Установка плазменной очистки низкого давления модели COVANCE производства FEMTO SCIENCE (Ю. Корея).
Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы)
Process Mode: PE
Камера: прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 200 x 220 x 160 (мм)
Вакуумный насос, ~ 5 x 10-4 Torr
Ганератор:
Управление: ручное или автоматическое (PLC)
Газовые линии - до 4 шт (MFC)
Применение:
мелкосерийное производство
аналитика (SEM, TEM)
медицина
стерилизация
исследования
археология
обработка текстиля
полупроводники
обработка пластиков
Камера: прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 200 x 220 x 160 (мм)
Вакуумный насос
Ганератор: 20-100 кГц (шаг 10 кГц), мощность до 200 Вт. / 13.56 МГц, до 300 Вт
Управление: ручное или автоматическое (PLC)
Газовые линии - до 4 шт. (MFC)
Тип установки | плазма низкого давления |
Вакуумная камера | прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 200 x 220 x 160 (мм) |
Материал камеры | Алюминий |
Подвод газа | до 4-х газовых линий с MFC - Max. 200 sccm (1 sccm шаг) |
Генератор плазмы |
|
Контроль | Ручной или автоматический 7" тач дисплей, PLC |
Размеры |
|
Подключение | 220 В, 50 Гц |
Установка плазменной очистки низкого давления модели Pico производства Diener electronic (Германия).
Применение: очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы), создание гидрофобных и гидрофильных покрытий, карбонизация, снятие и подчистка фоторезста
Камера: цилиндрическая или прямоугольная, около 5 литров
Вакуумный насос на выбор
Ганератор 40 кГц, до 1000 Вт или 13,56 МГц, до 300 Вт или 2,45 ГГц, до 300 Вт.
Управление: ручное или автоматическое (PLC или PC)
Газовые линии - до 3 шт (игольчатые глапана или MFC)
Установка плазменной очистки низкого давления модели Pico производства Diener electronic (Германия).
Применение: очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы), создание гидрофобных и гидрофильных покрытий, карбонизация, снятие и подчистка фоторезста
Камера: цилиндрическая или прямоугольная, около 5 литров
Вакуумный насос на выбор
Ганератор 40 кГц, до 1000 Вт или 13,56 МГц, до 300 Вт или 2,45 ГГц, до 300 Вт.
Управление: ручное или автоматическое (PLC или PC)
Газовые линии - до 3 шт (игольчатые глапана или MFC)
Установка плазменной очистки при атмосферном давлении серии PlasmaBeam производства Diener electronic (Германия).
Генератор атмосферной плазмы „plasma system PlasmaBeam“ рассчитан, главным образом, на локальную предварительную обработку (очистку, активацию) различных поверхностей:
полимерных
металлических
керамических
стеклянных
из комбинированных материалов
„Plasma system PlasmaBeam“ может устанавливаться в существующие автоматические производственные линии без больших затрат.
Установка плазменной очистки при атмосферном давлении серии PlasmaBeam производства Diener electronic (Германия).
Генератор атмосферной плазмы „plasma system PlasmaBeam“ рассчитан, главным образом, на локальную предварительную обработку (очистку, активацию) различных поверхностей:
полимерных
металлических
керамических
стеклянных
из комбинированных материалов
„Plasma system PlasmaBeam“ может устанавливаться в существующие автоматические производственные линии без больших затрат.
Установка плазменной очистки низкого давления модели Zepto производства Diener electronic (Германия).
Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы)
Камера: цилиндрическая, от 1,7 до 2,6 литра
Вакуумный насос
Ганератор: 100 кГц, до 30 Вт, 40кГц, до 100 Вт, 13,56 МГц, до 30 Вт., 13,56 МГц, до 200 Вт
Управление: ручное или автоматическое (PLC или PC)
Газовые линии - до 2 шт (игольчатые глапана или MFC)
Установка плазменной очистки низкого давления модели Zepto производства Diener electronic (Германия).
Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы)
Камера: цилиндрическая, от 1,7 до 2,6 литра
Вакуумный насос
Ганератор: 100 кГц, до 30 Вт, 40кГц, до 100 Вт, 13,56 МГц, до 30 Вт., 13,56 МГц, до 200 Вт
Управление: ручное или автоматическое (PLC или PC)
Газовые линии - до 2 шт (игольчатые глапана или MFC)