Установка плазменной очистки низкого давления модели Nano производства Diener electronic (Германия).
Применение: очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы), создание гидрофобных и гидрофильных покрытий, карбонизация, снятие и подчистка фоторезста
Примеры применения по отраслям...
Камера: цилиндрическая или прямоугольная, около 18 литров
Вакуумный насос на выбор
Ганератор 40 кГц, до 1000 Вт или 13,56 МГц, до 300 Вт или 2,45 ГГц, до 600 Вт.
Управление: ручное или автоматическое (PLC или PC)
Газовые линии - до 3 шт. (игольчатые глапана или MFC)
| Тип установки | плазма низкого давления |
| Вакуумная камера | цилиндрическая, около 18 литров: Ø 240 мм, глубина 400 мм прямоугольная, около 24 литров: 240 х 240 х 420 мм |
| Материал камеры | Боросиликатное стекло или кварцевое стекло или нержавеющая сталь |
| Подвод газа | до 3-х газовых линий с игольчатым клапанов или MFC |
| Генератор плазмы | 40 кГц, до 1000 Вт 13,56 МГц, до 300 Вт 2,45 ГГц, до 600 Вт |
| Контроль | Ручной PCCE-Control (Microsoft Windows CE) - PLC PC-Control (Microsoft Windows XPe) - PC |
| Производительность вакуумного насоса | сухой насос или лопастной по выбору |
| Подключение | 220 В, 50 Гц или 400В, 3 фазы (в зависимости от конфигурации) |
Напольные установки плазменной очистки низкого давления модели COWIN производства FEMTO SCIENCE (Ю. Корея) с индивидуальной компановкой и различными размерми камеры.
Применение: Исследовательские работы и промышленное производство, очистка, активация, травление (мелкосерийные и круаносерийные процессы)
Process Mode: PE (Plasma Etching) / RIE (Reactive Ion Etching) / dual RIE/PE Mode with dual electrode
Камера: прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 330 x 350 x 340 (мм) или БОЛЕЕ по запросу заказчика
Вакуумный насос, ~ 5 x 10-4 Torr
Ганератор: 20-100 кГц (шаг 10 кГц), мощность до 1000 Вт. или 13,56 МГц, 300 Вт. или 600Вт.
Управление: ручное или автоматическое (PLC)
Газовые линии - до 4 шт (MFC)
Напольные установки плазменной очистки низкого давления модели COWIN производства FEMTO SCIENCE (Ю. Корея) с индивидуальной компановкой и различными размерми камеры.
Применение: Исследовательские работы и промышленное производство, очистка, активация, травление (мелкосерийные и круаносерийные процессы)
Process Mode: PE (Plasma Etching) / RIE (Reactive Ion Etching) / dual RIE/PE Mode with dual electrode
Камера: прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 330 x 350 x 340 (мм) или БОЛЕЕ по запросу заказчика
Вакуумный насос, ~ 5 x 10-4 Torr
Ганератор: 20-100 кГц (шаг 10 кГц), мощность до 1000 Вт. или 13,56 МГц, 300 Вт. или 600Вт.
Управление: ручное или автоматическое (PLC)
Газовые линии - до 4 шт (MFC)
Установка плазменной очистки низкого давления модели Zepto производства Diener electronic (Германия).
Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы)
Камера: цилиндрическая, от 1,7 до 2,6 литра
Вакуумный насос
Ганератор: 100 кГц, до 30 Вт, 40кГц, до 100 Вт, 13,56 МГц, до 30 Вт., 13,56 МГц, до 200 Вт
Управление: ручное или автоматическое (PLC или PC)
Газовые линии - до 2 шт (игольчатые глапана или MFC)
Установка плазменной очистки низкого давления модели Zepto производства Diener electronic (Германия).
Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы)
Камера: цилиндрическая, от 1,7 до 2,6 литра
Вакуумный насос
Ганератор: 100 кГц, до 30 Вт, 40кГц, до 100 Вт, 13,56 МГц, до 30 Вт., 13,56 МГц, до 200 Вт
Управление: ручное или автоматическое (PLC или PC)
Газовые линии - до 2 шт (игольчатые глапана или MFC)
Установка плазменной очистки низкого давления модели ATTO производства Diener electronic (Германия).
Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы)
Камера: цилиндрическая, около 10,5 литра
Вакуумный насос, 3 или 5 м3/час
Ганератор 40 кГц, до 200 Вт или 13,56 МГц, до 200 Вт.
Управление: ручное или автоматическое (PLC или PC)
Газовые линии - до 2 шт (игольчатые глапана или MFC)
Установка плазменной очистки низкого давления модели ATTO производства Diener electronic (Германия).
Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы)
Камера: цилиндрическая, около 10,5 литра
Вакуумный насос, 3 или 5 м3/час
Ганератор 40 кГц, до 200 Вт или 13,56 МГц, до 200 Вт.
Управление: ручное или автоматическое (PLC или PC)
Газовые линии - до 2 шт (игольчатые глапана или MFC)
ООО "Минатех"— Микро и нано технологии
Статьи
© Все права защищены
Россия, Москва, ул. Ткацкая, д.5с1.
тел./факс: +7 (495) 909-89-53 / +7 (495) 909-89-54
моб.тел.: +7 (926) 134-69-15
e-mail: info@minateh.ru
