные заготовки

Фотошаблонные заготовки по ТЗ заказчика.

Все технологические этапы создания фотошаблона организованы внутри компании-изготовителя, чтобы гарантировать, что продукты соответствуют не только отраслевым стандартам, но и потребностям каждого отдельно взятого клиента. Наша компания предлагает поставку любых индивидуальных услуг по нанесению тонких пленок с использованием различных металлов на фотошаблонные заготовки.

Мы можем предложить фотошаблонные заготовки с низким коэффициентом отражения в структуре металлического хрома и оксида хрома со свойствами спектрального отражения (ниже). Выбор антибликового покрытия зависит от целей нанесения и длины волны воздействия соответственно.

Отражение фотошаблонных заготовок для длин волн фотолитографии и для изготовления микроструктур

Стекло (Подложка).

Натриево-известковое стекло (Soda Lime glass) основной материал для изготовления фотошаблонных заготовок. Мы можем предложить большие партии фотошаблонных заготовок в короткие сроки, предлагая при этом множество различных размеров и толщин для ваших нужд. Так же могут быть использованы другие типы подложек, такие как Кварц, B270, Боросиликатное стекло и т. д.

Soda-lime glass (накриево-известковое стекло)

Borofloat glass (Боросиликатное стекло).

B270 Glass (тип оптического стекла, используемого в линзах и других оптических компонентах)

Quartz Glass (кварцевое стекло)

Пленки.

Следующим важным параметром фотошаблонной заготовки являются тонкие пленки фоторезиста и слоя метализации.

Наиболее распространенным позитивным фоторезистом для фотошаблонных заготовок являются фоторезисты марок AZ1518 и AZTFP650. Стандартная толщина 5300±100Å. Другие марки фоторезистов и толщины доступны по запросу.

Пленки металлизации разделяются по параметрам:

LRC = (LR) Low Reflective, (C) Chromium – низко отражающий хром. Коэффициент отражения 11% +/- 2% при 436 нм. Плотность = 2,8 +/- 0,2
MRC = (MR) Medium Reflective. (C) Chromium – средне отражающий хром. Коэффициент отражения 33% +/- 3% при 436 нм. Плотность = 2,8 +/- 0,2
HRC = (HR) High Reflective. (C) Chromium – высоко отражающий хром. Коэффициент отражения 65%
BRC = (BR) Blue Reflective. (C) Chromium – Отражающий в синем спектре хром. Плотность = 3 +/- 0,2

Нестандартные покрытия.

Описание нестандартного продукта начинается с нижнего слоя. (С точки зрения последовательности нанесения покрытия.)

BL / CR / BL = (BL) Отражающий в синем спектре. (C) Хром. (BL) Отражающий в синем спектре. Плотность = 5,0.

Примеры маркировки:

BL/CR/BL= (BL) Blue Reflective. (C) Chromium. (BL) Blue Ref
GO/CR/GO = (GO) Gold Reflective. (C) Chromium. (GO) Gold Reflective
Top surface 11% reflectivity @ 436 nanometers. Density = 5.0. (No spectrum readings available)

GO/CR/BL = (GO) Gold Reflective. (C) Chromium. (BL) Blue Reflective.
Density = 5.0 (No spectrum readings available)

BL/CR/GO = (BL) Blue Reflective. (C) Chromium. (GO) Gold Reflective
Density = 5.0 (No spectrum readings available)

Фоторезистивные пленки.

Мы можем предложить заготовки с различной толщиной металлизации хрома и толщиной позитивного фоторезиста. Эти параметры необходимо учитывать при подборе правильного времени обработки. С фотошаблонными заготовками следует работать в условиях безопасного желтого или красного цвета. Резист чувствителен к синему ультрафиолету. Для однородности важно поддерживать постоянную температуру процесса (70F, 21°C). (Data sheets на фоторезист, брошюры)

При формировании Вашего запроса на фотошаблонные заготовки необходимо учитывать множество переменных и приведенную выше информацию.

Пример маркировки фотошаблонной заготовки:

5X5X.090 SL HRC 1518 5K

где:

5X5X.090 – геометрический размер заготовки в дюймах;
SL – стекло Soda-lime;
HRC – высоко отражающий хром;
1518 – марка фоторезиста (AZ 1518);
5K – толщина фоторезистивной пленки (5000 А);

Так же вы можете обратиться к нашим специалистам за консультацией.

Запросить предложение можно по ссылке или направив нам письмо по адресу info@minateh.ru

Также Вас может заинтересовать

Тара для пластин