Установка безмасковой литографии модели Microlab

Установки безмасковой литографии серии Microlab производства SVG Tech Group (КНР).

Серия Microlab предназначена для решения задач, не требующих очень высокой производительности - лабораторные исследования, НИОКР, опытное производство и др. Высокая производительность, малая занимаемая площадь, низкая стоимость использования. 
Установка Microlab представляет собой новое поколение установок лазерной безмасковой литографии: позволяет точно подбирать режим экспонирования исходя из ваших задач, включает модуль растрового экспонирования с возможностью выбора пищущей линзы и разрешения.
Экспонирование по фоторезсту или фотоэмульсии.

Минимальный топологический размер до 0,5 мкм.
Максимальный размер шаблонов или пластин до 6 х 6 дюймов (150x150 мм)
Область экспонирования до 150 х 150 мм
Точность совмещения -  ±1мкм.
Скорость экспонирования до 300 мм²/мин. (зависит от мин. топологического размера)
Растровое (бинарное) экспонирование (DMD)
Столик с линейными двигателями с энкодером

Система прекрасно найдет применение в таких областях как МЭМС, микрофлюидика, микрооптика и других областях, где требуется недорогой, компактный и мощный генератор изображения для создания микроструктур.

Применение установки Microlab: медицина, MEMS, микрофлюидика, микрооптика, полупроводники, сенсоры, датчики, MOEMS, исследование материалов, нанотрубки, графены и др.

Система может быть оснащена либо LD источником, работающим на длине волны 405 нм с мощностью 100 мВт, LED источником с длиной волны 405 нм, 960 мВт, либо UV источником (DPSSL) работающим на длине волны 355 нм с мощностью 800 мВт. Иточники устанавливаются в зависимости от применения.