Вакуумная установка NexDep производства Angstrom Engineering Inc. (Канада) - гибкий дизайн и компактное исполнение для различных применений. Система может быть сконструирована согласно требованиям заказчика.
Система Nexdep может быть построена согласно требованиям заказчика компактного размера и по экономичной цене.
Система может быть адаптирована под любой процесс: резистивное термическое испарение, магнетронное распыление или электронно-лучевое напыление, ионное асистирование.
Возможность установки нескольких разных процессов в одной камере.
Процессы:
резистивное термическое испарение (resistive thermal evaporation)
магнетронное напыление (magnetron sputtering deposition)
электронно-лучевое испарение (electron beam evaporation)
ионное напыление (ion-assisted deposition)
ø400мм x 475мм высотой D-образной формы камера с закрепленной на петлях дверью.
Камера из алюминия или нержавеющей стали (опция)
Дизайн согласно требованиям заказчика к процессам
Поддержка нескольких разных PVD процессов в одной камере.
600мм х 1000мм - площадь занимаемая системой
Автоматическое управление процессами осаждения многослойных пленок на основе рецептов.
Процесс последовательного или параллельного (co-deposition) напыления.
Контроль вакуума и вакуумная система:
- Автоматический форвакуумный насос
- Сухие насосы (опция)
- Высокий вакуум обеспечивается турбомолекулярным насосом (крионасос - опция)
- Пневматически воздушный фильтр
Управление процессом осаждения:
- теневая маска и выравнивание подложки
- легко и быстро устанавливаемые датчики для поддержки и контроля процесса
- датчики скорости осаждения для контроля и управления процессом
- конфигурация для реализации процесса соосаждения- co-deposition (параллельное осаждение нескольких материалов для получения сплава)
- QCM - изолированный датчик обеспечивает отсутствие интерференции при напылении от прилегающих источников
- Изолирующие экраны из нержавеющей стали защищающие от загрязнения от перекрестного напыления.
- Нагрев подложки, охлаждение и доп. смещение на подложку
- Планетарное вращение или GLAD держатель с изменением угла при напылении
Вакуумная установка EvoVac производства Angstrom Engineering Inc. (Канада) -одна из самых больших из серии установок Angstrom Engineering и имеет наибольшие возможности по конфигурирования системы для задач заказчика. Может оснащаться перчаточным боксом и загрузочным шлюзом.
Может оснащаться перчаточным боксом.
Пластины диаметром до 300 мм или 3 х 100 мм, до 150х150 мм.
Процессы:
резистивное термическое испарение (resistive thermal evaporation)
магнетронное напыление (magnetron sputtering deposition)
электронно-лучевое испарение (electron beam evaporation)
ионное напыление (ion-assisted deposition)
Вакуумная установка EvoVac производства Angstrom Engineering Inc. (Канада) -одна из самых больших из серии установок Angstrom Engineering и имеет наибольшие возможности по конфигурирования системы для задач заказчика. Может оснащаться перчаточным боксом и загрузочным шлюзом.
Может оснащаться перчаточным боксом.
Пластины диаметром до 300 мм или 3 х 100 мм, до 150х150 мм.
Процессы:
резистивное термическое испарение (resistive thermal evaporation)
магнетронное напыление (magnetron sputtering deposition)
электронно-лучевое испарение (electron beam evaporation)
ионное напыление (ion-assisted deposition)
Вакуумная установка Amod производства Angstrom Engineering Inc. (Канада) - сконструирована и разработана для удовлетворения продвинутых требований к процессам в одной машине для исследований в области напыления тонких пленок и мелкосерийного производства.
Может оснащаться перчаточным боксом и загрузочным шлюзом.
Пластины диаметром до 300 мм или 3 х 100 мм, до 150х150 мм.
Процессы:
резистивное термическое испарение (resistive thermal evaporation)
магнетронное напыление (magnetron sputtering deposition)
электронно-лучевое испарение (electron beam evaporation)
ионное напыление (ion-assisted deposition)
Вакуумная установка Amod производства Angstrom Engineering Inc. (Канада) - сконструирована и разработана для удовлетворения продвинутых требований к процессам в одной машине для исследований в области напыления тонких пленок и мелкосерийного производства.
Может оснащаться перчаточным боксом и загрузочным шлюзом.
Пластины диаметром до 300 мм или 3 х 100 мм, до 150х150 мм.
Процессы:
резистивное термическое испарение (resistive thermal evaporation)
магнетронное напыление (magnetron sputtering deposition)
электронно-лучевое испарение (electron beam evaporation)
ионное напыление (ion-assisted deposition)
Вакуумные установки Box Coaters для производства производства Angstrom Engineering Inc. (Канада) -самая большая из платформ установкок Angstrom Engineering и имеет наибольшие возможности по конфигурирования системы для задач заказчика. Установки предназначены для груповой обработки пластин в том числе большого диаметра.
Может оснащаться перчаточным боксом.
Пластины диамером до 300 мм.
Процессы:
резистивное термическое испарение (resistive thermal evaporation)
магнетронное напыление (magnetron sputtering deposition)
электронно-лучевое испарение (electron beam evaporation)
ионное напыление (ion-assisted deposition)
Вакуумные установки Box Coaters для производства производства Angstrom Engineering Inc. (Канада) -самая большая из платформ установкок Angstrom Engineering и имеет наибольшие возможности по конфигурирования системы для задач заказчика. Установки предназначены для груповой обработки пластин в том числе большого диаметра.
Может оснащаться перчаточным боксом.
Пластины диамером до 300 мм.
Процессы:
резистивное термическое испарение (resistive thermal evaporation)
магнетронное напыление (magnetron sputtering deposition)
электронно-лучевое испарение (electron beam evaporation)
ионное напыление (ion-assisted deposition)
ООО "Минатех"— Микро и нано технологии
Статьи
© Все права защищены
Россия, Москва, ул. Ткацкая, д.5с1.
тел./факс: +7 (495) 909-89-53 / +7 (495) 909-89-54
моб.тел.: +7 (926) 134-69-15
e-mail: info@minateh.ru
