ГУФ (DUV) лампа для установок фотолитографии USHIO UXM-501MD (Япония)
Применение: источник ГУФ света для установок контактной фотолитографии. (установки совмещения и экспонироания)
Мощность - 500W
Дипазон длин волн: 248-450 нм.
Ток - 20А
Ресурс до 600 часов.
Совместима с установками SUSS MicroTec (MJB4 или др), EGV, MIDAS SYSTEM, Super Solution and Service и др.
Система анализа микроструктур Axalit на базе микроскопа NX600TR (Nexcope).
Применение: инспекция пластин и фотошаблонов, измерение критических размеров в прямом отраженном свете и проходящем свете (светлое поле, темное поле).
Пластины диаметром до 150 мм.
Система анализа микроструктур Axalit на базе микроскопа NX600TR (Nexcope).
Применение: инспекция пластин и фотошаблонов, измерение критических размеров в прямом отраженном свете и проходящем свете (светлое поле, темное поле).
Пластины диаметром до 150 мм.
Система анализа микроструктур Axalit на базе микроскопа NX800TR (Nexcope).
Применение: инспекция пластин и фотошаблонов, измерение критических размеров в прямом отраженном свете и проходящем свете (светлое поле, темное поле).
Пластины диаметром до 200 мм.
Система анализа микроструктур Axalit на базе микроскопа NX800TR (Nexcope).
Применение: инспекция пластин и фотошаблонов, измерение критических размеров в прямом отраженном свете и проходящем свете (светлое поле, темное поле).
Пластины диаметром до 200 мм.
УФ пленка для монтажа пластины перед дисковой резкой, UV Tape
УФ пленка для монтажа пластины перед дисковой резкой, UV Tape
ООО "Минатех"— Микро и нано технологии
Статьи
© Все права защищены
Россия, Москва, ул. Ткацкая, д.5с1.
тел./факс: +7 (495) 909-89-53 / +7 (495) 909-89-54
моб.тел.: +7 (926) 134-69-15
e-mail: info@minateh.ru
