Установка плазменной очистки COGRADE от Femto Science (Корея)

Установка плазменной очистки низкого давления модели COVANCE-RF производства FEMTO SCIENCE (Ю. Корея). 

Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы)

Process Dual Mode: PE (Plasma Etching) & RIE (Reactive Ion Etching) Mode with dual electrode
Камера: прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 200 x 220 x 160 (мм)
Вакуумный насос, ~ 5×100^-5 Torr 

Ганератор:

• 13.56 МГц, до 300 Вт (опционально до 600 Вт)

Управление: ручное или автоматическое (PLC)
Газовые линии - до 4 шт (MFC)

Установка плазменной очистки при атмосферном давлении Plasma Pipette производства Femto Science (Корея). 

Ручная установка „Plasma Pipette“ рассчитана на локальную предварительную обработку (очистку, активацию) различных поверхностей:

полимерных
металлических
керамических
стеклянных
из комбинированных материалов

Установка плазменной очистки низкого давления модели Tetra 2800 производства Diener electronic (Германия). 

Производственная установка Tetra 2800-LF-PC с объемом камеры 2800 литров и компьютерным управлением используется в серийном производстве (очистка, травление и активация).

Применение: очистка, активация, травление (серийные процессы)

Шкаф распределительного устройства: Ш 600 мм, В 1700 мм, Г 800 мм
Камера: ∅ 1200 мм, Г 2500 мм
Объем камеры: прибл. 2800 литров
Подвод газа: 3 газовых канала через регуляторы массового расхода (РМР)
Генератор: 1 штука (40 кГц) (в виде опции: 13,56 МГц или 2,45 ГГц)
Управление: компьютерное управление (Windows) с промышленной шиной Fieldbus.