Центрифуга для нанесения фоторезиста модели SPIN-1200T от MIDAS SYSTEM (Корея) с нашего склада.
Применение: нанесение фоторезиста или других покрытий методом центрифугирования.
Центрифуга SPIN-1200T
Вакуумный держатель пластин 60х48 мм
Установка плазменной очистки и активации поверхности при атмосферном давлении (Китай). Установка готова к отгрузке нашим заказчикам в самые кратчайшие сроки.
Применение: очистка, удаление органики с поверхности, активация
Установка плазменной очистки и активации поверхности при атмосферном давлении (Китай). Установка готова к отгрузке нашим заказчикам в самые кратчайшие сроки.
Применение: очистка, удаление органики с поверхности, активация
Антивибрационные платформы DAEIL SYSTEMS (Корея) с активной виброизоляцией серии DVIA-T и DVIA-MB
Применение: виброизоляция микроскопов, профилометров, наноинденторов и других приборов
Антивибрационные платформы DAEIL SYSTEMS (Корея) с активной виброизоляцией серии DVIA-T и DVIA-MB
Применение: виброизоляция микроскопов, профилометров, наноинденторов и других приборов
Центрифуга для нанесения фоторезиста модели SPIN-3000BD от MIDAS SYSTEM (Корея) с нашего склада.
Применение: нанесение фоторезиста или других покрытий методом центрифугирования.
Пластины до 150мм.
Центрифуга для нанесения фоторезиста модели SPIN-3000BD от MIDAS SYSTEM (Корея) с нашего склада.
Применение: нанесение фоторезиста или других покрытий методом центрифугирования.
Пластины до 150мм.
ООО "Минатех"— Микро и нано технологии
Статьи
© Все права защищены
Россия, Москва, ул. Ткацкая, д.5с1.
тел./факс: +7 (495) 909-89-53 / +7 (495) 909-89-54
моб.тел.: +7 (926) 134-69-15
e-mail: info@minateh.ru
