+7 (495) 909-89-53

Установка плазменной очистки при атмосферном давлении Plasma Pipette

Установка плазменной очистки при атмосферном давлении серии Plasma Pipette pipette-12Plasma-Pipette_buttoms plasma pipette_general application

Установка плазменной очистки при атмосферном давлении Plasma Pipette производства Femto Science (Корея)

Ручная установка „Plasma Pipette“ рассчитана на локальную предварительную обработку (очистку, активацию) различных поверхностей:

полимерных
металлических
керамических
стеклянных
из комбинированных материалов

Применение: 
MEMS, Биочипы, Микрофлюидика
Мелкосерийное производство
Медицинская техника
Стерилизация
Научно-исследовательские работы
Археология
Текстильная промышленность
Полупроводниковая техника
Техника обработки пластмасс

 „Plasma Pipette“ является агрегатом предварительной обработки для следующих процессов:

-Склеивания
-Микросварки
-Печати
-Каширования
-Пайки
-Сварки
- на поверхностях из пластмасс, стекла, керамики и комбинированных материалов.

Активная газовая струя, выходящая из сопла плазменной горелки, свободна от потенциала высокого напряжения. Это позволяет применять установку в электронной промышленности, например:
-для очистки контактных площадок при микросварке проволочных соединений
-для очистки и активации контактов ЖК-мониторов перед термосваркой
-для активации поверхностей чипов перед печатью

Особенности

  • Простота использования

  • Широкий круг применений



Скачать брошюру Plasma Pipette в PDF

Характеристики

Тип установки плазма атмосферного давления
Размеры и вес

52(W) x 76(D) x 270(H) мм, 375 грамм.

Газ

Аргон (0,5-1,5 Бар), трубка 4мм

Охлаждение не требуется
Управление Ручное 
Контроль Ручной, кнопки
Подключение 220 В, 50 Гц , 1,2А

Видеопрезентация установки Plasma Pipette



Запросить предложение можно по ссылке или направив нам письмо по адресу info@minateh.ru

Запросить предложение товара

Установка плазменной очистки при атмосферном давлении Plasma Pipette

Также Вас может заинтересовать
Установка плазменной очистки COVANCE от Femto Science (Корея)

Установка плазменной очистки низкого давления модели COVANCE производства FEMTO SCIENCE (Ю. Корея)

Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы)

Process Mode: PE
Камера: прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 200 x 220 x 160 (мм)
Вакуумный насос, ~ 5 x 10-4 Torr 
Ганератор:

  • 20-100 кГц (шаг 10 кГц), мощность до 200 Вт.
  • 13.56 МГц, до 300 Вт 

Управление: ручное или автоматическое (PLC)
Газовые линии - до 4 шт (MFC)

Установка плазменной очистки низкого давления модели COVANCE производства FEMTO SCIENCE (Ю. Корея)

Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы)

Process Mode: PE
Камера: прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 200 x 220 x 160 (мм)
Вакуумный насос, ~ 5 x 10-4 Torr 
Ганератор:

  • 20-100 кГц (шаг 10 кГц), мощность до 200 Вт.
  • 13.56 МГц, до 300 Вт 

Управление: ручное или автоматическое (PLC)
Газовые линии - до 4 шт (MFC)

Уже установлено в России и СНГ: 7 шт
Установка плазменной очистки CUTE от Femto Science (Корея)

Установка плазменной очистки низкого давления модели CUTE производства FEMTO SCIENCE (Ю. Корея)

Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы)

Process Mode: PE
Камера: прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 140 x 200 x 110 (мм)
Вакуумный насос, ~ 5 x 10-4 Torr 
Ганератор: 20-100 кГц (шаг 10 кГц), мощность до 100 Вт.
Управление: ручное или автоматическое (PLC)
Газовые линии - до 3 шт (MFC)

Установка плазменной очистки низкого давления модели CUTE производства FEMTO SCIENCE (Ю. Корея)

Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы)

Process Mode: PE
Камера: прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 140 x 200 x 110 (мм)
Вакуумный насос, ~ 5 x 10-4 Torr 
Ганератор: 20-100 кГц (шаг 10 кГц), мощность до 100 Вт.
Управление: ручное или автоматическое (PLC)
Газовые линии - до 3 шт (MFC)

Уже установлено в России и СНГ: 1 шт
Установка плазменной очистки Nano

Установка плазменной очистки низкого давления модели Nano производства Diener electronic (Германия)

Применение: очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы), создание гидрофобных и гидрофильных покрытий, карбонизация, снятие и подчистка фоторезста

Камера: цилиндрическая или прямоугольная, около 18 литров
Вакуумный насос на выбор
Ганератор 40 кГц, до 1000 Вт или 13,56 МГц, до 300 Вт или 2,45 ГГц, до 600 Вт. 
Управление: ручное или автоматическое (PLC или PC)
Газовые линии - до 3 шт (игольчатые глапана или MFC)

Установка плазменной очистки низкого давления модели Nano производства Diener electronic (Германия)

Применение: очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы), создание гидрофобных и гидрофильных покрытий, карбонизация, снятие и подчистка фоторезста

Камера: цилиндрическая или прямоугольная, около 18 литров
Вакуумный насос на выбор
Ганератор 40 кГц, до 1000 Вт или 13,56 МГц, до 300 Вт или 2,45 ГГц, до 600 Вт. 
Управление: ручное или автоматическое (PLC или PC)
Газовые линии - до 3 шт (игольчатые глапана или MFC)

Уже установлено в России и СНГ: 14 шт