+7 (495) 909-89-53

Установка плазменной очистки COGRADE от Femto Science (Корея)

Установка плазменной очистки низкого давления модели COGRADE от FEMTO SCIENCE

Установка плазменной очистки низкого давления модели COGRADE производства FEMTO SCIENCE (Ю. Корея)

Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы)

Process Mode: PE
Камера: прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 250 x 300 x 200 (мм)
Вакуумный насос, ~ 5 x 10-4 Torr 
Ганератор:

  • 20-100 кГц (шаг 10 кГц), мощность до 300 Вт. 
  • 13.56 МГц, до 300 Вт 

Управление: ручное или автоматическое (PLC)
Газовые линии - до 4 шт (MFC)

Применение: 
мелкосерийное производство
аналитика (SEM, TEM)
медицина
стерилизация
исследования
археология
обработка текстиля
полупроводники
обработка пластиков

Особенности

  • Камера: прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 250 x 300 x 200 (мм)

  • Вакуумный насос

  • Датчик давления Pirani
  • Ганератор: 20-100 кГц (шаг 10 кГц), мощность до 300 Вт. / 13.56 МГц, до 300 Вт 

  • Управление: ручное или автоматическое (PLC)

  • Газовые линии - до 4 шт. (MFC)

Скачать брошюру COGRADE в PDF

Характеристики

Тип установки плазма низкого давления
Вакуумная камера прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 250 x 300 x 200 (мм)
Материал камеры Алюминий 
Подвод газа до 4-х газовых линий с MFC - Max. 500 sccm (1 sccm шаг)
Генератор плазмы
  • 20-100 кГц, с шагом 10 кГц, можность до 300Вт, шаг 1 Вт.
  • 13.56 МГц, до 300 Вт, автоматическое согласование
Контроль Ручной или автоматический
7" тач дисплей, PLC
Размеры
  • корпус : 600×615×680 (W×D×H, mm)
  • вакуумный насос : 480×160×250 (W×D×H, mm)
Подключение 220 В, 50 Гц

Запросить предложение можно по ссылке или направив нам письмо по адресу info@minateh.ru

Запросить предложение товара

Установка плазменной очистки COGRADE от Femto Science (Корея)

Также Вас может заинтересовать
Установка плазменной очистки CUTE от Femto Science (Корея)

Установка плазменной очистки низкого давления модели CUTE производства FEMTO SCIENCE (Ю. Корея)

Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы)

Process Mode: PE
Камера: прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 140 x 200 x 110 (мм)
Вакуумный насос, ~ 5 x 10-4 Torr 
Ганератор: 20-100 кГц (шаг 10 кГц), мощность до 100 Вт.
Управление: ручное или автоматическое (PLC)
Газовые линии - до 3 шт (MFC)

Установка плазменной очистки низкого давления модели CUTE производства FEMTO SCIENCE (Ю. Корея)

Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы)

Process Mode: PE
Камера: прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 140 x 200 x 110 (мм)
Вакуумный насос, ~ 5 x 10-4 Torr 
Ганератор: 20-100 кГц (шаг 10 кГц), мощность до 100 Вт.
Управление: ручное или автоматическое (PLC)
Газовые линии - до 3 шт (MFC)

Уже установлено в России и СНГ: 1 шт
Установка плазменной очистки Tetra 30 / Tetra 100 / Tetra 150

Установка плазменной очистки низкого давления модели Tetra 30 / Tetra 100 / Tetra 150 производства Diener electronic (Германия)

Применение: очистка, активация, травление (серийные процессы), создание гидрофобных и гидрофильных покрытий, карбонизация, снятие и подчистка фоторезста

Камера: цилиндрическая или прямоугольная, 30/100/150 литров
Вакуумный насос на выбор
Ганератор 40 кГц, до 2500 Вт или 13,56 МГц, до 600 Вт или 2,45 ГГц, до 1200 Вт. 
Управление: автоматическое (PLC или PC)
Газовые линии - до 3 шт (MFC)

Установка плазменной очистки низкого давления модели Tetra 30 / Tetra 100 / Tetra 150 производства Diener electronic (Германия)

Применение: очистка, активация, травление (серийные процессы), создание гидрофобных и гидрофильных покрытий, карбонизация, снятие и подчистка фоторезста

Камера: цилиндрическая или прямоугольная, 30/100/150 литров
Вакуумный насос на выбор
Ганератор 40 кГц, до 2500 Вт или 13,56 МГц, до 600 Вт или 2,45 ГГц, до 1200 Вт. 
Управление: автоматическое (PLC или PC)
Газовые линии - до 3 шт (MFC)

Уже установлено в России и СНГ: 3 шт
Установка плазменной очистки Femto

Установка плазменной очистки низкого давления модели Femto производства Diener electronic (Германия)

Применение: очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы), создание гидрофобных и гидрофильных покрытий, карбонизация, снятие и подчистка фоторезста

Камера: цилиндрическая или прямоугольная, около 2 литров
Вакуумный насос на выбор
Ганератор 40 кГц, до 200 Вт или 13,56 МГц, до 300 Вт или 2,45 ГГц, до 300 Вт. 
Управление: ручное или автоматическое (PLC или PC)
Газовые линии - до 3 шт (игольчатые глапана или MFC)

Установка плазменной очистки низкого давления модели Femto производства Diener electronic (Германия)

Применение: очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы), создание гидрофобных и гидрофильных покрытий, карбонизация, снятие и подчистка фоторезста

Камера: цилиндрическая или прямоугольная, около 2 литров
Вакуумный насос на выбор
Ганератор 40 кГц, до 200 Вт или 13,56 МГц, до 300 Вт или 2,45 ГГц, до 300 Вт. 
Управление: ручное или автоматическое (PLC или PC)
Газовые линии - до 3 шт (игольчатые глапана или MFC)

Уже установлено в России и СНГ: 2 шт