Установка плазменной очистки низкого давления модели COVANCE-RF производства FEMTO SCIENCE (Ю. Корея).
Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы)
Process Dual Mode: PE (Plasma Etching) & RIE (Reactive Ion Etching) Mode with dual electrode
Камера: прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 200 x 220 x 160 (мм)
Вакуумный насос, ~ 5×100-5 Torr
Ганератор:
Управление: ручное или автоматическое (PLC)
Газовые линии - до 4 шт (MFC)
Применение:
мелкосерийное производство
аналитика (SEM, TEM)
медицина
стерилизация
исследования
археология
обработка текстиля
полупроводники
обработка пластиков
Камера: прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 200 x 220 x 160 (мм)
Вакуумный насос
Ганератор: 13.56 МГц, до 300 Вт (опционально до 600 Вт)
Управление: ручное или автоматическое (PLC)
Газовые линии - до 4 шт. (MFC)
| Тип установки | плазма низкого давления |
| Вакуумная камера | прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 200 x 220 x 160 (мм) |
| Материал камеры | Алюминий |
| Подвод газа | до 4-х газовых линий с MFC - Max. 200 sccm (1 sccm шаг) |
| Генератор плазмы |
|
| Контроль | Ручной или автоматический 7" тач дисплей, PLC |
| Размеры |
|
| Подключение | 220 В, 50 Гц |
Установка плазменной очистки низкого давления модели Femto производства Diener electronic (Германия).
Применение: очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы), создание гидрофобных и гидрофильных покрытий, карбонизация, снятие и подчистка фоторезста
Камера: цилиндрическая или прямоугольная, около 2 литров
Вакуумный насос на выбор
Ганератор 40 кГц, до 200 Вт или 13,56 МГц, до 300 Вт или 2,45 ГГц, до 300 Вт.
Управление: ручное или автоматическое (PLC или PC)
Газовые линии - до 3 шт (игольчатые глапана или MFC)
Установка плазменной очистки низкого давления модели Femto производства Diener electronic (Германия).
Применение: очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы), создание гидрофобных и гидрофильных покрытий, карбонизация, снятие и подчистка фоторезста
Камера: цилиндрическая или прямоугольная, около 2 литров
Вакуумный насос на выбор
Ганератор 40 кГц, до 200 Вт или 13,56 МГц, до 300 Вт или 2,45 ГГц, до 300 Вт.
Управление: ручное или автоматическое (PLC или PC)
Газовые линии - до 3 шт (игольчатые глапана или MFC)
Установка плазменной очистки при атмосферном давлении Plasma Pipette производства Femto Science (Корея).
Ручная установка „Plasma Pipette“ рассчитана на локальную предварительную обработку (очистку, активацию) различных поверхностей:
полимерных
металлических
керамических
стеклянных
из комбинированных материалов
Установка плазменной очистки при атмосферном давлении Plasma Pipette производства Femto Science (Корея).
Ручная установка „Plasma Pipette“ рассчитана на локальную предварительную обработку (очистку, активацию) различных поверхностей:
полимерных
металлических
керамических
стеклянных
из комбинированных материалов
Установка плазменной очистки низкого давления модели CUTE производства FEMTO SCIENCE (Ю. Корея).
Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы)
Process Mode: PE
Камера: прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 140 x 200 x 110 (мм)
Вакуумный насос, ~ 5 x 10-4 Torr
Ганератор: 20-100 кГц (шаг 10 кГц), мощность до 100 Вт.
Управление: ручное или автоматическое (PLC)
Газовые линии - до 3 шт (MFC)
Установка плазменной очистки низкого давления модели CUTE производства FEMTO SCIENCE (Ю. Корея).
Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы)
Process Mode: PE
Камера: прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 140 x 200 x 110 (мм)
Вакуумный насос, ~ 5 x 10-4 Torr
Ганератор: 20-100 кГц (шаг 10 кГц), мощность до 100 Вт.
Управление: ручное или автоматическое (PLC)
Газовые линии - до 3 шт (MFC)
ООО "Минатех"— Микро и нано технологии
Статьи
© Все права защищены
Россия, Москва, ул. Ткацкая, д.5с1.
тел./факс: +7 (495) 909-89-53 / +7 (495) 909-89-54
моб.тел.: +7 (926) 134-69-15
e-mail: info@minateh.ru
