Установки безмасковой литографии серии Microlab производства SVG Tech Group (КНР).
Microlab предназначена для решения задач, не требующих очень высокой производительности - лабораторные исследования, НИОКР, опытное производство и др. Высокая производительность, малая занимаемая площадь, низкая стоимость использования.
Установка Microlab представляет собой новое поколение установок лазерной безмасковой литографии: позволяет точно подбирать режим экспонирования исходя из ваших задач, включает модуль растрового экспонирования с возможностью выбора пищущей линзы и разрешения.
Экспонирование по фоторезсту или фотоэмульсии.
Минимальный топологический размер до 0,5 мкм.
Максимальный размер шаблонов или пластин до 6 х 6 дюймов (150x150 мм)
Область экспонирования до 150 х 150 мм
Точность совмещения - ±1мкм.
Скорость экспонирования до 300 мм2/мин. (зависит от мин. топологического размера)
Растровое (бинарное) экспонирование (DMD)
Установки безмасковой литографии серии Microlab производства SVG Tech Group (КНР).
Microlab предназначена для решения задач, не требующих очень высокой производительности - лабораторные исследования, НИОКР, опытное производство и др. Высокая производительность, малая занимаемая площадь, низкая стоимость использования.
Установка Microlab представляет собой новое поколение установок лазерной безмасковой литографии: позволяет точно подбирать режим экспонирования исходя из ваших задач, включает модуль растрового экспонирования с возможностью выбора пищущей линзы и разрешения.
Экспонирование по фоторезсту или фотоэмульсии.
Минимальный топологический размер до 0,5 мкм.
Максимальный размер шаблонов или пластин до 6 х 6 дюймов (150x150 мм)
Область экспонирования до 150 х 150 мм
Точность совмещения - ±1мкм.
Скорость экспонирования до 300 мм2/мин. (зависит от мин. топологического размера)
Растровое (бинарное) экспонирование (DMD)
Установки безмасковой литографии серии MiScan производства SVG Tech Group (КНР).
MiScan предназначена для решения задач, требующих более высокой производительности - мелкосерийное производство, лабораторные исследования, НИОКР, опытное производство и др. Высокая производительность, малая занимаемая площадь, низкая стоимость использования.
Установка Microlab представляет собой новое поколение установок лазерной безмасковой литографии: позволяет точно подбирать режим экспонирования исходя из ваших задач, включает модуль растрового экспонирования с возможностью выбора пищущей линзы и разрешения.
Экспонирование по фоторезсту или фотоэмульсии.
Минимальный топологический размер до 0,5 мкм.
Максимальный размер шаблонов или пластин до 12 х 12 дюймов (300x300 мм)
Область экспонирования до 280 х 280 мм
Точность совмещения - ±0.5 мкм.
Скорость экспонирования до 600 мм2/мин. (зависит от мин. топологического размера)
Растровое (бинарное) экспонирование (DMD)
Установки безмасковой литографии серии MiScan производства SVG Tech Group (КНР).
MiScan предназначена для решения задач, требующих более высокой производительности - мелкосерийное производство, лабораторные исследования, НИОКР, опытное производство и др. Высокая производительность, малая занимаемая площадь, низкая стоимость использования.
Установка Microlab представляет собой новое поколение установок лазерной безмасковой литографии: позволяет точно подбирать режим экспонирования исходя из ваших задач, включает модуль растрового экспонирования с возможностью выбора пищущей линзы и разрешения.
Экспонирование по фоторезсту или фотоэмульсии.
Минимальный топологический размер до 0,5 мкм.
Максимальный размер шаблонов или пластин до 12 х 12 дюймов (300x300 мм)
Область экспонирования до 280 х 280 мм
Точность совмещения - ±0.5 мкм.
Скорость экспонирования до 600 мм2/мин. (зависит от мин. топологического размера)
Растровое (бинарное) экспонирование (DMD)
Установки безмасковой литографии позволяют выполнять процессы экспонирования для формирования топологического рисунка на пластине без использования фотошаблонов. Главное достоинство лазерной литографии - нет необходимости заранее изготавливать фотошаблоны (маски) и проводить сопутствующие операции (чистить и заменять старые). Таким образом, лазерная литография упрощает процедуру изготовления полупроводниковых приборов. Данный метод используется при производстве: фотошаблонов; формировании топологии на таких материалах, как кремний и стекло, A3B5, керамика и др. Установки безмасковой лазерной литографии относительно быстро окупаются ввиду высокой стоимости покупки фотошаблонов на стороне. Установки производства SVG Tech Group, в зависимости от модели, могут использоваться как в решении задач мелкосерийных, так и крупносерийных производств.
Оборудование для безмаскового совмещения и экспонирования от компании SVG Tech Group используется для решения полного спектра задач фотолитографии без использования фотошаблонов. Генераторы изображения позволяют проводить операции экспонирования как для мелкосерийного, так для в массового производства. Главное преимущество в том, что безмасковая литография намного сокращает процесс изготовления полупроводниковых приборов и минимизирует затраты. Система имеет простой интерфейс и легка в использовании. Достаточно лишь загрузить пластину или подложку, загрузить нужный дизайн и с помощью лазерного или LED источника начать экспонирование.
Установки безмаскового совмещения и экспонирования поддерживают работу как в однослойных, так и многоуровневых приложениях с высокой точностью совмещения.
Экспонирование осуществляется по фоторезисту или фотоэмульсии, в зависимости от необходимого результата. Оптическая система производит экспонирование структур с топологическим размером вплоть до 0,5 мкм и высокой скоростью в зависимости от модели устновки и оптической линзы. Установки экспонирования по фоторезисту или фотоэмульсии SVG Tech Group занимают достаточно небольшое пространство и предназначены для лабораторий любых размеров. Применяется в таких областях, как:
● MEMS, БиоMEMS
● Полупроводниковые маски
● Безмасковое непосредственное формирование изображения
● Интегральная оптика
● Производство ИС
ООО "Минатех"— Микро и нано технологии
Статьи
© Все права защищены
Россия, Москва, ул. Ткацкая, д.5с1.
тел./факс: +7 (495) 909-89-53 / +7 (495) 909-89-54
моб.тел.: +7 (926) 134-69-15
e-mail: info@minateh.ru
