+7 (495) 909-89-53

Установка плазменной очистки COVANCE от Femto Science (Корея)

Установка плазменной очистки низкого давления модели COVANCE от FEMTO SCIENCE

Установка плазменной очистки низкого давления модели COVANCE производства FEMTO SCIENCE (Ю. Корея)

Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы)

Process Mode: PE
Камера: прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 200 x 220 x 160 (мм)
Вакуумный насос, ~ 5 x 10-4 Torr 
Ганератор:

  • 20-100 кГц (шаг 10 кГц), мощность до 200 Вт. 
  • 13.56 МГц, до 300 Вт 

Управление: ручное или автоматическое (PLC)
Газовые линии - до 4 шт (MFC)

Применение: 
мелкосерийное производство
аналитика (SEM, TEM)
медицина
стерилизация
исследования
археология
обработка текстиля
полупроводники
обработка пластиков

Особенности

  • Камера: прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 200 x 220 x 160 (мм)

  • Вакуумный насос

  • Датчик давления Pirani
  • Ганератор: 20-100 кГц (шаг 10 кГц), мощность до 200 Вт. / 13.56 МГц, до 300 Вт 

  • Управление: ручное или автоматическое (PLC)

  • Газовые линии - до 4 шт. (MFC)

Скачать брошюру COVANCE в PDF

Характеристики

Тип установки плазма низкого давления
Вакуумная камера прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 200 x 220 x 160 (мм)
Материал камеры Алюминий 
Подвод газа до 4-х газовых линий с MFC - Max. 200 sccm (1 sccm шаг)
Генератор плазмы
  • 20-100 кГц, с шагом 10 кГц, можность до 200Вт, шаг 1 Вт.
  • 13.56 МГц, до 300 Вт, автоматическое согласование
Контроль Ручной или автоматический
7" тач дисплей, PLC
Размеры
  • корпус : 510×525×640 (W×D×H, mm)
  • вакуумны насос : 480×160×250 (W×D×H, mm)
Подключение 220 В, 50 Гц

Запросить предложение можно по ссылке или направив нам письмо по адресу info@minateh.ru

Запросить предложение товара

Установка плазменной очистки COVANCE от Femto Science (Корея)

Также Вас может заинтересовать
Установка плазменной очистки Pico

Установка плазменной очистки низкого давления модели Pico производства Diener electronic (Германия)

Применение: очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы), создание гидрофобных и гидрофильных покрытий, карбонизация, снятие и подчистка фоторезста

Камера: цилиндрическая или прямоугольная, около 5 литров
Вакуумный насос на выбор
Ганератор 40 кГц, до 1000 Вт или 13,56 МГц, до 300 Вт или 2,45 ГГц, до 300 Вт. 
Управление: ручное или автоматическое (PLC или PC)
Газовые линии - до 3 шт (игольчатые глапана или MFC)

Установка плазменной очистки низкого давления модели Pico производства Diener electronic (Германия)

Применение: очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы), создание гидрофобных и гидрофильных покрытий, карбонизация, снятие и подчистка фоторезста

Камера: цилиндрическая или прямоугольная, около 5 литров
Вакуумный насос на выбор
Ганератор 40 кГц, до 1000 Вт или 13,56 МГц, до 300 Вт или 2,45 ГГц, до 300 Вт. 
Управление: ручное или автоматическое (PLC или PC)
Газовые линии - до 3 шт (игольчатые глапана или MFC)

Уже установлено в России и СНГ: 15 шт
Установка плазменной очистки при атмосферном давлении серии PlasmaBeam

Установка плазменной очистки при атмосферном давлении серии PlasmaBeam производства Diener electronic (Германия)

Генератор атмосферной плазмы „plasma system PlasmaBeam“ рассчитан, главным образом, на локальную предварительную обработку (очистку, активацию) различных поверхностей:

полимерных
металлических
керамических
стеклянных
из комбинированных материалов

„Plasma system PlasmaBeam“ может устанавливаться в существующие автоматические производственные линии без больших затрат.

Установка плазменной очистки при атмосферном давлении серии PlasmaBeam производства Diener electronic (Германия)

Генератор атмосферной плазмы „plasma system PlasmaBeam“ рассчитан, главным образом, на локальную предварительную обработку (очистку, активацию) различных поверхностей:

полимерных
металлических
керамических
стеклянных
из комбинированных материалов

„Plasma system PlasmaBeam“ может устанавливаться в существующие автоматические производственные линии без больших затрат.

Уже установлено в России и СНГ: 1 шт
Установка плазменной очистки Zepto (low cost system)

Установка плазменной очистки низкого давления модели Zepto производства Diener electronic (Германия)

Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы)

Камера: цилиндрическая, от 1,7 до 2,6 литра
Вакуумный насос 
Ганератор: 100 кГц, до 30 Вт, 40кГц, до 100 Вт, 13,56 МГц, до 30 Вт., 13,56 МГц, до 200 Вт
Управление: ручное или автоматическое (PLC или PC)
Газовые линии - до 2 шт (игольчатые глапана или MFC)

Установка плазменной очистки низкого давления модели Zepto производства Diener electronic (Германия)

Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы)

Камера: цилиндрическая, от 1,7 до 2,6 литра
Вакуумный насос 
Ганератор: 100 кГц, до 30 Вт, 40кГц, до 100 Вт, 13,56 МГц, до 30 Вт., 13,56 МГц, до 200 Вт
Управление: ручное или автоматическое (PLC или PC)
Газовые линии - до 2 шт (игольчатые глапана или MFC)

Уже установлено в России и СНГ: 9 шт