Установка безмаскового совмещения и экспонирования модели MLA150 производства Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH (Германия).
Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH (Германия) представила новую линейку установок для безмаскового совмещения и экспонирования (MLA - Maskless Aligners).
MLA150 специально разработан для удобства эксплуатации и включает в себя все ноу-хау в безмасковой литографии, которые компания собрала за последние 30 лет. Литограф MLA150 прдлагает все возможности, необходимые для однослойных и многослойных применений.
Установку MLA150 отличает от других генераторов шаблонов не только удобство, но и экстремальная скорость экспонирования. Экспонирование области 100x100 мм² с размером структур 1 микрон займет менее 10 минут, а с топологичеким размером 0,6 мкм займет 35 минут соотвественно - независимо от коэффициента заполнения или количество структур в этой области. Совмещение в многослойных применениях достигается в течение 2 минут с помощью трех интегрированных камер с различным разрешением. Точность совмещения от слоя к слою лучше чем 500 нм (0,5 мкм) и не зависит от уровня оператора.
Экспонирование по фоторезсту или фотоэмульсии.
Применение установки MLA150: медицина. MEMS, микрооптика, Полупроводники, сенсоры, датчики, MOEMS, исследование материалов, нанотрубки, графены и др.
Система может быть оснащена либо диодным лазером, работающим на длине волны 405 нм с мощностью 8 Вт, либо UV диодным лазером, работающим на длине волны 375 нм с мощностью 2,8 Вт. Можно установить оба лазера для работы как со стандартными резистами, так и с негативными резистами, в том числе с SU8.
Лазеры устанавливаются и используются в зависимости от применения.
Опции:
Обратное совмещения (BSA - back side alignment)
Серая шкала (128 уровней градаци серого) - опция
Оптический автофокус (для работы с подложками меньше чем 5х5 мм2 - опция
Режим с высоким аспектным отношением - опция
Автоматическое совмещения по реперам на каждом из чипов - опция
Минимальный топологически размер 0,6 мкм (WM I) или 1,0 мкм (WM II).
Размер шаблонов или пластин до 9 х 9 дюймов.
Область экспонирования до 150 х 150 мм. или до Ø150 мм (до 200 x 200 мм - опционально)
Точность совмещения (100x100 мм² [3sigma, нм]) - 500 нм. (0,5 микрон)
Время экспонирования области 100х100 мм² - 9 минут для 1 мкм и 35 минут для 0,6 мкм.
Источники излучения: диодный лазер, 405 нм, 8 Вт, 10000 часов, UV диодный лазер, 375 нм, 2,8 Вт, 10000 часов (для стандартных и УФ-резистов таких как SU8). Возможность поставить оба лазера на установку.
| Источник засвеки для экспонирования | WM I | WM II |
| Минимальный размер элемента топологии, мкм | 0,6 | 1,0 |
| Linewidth variation (равномерность ширины линии), (3σ, нм) | 100 | 120 |
| Точность совмещения 2-ого слоя по глобальным реперам, (3σ, нм) | 500 | 500 |
| Точность совмещения 2-ого слоя по реперам на чипе, (3σ, нм) | 250 | 250 |
| Точность совмещения по обратной стороне, (3σ, нм) | 1000 | 1000 |
| Время экспонирования пластины Ø100 мм, мин (для лазера 405 нм) | 35 | 9 |
| Время экспонирования пластины Ø100 мм, мин (для лазера 375 нм) | 35 | 20 |
| Максимальная скорость экспонирования, мм2 /мин (для лазера 405 нм) | 285 | 1100 |
| Максимальная скорость экспонирования, мм2 /мин (для лазера 375 нм) | 285 | 500 |
| Область письма (экспонирования), мм | 150 х 150 или до Ø150 (до 200х200 - опция) |
|
Настольная модель mPG 101 лазерной безмасковой литографии производства Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH (Германия).
Установка предназначена для решения задач, не требующих высокой производительности - лабораторные исследования, НИОКР, опытное производство.
Экспонирование по фоторезсту или фотоэмульсии.
Минимальный топологический размер 0,6 мкм.
Сменные пишущие головки на 0,6 мкм, 1,0 мкм, 2,5 мкм, 5,0 мкм.
Скорость письма от 1 до 90 мм2/мин в зависимости от выбора пишущей линзы.
Размер шаблонов или пластин до 6 х 6 дюймов.
Область экспонирования до 125 х 125 мм.
Растровое (бинарное) экспонирование, векторное экспонирование (Vector Exposure Mode) и 3D экспонирование для режима полутоновой шкалы экспонирования (Basic Gray Scale ExposureMode).
Настольная модель mPG 101 лазерной безмасковой литографии производства Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH (Германия).
Установка предназначена для решения задач, не требующих высокой производительности - лабораторные исследования, НИОКР, опытное производство.
Экспонирование по фоторезсту или фотоэмульсии.
Минимальный топологический размер 0,6 мкм.
Сменные пишущие головки на 0,6 мкм, 1,0 мкм, 2,5 мкм, 5,0 мкм.
Скорость письма от 1 до 90 мм2/мин в зависимости от выбора пишущей линзы.
Размер шаблонов или пластин до 6 х 6 дюймов.
Область экспонирования до 125 х 125 мм.
