Установки безмасковой литографии серии MiScan производства SVG Tech Group (КНР).
MiScan предназначена для решения задач, требующих более высокой производительности - мелкосерийное производство, лабораторные исследования, НИОКР, опытное производство и др. Высокая производительность, малая занимаемая площадь, низкая стоимость использования.
Установка Microlab представляет собой новое поколение установок лазерной безмасковой литографии: позволяет точно подбирать режим экспонирования исходя из ваших задач, включает модуль растрового экспонирования с возможностью выбора пищущей линзы и разрешения.
Экспонирование по фоторезсту или фотоэмульсии.
Минимальный топологический размер до 0,5 мкм.
Максимальный размер шаблонов или пластин до 12 х 12 дюймов (300x300 мм)
Область экспонирования до 280 х 280 мм
Точность совмещения - ±0.5 мкм.
Скорость экспонирования до 600 мм2/мин. (зависит от мин. топологического размера)
Растровое (бинарное) экспонирование (DMD)
Опционально: столик с контролем лазерным интерферометром
Система прекрасно найдет применение в таких областях как МЭМС, микрофлюидика, микрооптика и других областях, где требуется недорогой, компактный и мощный генератор изображения для создания микроструктур.
Применение установки MiScan: медицина, MEMS, микрофлюидика, микрооптика, полупроводники, сенсоры, датчики, MOEMS, исследование материалов, нанотрубки, графены и др.
Система может быть оснащена либо LD источником, работающим на длине волны 405 нм с мощностью 3.6 Вт, либо UV источником (DPSSL) работающим на длине волны 355 нм с мощностью 10 Вт. Иточники устанавливаются в зависимости от применения.
| Режим работы | I (объектив 50X) | II (объектив20X) | III (объектив10X) | |
| Параметры экспонирования для растрового экспонироавния | ||||
| Минимальный размер элемента топологии, мкм | 0,5 | 1,0 | 2,0 | |
| Точность совмещения [3σ, нм]) | ±500 | ±500 | ±500 | |
| Параметры экспонирования для растрового режима экспонироавния | ||||
| Равномерность ширины линии (3σ), нм | 70 | 150 | 300 | |
| Скорость экспонирования, мм2/мин (405nm, LD) | 50 | 125 | 250 | |
| Скорость экспонирования, мм2/мин (355nm, PDSSL laser) | 100 | 300 | 600 | |
| Спецификация системы | ||||
| Максимальный размер подложки | 12" х 12" | |||
| Минимальный размер подложки | 10 мм х 10 мм | |||
| Тольщина подложек | 0,1 - 15 мм | |||
| Максимальная область экспонирования | 280 мм х 280 мм | |||
| Microlab система | Ширина | Глубина | Высота | Вес |
| Основная система | 1540 мм | 1120 мм | 1900 мм | 1700 кг |
| Требования к подключению | ||||
| Электропитание | 230 В ± 5%, 50/60 Гц, 16A, до 3 кВт | |||
| Сжатый воздух | 6 - 10 bar, стабильность± 0.5 bar | |||
Установки безмасковой литографии серии Microlab производства SVG Tech Group (КНР).
Microlab предназначена для решения задач, не требующих очень высокой производительности - лабораторные исследования, НИОКР, опытное производство и др. Высокая производительность, малая занимаемая площадь, низкая стоимость использования.
Установка Microlab представляет собой новое поколение установок лазерной безмасковой литографии: позволяет точно подбирать режим экспонирования исходя из ваших задач, включает модуль растрового экспонирования с возможностью выбора пищущей линзы и разрешения.
Экспонирование по фоторезсту или фотоэмульсии.
Минимальный топологический размер до 0,5 мкм.
Максимальный размер шаблонов или пластин до 6 х 6 дюймов (150x150 мм)
Область экспонирования до 150 х 150 мм
Точность совмещения - ±1мкм.
Скорость экспонирования до 300 мм2/мин. (зависит от мин. топологического размера)
Растровое (бинарное) экспонирование (DMD)
Установки безмасковой литографии серии Microlab производства SVG Tech Group (КНР).
Microlab предназначена для решения задач, не требующих очень высокой производительности - лабораторные исследования, НИОКР, опытное производство и др. Высокая производительность, малая занимаемая площадь, низкая стоимость использования.
Установка Microlab представляет собой новое поколение установок лазерной безмасковой литографии: позволяет точно подбирать режим экспонирования исходя из ваших задач, включает модуль растрового экспонирования с возможностью выбора пищущей линзы и разрешения.
Экспонирование по фоторезсту или фотоэмульсии.
Минимальный топологический размер до 0,5 мкм.
Максимальный размер шаблонов или пластин до 6 х 6 дюймов (150x150 мм)
Область экспонирования до 150 х 150 мм
Точность совмещения - ±1мкм.
Скорость экспонирования до 300 мм2/мин. (зависит от мин. топологического размера)
Растровое (бинарное) экспонирование (DMD)
ООО "Минатех"— Микро и нано технологии
Статьи
© Все права защищены
Россия, Москва, ул. Ткацкая, д.5с1.
тел./факс: +7 (495) 909-89-53 / +7 (495) 909-89-54
моб.тел.: +7 (926) 134-69-15
e-mail: info@minateh.ru
