Вакуумные становки серии Quantum для изготовления Джозефсоновских переходов (Josephson junction) производства Angstrom Engineering Inc. (Канада). Angstrom Engineering Inc. разработал серию платформ, которые предоставляют пионерам аппаратного обеспечения квантовых вычислений средства для надежного и уверенного создания сверхпроводящих схем в автоматизированной среде с высокой повторяемостью.
Процессы:
изготовление Джозефсоновских переходов (Josephson junction)
Платформа для изготовления джозефсоновских переходов серии Quantum использует физическое осаждение из паровой фазы, ионную обработку, управление натеканием газа, точную фиксацию подложки и среду чистого вакуума для точной настройки каждого параметра изготовления джозефсоновских переходов (Josephson junction) в соответствии с технологическими требованиями заказчика.
Независимо от того, какой сверхпроводник вы выберете, технологические источники Angstrom уникально настроены для решения этой задачи. Наши многотигельные источники электронного-лучевого испарения (электронного пучка) имеют проверенный опыт изготовления переходов на основе алюминия. Наши партнеры успешно и последовательно использовали нашу технологию осаждения для создания пленок из сверхпроводящего ниобия. Все аспекты управления источниками осаждения легко контролируются с помощью Aeres, нашего передового программного обеспечения для управления технологическим процессом.
Платформа для изготовления джозефсоновских переходов Quantum Series использует ряд функций, обеспечивающих повторяемый рост чистых однородных оксидных слоев. Мы можем реализовывать статическое окисление, динамическое окисление, а также плазменное и УФ / озоновое окисление. Мы используем надежную систему очистки газа, мониторинг роста оксидов в реальном времени и прямой оптический мониторинг температуры пластины, что позволяет настраивать оксиды, воспроизводить их и надежно.
Имея более 50 ступеней наклона для теневого испарения, развернутых в системах по всему миру, Angstrom усовершенствовали конструкцию, чтобы создать чрезвычайно воспроизводимые, универсальные и надежное структуры. Платформа для изготовления джозефсоновских переходов серии Quantum предлагает ряд усовершенствований процесса, включая нагрев, охлаждение и смещение подложки.
Джозефсоновские переходы, изготовленные нашими партнерами, соответствуют установленным тестам кубитов. Эти кубиты были изготовлены с использованием оборудования Quantum Series и были независимо охарактеризованы Институтом квантовых вычислений (IQC) Университета Ватерлоо, Онтарио, Канада.
Запросить предложение можно по ссылке или направив нам письмо по адресу info@minateh.ru
Кластерные вакуумные установки NEBULA производства Angstrom Engineering Inc. (Канада) - соединение всех технологий Angstrom Engineering в одном кластере. Имеет наибольшие возможности по конфигурирования системы для задач заказчика. Может оснащаться перчаточным боксом и загрузочным шлюзом, кассетной станцией и камерами для различных процессов в зависимости от задач заказчика.
Процессы:
резистивное термическое испарение (resistive thermal evaporation)
магнетронное напыление (magnetron sputtering deposition)
электронно-лучевое испарение (electron beam evaporation)
ионное напыление (ion-assisted deposition)
Атомно-слоевое осаждение (ALD)
Плазменное травление (RIE, ICP-RIE)
Плазменное осаждение (PECVD, ICPECVD)
Кластерные вакуумные установки NEBULA производства Angstrom Engineering Inc. (Канада) - соединение всех технологий Angstrom Engineering в одном кластере. Имеет наибольшие возможности по конфигурирования системы для задач заказчика. Может оснащаться перчаточным боксом и загрузочным шлюзом, кассетной станцией и камерами для различных процессов в зависимости от задач заказчика.
Процессы:
резистивное термическое испарение (resistive thermal evaporation)
магнетронное напыление (magnetron sputtering deposition)
электронно-лучевое испарение (electron beam evaporation)
ионное напыление (ion-assisted deposition)
Атомно-слоевое осаждение (ALD)
Плазменное травление (RIE, ICP-RIE)
Плазменное осаждение (PECVD, ICPECVD)
- резистивное термическое испарение (resistive thermal evaporation)
- магнетронное напыление (magnetron sputtering deposition)
- электронно-лучевое испарение (electron beam evaporation)
- ионное напыление (ion-assisted deposition)
- резистивное термическое испарение (resistive thermal evaporation)
- магнетронное напыление (magnetron sputtering deposition)
- электронно-лучевое испарение (electron beam evaporation)
- ионное напыление (ion-assisted deposition)
Вакуумная установка Amod производства Angstrom Engineering Inc. (Канада) - сконструирована и разработана для удовлетворения продвинутых требований к процессам в одной машине для исследований в области напыления тонких пленок и мелкосерийного производства.
Может оснащаться перчаточным боксом и загрузочным шлюзом.
Пластины диаметром до 300 мм или 3 х 100 мм, до 150х150 мм.
Процессы:
резистивное термическое испарение (resistive thermal evaporation)
магнетронное напыление (magnetron sputtering deposition)
электронно-лучевое испарение (electron beam evaporation)
ионное напыление (ion-assisted deposition)
Вакуумная установка Amod производства Angstrom Engineering Inc. (Канада) - сконструирована и разработана для удовлетворения продвинутых требований к процессам в одной машине для исследований в области напыления тонких пленок и мелкосерийного производства.
Может оснащаться перчаточным боксом и загрузочным шлюзом.
Пластины диаметром до 300 мм или 3 х 100 мм, до 150х150 мм.
Процессы:
резистивное термическое испарение (resistive thermal evaporation)
магнетронное напыление (magnetron sputtering deposition)
электронно-лучевое испарение (electron beam evaporation)
ионное напыление (ion-assisted deposition)
ООО "Минатех"— Микро и нано технологии
Статьи
© Все права защищены
Россия, Москва, ул. Ткацкая, д.5с1.
тел./факс: +7 (495) 909-89-53 / +7 (495) 909-89-54
моб.тел.: +7 (926) 134-69-15
e-mail: info@minateh.ru
