Установка плазменной очистки и травления CIONE 6 (PE/RIE) от Femto Science (Корея)

Установка плазменной очистки низкого давления модели CIONE 4 производства FEMTO SCIENCE (Ю. Корея) с двумя режимами плазменной обработки - RIE & PE

Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, прецизионное травление тонких слоев (мелкосерийные процессы), травление 2D материаллов

Process Mode: Mode: PE (Plasma Etching) & RIE (Reactive Ion Etching) Mode with dual electrode
Камера: прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 140 x 200 x 110 (мм)
Вакуумный насос, ~ 5 x 10-4 Torr 
Ганератор: 20-100 кГц (шаг 10 кГц), мощность до 100 Вт.
Управление: ручное или автоматическое (PLC)
Газовые линии - до 3 шт (MFC)

Установка плазменной очистки низкого давления модели Zepto производства Diener electronic (Германия). 

Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы)

Камера: цилиндрическая, от 1,7 до 2,6 литра
Вакуумный насос 
Ганератор: 100 кГц, до 30 Вт, 40кГц, до 100 Вт, 13,56 МГц, до 30 Вт., 13,56 МГц, до 200 Вт
Управление: ручное или автоматическое (PLC или PC)
Газовые линии - до 2 шт (игольчатые глапана или MFC)

Установка плазменной очистки низкого давления модели COVANCE производства FEMTO SCIENCE (Ю. Корея). 

Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы)

Process Mode: PE
Камера: прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 200 x 220 x 160 (мм)
Вакуумный насос, ~ 5 x 10-4 Torr 
Ганератор:

• 20-100 кГц (шаг 10 кГц), мощность до 200 Вт.
• 13.56 МГц, до 300 Вт 

Управление: ручное или автоматическое (PLC)
Газовые линии - до 4 шт (MFC)