УФ лампа для установок фотолитографии USHIO USH-350DS (Япония).
Применение: источник УФ света для установок контактной фотолитографии. (установки совмещения и экспонироания)
Мощность - 350W
Дипазон длин волн: 350-450 нм.
Ток - 6А
Ресурс до 1000 часов.
Подходит на замену лампам OSRAM HBO 350W/S.
Совместима с установками SUSS MicroTec (MJB4 или др), EGV, MIDAS SYSTEM, Super Solution and Service и др.
Центрифуга для нанесения фоторезиста модели SPIN-1200T от MIDAS SYSTEM (Корея) с нашего склада.
Применение: нанесение фоторезиста или других покрытий методом центрифугирования.
Центрифуга для нанесения фоторезиста модели SPIN-1200T от MIDAS SYSTEM (Корея) с нашего склада.
Применение: нанесение фоторезиста или других покрытий методом центрифугирования.
Антивибрационные платформы DAEIL SYSTEMS (Корея) с активной виброизоляцией серии DVIA-T и DVIA-MB
Применение: виброизоляция микроскопов, профилометров, наноинденторов и других приборов
Антивибрационные платформы DAEIL SYSTEMS (Корея) с активной виброизоляцией серии DVIA-T и DVIA-MB
Применение: виброизоляция микроскопов, профилометров, наноинденторов и других приборов
Полировальный порошок оксида церия (CeO2) в наличии на нашем складе в Москве.
Применение: Оптические линзы, оптические фильтры, оптическое стекло со степенью истирания 80-150, шлифование твердого стекла (hard glass), например: BK7, B270
Полировальный порошок оксида церия (CeO2) в наличии на нашем складе в Москве.
Применение: Оптические линзы, оптические фильтры, оптическое стекло со степенью истирания 80-150, шлифование твердого стекла (hard glass), например: BK7, B270
ООО "Минатех"— Микро и нано технологии
Статьи
© Все права защищены
Россия, Москва, ул. Ткацкая, д.5с1.
тел./факс: +7 (495) 909-89-53 / +7 (495) 909-89-54
моб.тел.: +7 (926) 134-69-15
e-mail: info@minateh.ru
