+7 (495) 909-89-53

Установка плазменной очистки и травления CIONE 6 (PE/RIE) от Femto Science (Корея)

Установка плазменной очистки низкого давления модели CIONE 4 от FEMTO SCIENCE с двумя режимами RIE и PE

Установка плазменной очистки низкого давления модели CIONE 6 производства FEMTO SCIENCE (Ю. Корея) с двумя режимами плазменной обработки - RIE & PE

Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, прецизионное травление тонких слоев (мелкосерийные процессы), травление 2D материаллов

Process Mode: Mode: PE (Plasma Etching) & RIE (Reactive Ion Etching) Mode with dual electrode
Камера: прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 200 x 220 x 160 (мм)
Вакуумный насос, ~ 5 x 10-4 Torr 
Ганератор: 20-100 кГц (шаг 10 кГц), мощность до 300 Вт. или 13,56 МГц, 300 Вт.
Управление: ручное или автоматическое (PLC)
Газовые линии - до 4 шт (MFC)

Применение: 
Микроэлектроника
Нанотехнологии и 2D материаллы
мелкосерийное производство
аналитика (SEM, TEM)
медицина
стерилизация
исследования
археология
обработка текстиля
полупроводники
обработка пластиков

Особенности

  • Камера: прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 200 x 220 x 160 (мм)

  • Вакуумный насос

  • Датчик давления Pirani
  • Ганератор: 20-100 кГц (шаг 10 кГц), мощность до 300 Вт. или 13,56 МГц, 300 Вт.

  • Управление: ручное или автоматическое (PLC)

  • Газовые линии - до 4 шт. (MFC)

Скачать брошюру CIONE в PDF

Характеристики

Тип установки плазма низкого давления
Вакуумная камера прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 200 x 220 x 160 (мм)
Материал камеры Алюминий 
Подвод газа до 4-х газовых линий с MFC - Max.200 sccm (1 sccm шаг)
Генератор плазмы 20-100 кГц, с шагом 10 кГц
можность до 300Вт, шаг 1 Вт.
Контроль Ручной или автоматический
7" тач дисплей, PLC
Размеры
  • корпус : 440×500×560 (W×D×H, mm)
  • вакуумный насос: 460×160×250 (W×D×H, mm)
Подключение 220 В, 50 Гц


Запросить предложение можно по ссылке или направив нам письмо по адресу info@minateh.ru

Запросить предложение товара

Установка плазменной очистки и травления CIONE 6 (PE/RIE) от Femto Science (Корея)

Также Вас может заинтересовать
Установка плазменной очистки COVANCE от Femto Science (Корея)

Установка плазменной очистки низкого давления модели COVANCE производства FEMTO SCIENCE (Ю. Корея)

Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы)

Process Mode: PE
Камера: прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 200 x 220 x 160 (мм)
Вакуумный насос, ~ 5 x 10-4 Torr 
Ганератор:

  • 20-100 кГц (шаг 10 кГц), мощность до 200 Вт.
  • 13.56 МГц, до 300 Вт 

Управление: ручное или автоматическое (PLC)
Газовые линии - до 4 шт (MFC)

Установка плазменной очистки низкого давления модели COVANCE производства FEMTO SCIENCE (Ю. Корея)

Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы)

Process Mode: PE
Камера: прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 200 x 220 x 160 (мм)
Вакуумный насос, ~ 5 x 10-4 Torr 
Ганератор:

  • 20-100 кГц (шаг 10 кГц), мощность до 200 Вт.
  • 13.56 МГц, до 300 Вт 

Управление: ручное или автоматическое (PLC)
Газовые линии - до 4 шт (MFC)

Уже установлено в России и СНГ: 7 шт
Установка плазменной очистки COGRADE от Femto Science (Корея)

Установка плазменной очистки низкого давления модели COGRADE производства FEMTO SCIENCE (Ю. Корея)

Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы)

Process Mode: PE
Камера: прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 250 x 300 x 200 (мм)
Вакуумный насос, ~ 5 x 10-4 Torr 
Ганератор:

  • 20-100 кГц (шаг 10 кГц), мощность до 300 Вт.
  • 13.56 МГц, до 300 Вт 

Управление: ручное или автоматическое (PLC)
Газовые линии - до 4 шт (MFC)

Установка плазменной очистки низкого давления модели COGRADE производства FEMTO SCIENCE (Ю. Корея)

Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы)

Process Mode: PE
Камера: прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 250 x 300 x 200 (мм)
Вакуумный насос, ~ 5 x 10-4 Torr 
Ганератор:

  • 20-100 кГц (шаг 10 кГц), мощность до 300 Вт.
  • 13.56 МГц, до 300 Вт 

Управление: ручное или автоматическое (PLC)
Газовые линии - до 4 шт (MFC)

Установка плазменной очистки Nano

Установка плазменной очистки низкого давления модели Nano производства Diener electronic (Германия)

Применение: очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы), создание гидрофобных и гидрофильных покрытий, карбонизация, снятие и подчистка фоторезста

Камера: цилиндрическая или прямоугольная, около 18 литров
Вакуумный насос на выбор
Ганератор 40 кГц, до 1000 Вт или 13,56 МГц, до 300 Вт или 2,45 ГГц, до 600 Вт. 
Управление: ручное или автоматическое (PLC или PC)
Газовые линии - до 3 шт (игольчатые глапана или MFC)

Установка плазменной очистки низкого давления модели Nano производства Diener electronic (Германия)

Применение: очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы), создание гидрофобных и гидрофильных покрытий, карбонизация, снятие и подчистка фоторезста

Камера: цилиндрическая или прямоугольная, около 18 литров
Вакуумный насос на выбор
Ганератор 40 кГц, до 1000 Вт или 13,56 МГц, до 300 Вт или 2,45 ГГц, до 600 Вт. 
Управление: ручное или автоматическое (PLC или PC)
Газовые линии - до 3 шт (игольчатые глапана или MFC)

Уже установлено в России и СНГ: 14 шт