Напольные установки плазменной очистки низкого давления модели COWIN производства FEMTO SCIENCE (Ю. Корея) с индивидуальной компановкой и различными размерми камеры.
Применение: Исследовательские работы и промышленное производство, очистка, активация, травление (мелкосерийные и круаносерийные процессы)
Process Mode: PE (Plasma Etching) / RIE (Reactive Ion Etching) / dual RIE/PE Mode with dual electrode
Камера: прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 330 x 350 x 340 (мм) или БОЛЕЕ по запросу заказчика
Вакуумный насос, ~ 5 x 10-4 Torr
Ганератор: 20-100 кГц (шаг 10 кГц), мощность до 1000 Вт. или 13,56 МГц, 300 Вт. или 600Вт.
Управление: ручное или автоматическое (PLC)
Газовые линии - до 4 шт (MFC)
Применение:
Микроэлектроника
Нанотехнологии и 2D материаллы
мелкосерийное производство
серийное производство
медицина
стерилизация
исследования
археология
обработка текстиля
полупроводники
обработка пластиков
Камера: прямоугольная (алюминий), 330 x 350 x 340 (мм) или БОЛЕЕ по запросу заказчика
Вакуумный насос
Ганератор: 20-100 кГц (шаг 10 кГц), мощность до 1000 Вт. или 13,56 МГц, 300 Вт. или 600Вт.
Управление: ручное или автоматическое (PLC)
Газовые линии - до 4 шт. (MFC)
| Тип установки | плазма низкого давления |
| Вакуумная камера | прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 330 x 350 x 340 (мм) или БОЛЕЕ по запросу заказчика |
| Материал камеры | Алюминий, Камеры с одним электродом или несколькими полками-электродами |
| Подвод газа | до 4-х газовых линий с MFC - Max.500 sccm (1 sccm шаг) |
| Генератор плазмы | 20-100 кГц (шаг 10 кГц), мощность до 1000 Вт. или 13,56 МГц, 300 Вт. или 600Вт. |
| Контроль | Ручной или автоматический 10,5" тач дисплей, PLC |
| Размеры |
|
| Подключение | 220 В, 50 Гц или 380В (3 фазы) |
Установка плазменной очистки низкого давления модели CIONE 6 производства FEMTO SCIENCE (Ю. Корея) с двумя режимами плазменной обработки - RIE & PE
Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, прецизионное травление тонких слоев (мелкосерийные процессы), травление 2D материаллов
Process Mode: Mode: PE (Plasma Etching) & RIE (Reactive Ion Etching) Mode with dual electrode
Камера: прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 200 x 220 x 160 (мм)
Вакуумный насос, ~ 5 x 10-4 Torr
Ганератор: 20-100 кГц (шаг 10 кГц), мощность до 300 Вт. или 13,56 МГц, 300 Вт.
Управление: ручное или автоматическое (PLC)
Газовые линии - до 4 шт (MFC)
Установка плазменной очистки низкого давления модели CIONE 6 производства FEMTO SCIENCE (Ю. Корея) с двумя режимами плазменной обработки - RIE & PE
Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, прецизионное травление тонких слоев (мелкосерийные процессы), травление 2D материаллов
Process Mode: Mode: PE (Plasma Etching) & RIE (Reactive Ion Etching) Mode with dual electrode
Камера: прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 200 x 220 x 160 (мм)
Вакуумный насос, ~ 5 x 10-4 Torr
Ганератор: 20-100 кГц (шаг 10 кГц), мощность до 300 Вт. или 13,56 МГц, 300 Вт.
Управление: ручное или автоматическое (PLC)
Газовые линии - до 4 шт (MFC)
Установка плазменной очистки низкого давления модели CUTE производства FEMTO SCIENCE (Ю. Корея).
Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы)
Process Mode: PE
Камера: прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 140 x 200 x 110 (мм)
Вакуумный насос, ~ 5 x 10-4 Torr
Ганератор: 20-100 кГц (шаг 10 кГц), мощность до 100 Вт.
Управление: ручное или автоматическое (PLC)
Газовые линии - до 3 шт (MFC)
Установка плазменной очистки низкого давления модели CUTE производства FEMTO SCIENCE (Ю. Корея).
Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы)
Process Mode: PE
Камера: прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 140 x 200 x 110 (мм)
Вакуумный насос, ~ 5 x 10-4 Torr
Ганератор: 20-100 кГц (шаг 10 кГц), мощность до 100 Вт.
Управление: ручное или автоматическое (PLC)
Газовые линии - до 3 шт (MFC)
Установка плазменной очистки низкого давления модели CIONE 4 производства FEMTO SCIENCE (Ю. Корея) с двумя режимами плазменной обработки - RIE & PE
Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, прецизионное травление тонких слоев (мелкосерийные процессы), травление 2D материаллов
Process Mode: Mode: PE (Plasma Etching) & RIE (Reactive Ion Etching) Mode with dual electrode
Камера: прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 140 x 200 x 110 (мм)
Вакуумный насос, ~ 5 x 10-4 Torr
Ганератор: 20-100 кГц (шаг 10 кГц), мощность до 100 Вт.
Управление: ручное или автоматическое (PLC)
Газовые линии - до 3 шт (MFC)
Установка плазменной очистки низкого давления модели CIONE 4 производства FEMTO SCIENCE (Ю. Корея) с двумя режимами плазменной обработки - RIE & PE
Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, прецизионное травление тонких слоев (мелкосерийные процессы), травление 2D материаллов
Process Mode: Mode: PE (Plasma Etching) & RIE (Reactive Ion Etching) Mode with dual electrode
Камера: прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 140 x 200 x 110 (мм)
Вакуумный насос, ~ 5 x 10-4 Torr
Ганератор: 20-100 кГц (шаг 10 кГц), мощность до 100 Вт.
Управление: ручное или автоматическое (PLC)
Газовые линии - до 3 шт (MFC)
ООО "Минатех"— Микро и нано технологии
Статьи
© Все права защищены
Россия, Москва, ул. Ткацкая, д.5с1.
тел./факс: +7 (495) 909-89-53 / +7 (495) 909-89-54
моб.тел.: +7 (926) 134-69-15
e-mail: info@minateh.ru
