Системы SRD-отмывки и сушки µSRD-150-B от компании Mot Semicon (Германия)
Системы SRD-отмывки и сушки µSRD-150-B от компании Mot Semicon (Германия) входящей в группу компаний WALL и на протяжении более 25 лет специализирующейся на производстве систем для полупроводниковой промышленности и МЭМС. Решения компании Mot Semicon в области мокрых процессов помогают снижать затраты на данные процессы, предназначены как для лабораторий, так и для серийного производства.
Системы SRD-отмывки и сушки имеют высокую производительность и обеспечивают качественный и экономичный отмыв и сушку пластин. Корпус установок SRD изготовлен из полипропилена и нержавеющей стали устойчивых к воздействию используемой в технологических процессах химии. Сменные роторы позволяют работать с различными размерами подложек, например, 60х48 мм, 76 мм, 100 мм и до 150 мм.
Для управления процессом используется сенсорный дисплей. На панели отображается время процесса, скорость привода, показывается текущий шаг процесса. Время процесса может быть выбрано. Промывка деионизованной водой может быть контролируема по времени или по датчику сопротивления. После этого запускается сушка холодным (не нагретым) азотом, далее сушка нагретым азотом в течении заданного промежутка времени. Весь процесс автоматически контролируется встроенным контроллером PLC (programmable logic сontroller), в течении этого времени, обороты привода регулируются для подбора оптимального режима сушки пластин.
| Нагреватель азота | Встроенный | |||
| Нагреватель камеры | Встроенный | |||
| Датчик сопротивления | До 18 Мом | |||
| Управление | 50 рецептов с 10 шагами | |||
| Блок антистатики | Встроенный | |||
| Скорость вращения ротора | От 500 до 3000 об/мин | |||
| Размер подложек | 60х48 мм, Ø76, 100 и 150 мм | |||
| Программируемое время работы | От 1 сек. до 99 мин. | |||
| Типичное время цикла | 7,5 мин. | |||
| Корпус | Полипропилен | |||
| Размер корпуса | 815(Ш)х650(Г)х752(В)мм | |||
Полностью автоматические установки очистки и жидкостной обработки пластин и фотошаблонов MICROCLUSTER WET от Obducat (Швеция).
Полностью втоматические установки для жидкостной обработки
Системы Obducat Microcluster Wet - это автоматические напольные системы жидкостной обработки с загрузкой из кассеты в кассету с 4мя модулями, предназначенными для очистки пластин и фотошаблонов, Lift-Off процессов, травления или проявления фоторезистов. Благодаря широкому выбору опций эти установки легко конфигурируются в соответствии с потребностями клиентов при обработке пластин размером 200 и 300 мм или меньшего размера.
Полностью автоматические установки очистки и жидкостной обработки пластин и фотошаблонов MICROCLUSTER WET от Obducat (Швеция).
Полностью втоматические установки для жидкостной обработки
Системы Obducat Microcluster Wet - это автоматические напольные системы жидкостной обработки с загрузкой из кассеты в кассету с 4мя модулями, предназначенными для очистки пластин и фотошаблонов, Lift-Off процессов, травления или проявления фоторезистов. Благодаря широкому выбору опций эти установки легко конфигурируются в соответствии с потребностями клиентов при обработке пластин размером 200 и 300 мм или меньшего размера.
Установки очистки и жидкостной обработки пластин и фотошаблонов QUICKSTEP WET от Obducat (Швеция).
Полуавтоматические установки для жидкостной обработки
Системы Obducat Quickstep Wet - это напольные системы жидкостной обработки, предназначенные для очистки пластин и фотошаблонов, Lift-Off процессов, травления или проявления фоторезистов. Благодаря широкому выбору опций эти установки легко конфигурируются в соответствии с потребностями клиентов при обработке пластин размером 200 и 300 мм или меньшего размера, а также больших подложек диаметром до 1500 мм.
Установки очистки и жидкостной обработки пластин и фотошаблонов QUICKSTEP WET от Obducat (Швеция).
Полуавтоматические установки для жидкостной обработки
Системы Obducat Quickstep Wet - это напольные системы жидкостной обработки, предназначенные для очистки пластин и фотошаблонов, Lift-Off процессов, травления или проявления фоторезистов. Благодаря широкому выбору опций эти установки легко конфигурируются в соответствии с потребностями клиентов при обработке пластин размером 200 и 300 мм или меньшего размера, а также больших подложек диаметром до 1500 мм.
Полностью автоматические установки очистки и жидкостной обработки пластин и фотошаблонов MICROCLUSTER WET TRACK от Obducat (Швеция).
Полностью втоматические установки для жидкостной обработки
Системы Obducat Microcluster Wet Track - это автоматические напольные системы жидкостной обработки с загрузкой из кассеты в кассету, предназначенными для очистки пластин и фотошаблонов, Lift-Off процессов, травления или проявления фоторезистов. Благодаря широкому выбору опций эти установки легко конфигурируются в соответствии с потребностями клиентов при обработке пластин размером 200 и 300 мм или меньшего размера.
Полностью автоматические установки очистки и жидкостной обработки пластин и фотошаблонов MICROCLUSTER WET TRACK от Obducat (Швеция).
Полностью втоматические установки для жидкостной обработки
Системы Obducat Microcluster Wet Track - это автоматические напольные системы жидкостной обработки с загрузкой из кассеты в кассету, предназначенными для очистки пластин и фотошаблонов, Lift-Off процессов, травления или проявления фоторезистов. Благодаря широкому выбору опций эти установки легко конфигурируются в соответствии с потребностями клиентов при обработке пластин размером 200 и 300 мм или меньшего размера.
ООО "Минатех"— Микро и нано технологии
Статьи
© Все права защищены
Россия, Москва, ул. Ткацкая, д.5с1.
тел./факс: +7 (495) 909-89-53 / +7 (495) 909-89-54
моб.тел.: +7 (926) 134-69-15
e-mail: info@minateh.ru