Растровое (бинарное) экспонирование, векторное экспонирование (Vector Exposure Mode) и 3D экспонирование для режима полутоновой шкалы экспонирования (Basic Gray Scale ExposureMode).
Промышленная установка безмаскового совмещения и экспонирования для промышленности модели MLA300 для серийного производства производства Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH (Германия).
MLA300 предназначена для решения задач, требующих высокой производительности и может заменить вашу автоматическую установку совмещения и экспонирования на производстве.
MLA300 автоматизирована и оснащена роботом-загрузчиком и портами загрузки, а также программное обеспечение, специально разработанное для производственной среды и предлагающее упрощенный автоматизированный рабочий процесс.
Преимущества установки в стоимости владения и отсутствии фотошаблонного хозяйства на производстве.
Минимальный топологический размер до 1,5 мкм.
Минимальный размер линии для переодической структуры [half pitch, мкм] - 2,0 мкм
Область экспонирования до 300 х 300 мм
Точность совмещения, [3σ, нм] - 500 нм.
Точность совмещения по обратной стороне - BSA, [3σ, нм] - 1000 нм.
Скорость экспонирования 5000 мм2/мин на длине волны 405 нм и одним модулем экспонирования
Автофокус в реальном времени
Совмещение по верхней и нижней стороне пластины
Контроль климата
Источники 405 и/или 375 нм
Промышленная установка безмаскового совмещения и экспонирования для промышленности модели MLA300 для серийного производства производства Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH (Германия).
MLA300 предназначена для решения задач, требующих высокой производительности и может заменить вашу автоматическую установку совмещения и экспонирования на производстве.
MLA300 автоматизирована и оснащена роботом-загрузчиком и портами загрузки, а также программное обеспечение, специально разработанное для производственной среды и предлагающее упрощенный автоматизированный рабочий процесс.
Преимущества установки в стоимости владения и отсутствии фотошаблонного хозяйства на производстве.
Минимальный топологический размер до 1,5 мкм.
Минимальный размер линии для переодической структуры [half pitch, мкм] - 2,0 мкм
Область экспонирования до 300 х 300 мм
Точность совмещения, [3σ, нм] - 500 нм.
Точность совмещения по обратной стороне - BSA, [3σ, нм] - 1000 нм.
Скорость экспонирования 5000 мм2/мин на длине волны 405 нм и одним модулем экспонирования
Автофокус в реальном времени
Совмещение по верхней и нижней стороне пластины
Контроль климата
Источники 405 и/или 375 нм
Настольная установка безмаскового совмещения и экспонирования модели µMLA производства Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH (Германия).
µMLA предназначена для решения задач, не требующих очень высокой производительности - лабораторные исследования, НИОКР, опытное производство и др. Высокая производительность, малая занимаемая площадь, низкая стоимость использования.
Установка μMLA представляет собой новое поколение настольных установок лазерной безмасковой литографии: позволяет точно подбирать режим экспонирования исходя из ваших задач, включает модуль растрового экспонирования с возможностью выбора пищущей линзы и разрешения, модуль векторного экспонирования или оба модуля одновременно в одной машине.
Экспонирование по фоторезсту или фотоэмульсии.
Минимальный топологический размер до 0,6 мкм.
Максимальный размер шаблонов или пластин до 5 х 5 дюймов
Минимальный размер пластин: 5 х 5 мм
Область экспонирования до 150 х 150 мм
Точность совмещения (50x50 мм² [3σ, нм]) - 1000 нм.
Точность совмещения (5x5 мм² [3σ, нм]) - 500 нм.
Скорость экспонирования до 300 мм2/мин.
Растровое (бинарное) экспонирование, вектороное экспонирование и 3D экспонирование для режима полутоновой шкалы экспонирования (Basic Gray Scale Exposure Mode).
Настольная установка безмаскового совмещения и экспонирования модели µMLA производства Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH (Германия).
µMLA предназначена для решения задач, не требующих очень высокой производительности - лабораторные исследования, НИОКР, опытное производство и др. Высокая производительность, малая занимаемая площадь, низкая стоимость использования.
Установка μMLA представляет собой новое поколение настольных установок лазерной безмасковой литографии: позволяет точно подбирать режим экспонирования исходя из ваших задач, включает модуль растрового экспонирования с возможностью выбора пищущей линзы и разрешения, модуль векторного экспонирования или оба модуля одновременно в одной машине.
Экспонирование по фоторезсту или фотоэмульсии.
Минимальный топологический размер до 0,6 мкм.
Максимальный размер шаблонов или пластин до 5 х 5 дюймов
Минимальный размер пластин: 5 х 5 мм
Область экспонирования до 150 х 150 мм
Точность совмещения (50x50 мм² [3σ, нм]) - 1000 нм.
Точность совмещения (5x5 мм² [3σ, нм]) - 500 нм.
Скорость экспонирования до 300 мм2/мин.
Растровое (бинарное) экспонирование, вектороное экспонирование и 3D экспонирование для режима полутоновой шкалы экспонирования (Basic Gray Scale Exposure Mode).
ООО "Минатех"— Микро и нано технологии
Статьи
© Все права защищены
Россия, Москва, ул. Ткацкая, д.5с1.
тел./факс: +7 (495) 909-89-53 / +7 (495) 909-89-54
моб.тел.: +7 (926) 134-69-15
e-mail: info@minateh.ru
