Вакуумные установки Box Coaters для производства производства Angstrom Engineering Inc. (Канада) - самая большая из платформ установкок Angstrom Engineering и имеет наибольшие возможности по конфигурирования системы для задач заказчика. Установки предназначены для груповой обработки пластин в том числе большого диаметра.
Box Coaters самые большие по размерам установки позволяющая иметь большую гибкость по сравнению с другими. Улучшения в части большей двери и увеличения размера камеры позволяет производить групповую (серийную) обработку пластин и устанавливать большие по размеру источники. Установка для производства требующих установки большего количества различных источников в одной камере.
Возможность установки нескольких разных процессов в одной камере.
Процессы:
резистивное термическое испарение (resistive thermal evaporation)
магнетронное напыление (magnetron sputtering deposition)
электронно-лучевое испарение (electron beam evaporation)
ионное напыление (ion-assisted deposition)
Продвинутая система управления на базе ПК.
Длинная дистанция между источниками и подложкой.
Диаметр обрабатываемых подложек до 300мм. (пластины большего диаметра по запросу).
Контроль вакуума и вакуумная система:
- Автоматический форвакуумный насос
- Сухие насосы (опция)
- Высокий вакуум обеспечивается крио насосом или турбомолекулярным насосом
- Пневматически воздушный фильтр
Управление процессом осаждения:
- теневая маска и выравнивание подложки
- легко и быстро устанавливаемые датчики для поддержки и контроля процесса
- датчики скорости осаждения для контроля и управления процессом
- конфигурация для реализации процесса соосаждения- co-deposition (параллельное осаждение нескольких материалов для получения сплава)
- QCM - изолированный кварцевый датчик обеспечивает отсутствие интерференции при напылении от прилегающих источников или оптический контроль
- Изолирующие экраны из нержавеющей стали защищающие от загрязнения от перекрестного напыления.
- Нагрев или охлаждение подложки (по запросу), охлаждение или доп. смещение на подложку
- Планетарное вращение (опция), напыление под различными углами (GLAD держатель - опция)
![]()
Кластерные вакуумные установки NEBULA производства Angstrom Engineering Inc. (Канада) - соединение всех технологий Angstrom Engineering в одном кластере. Имеет наибольшие возможности по конфигурирования системы для задач заказчика. Может оснащаться перчаточным боксом и загрузочным шлюзом, кассетной станцией и камерами для различных процессов в зависимости от задач заказчика.
Процессы:
резистивное термическое испарение (resistive thermal evaporation)
магнетронное напыление (magnetron sputtering deposition)
электронно-лучевое испарение (electron beam evaporation)
ионное напыление (ion-assisted deposition)
Атомно-слоевое осаждение (ALD)
Плазменное травление (RIE, ICP-RIE)
Плазменное осаждение (PECVD, ICPECVD)
![]()
Кластерные вакуумные установки NEBULA производства Angstrom Engineering Inc. (Канада) - соединение всех технологий Angstrom Engineering в одном кластере. Имеет наибольшие возможности по конфигурирования системы для задач заказчика. Может оснащаться перчаточным боксом и загрузочным шлюзом, кассетной станцией и камерами для различных процессов в зависимости от задач заказчика.
Процессы:
резистивное термическое испарение (resistive thermal evaporation)
магнетронное напыление (magnetron sputtering deposition)
электронно-лучевое испарение (electron beam evaporation)
ионное напыление (ion-assisted deposition)
Атомно-слоевое осаждение (ALD)
Плазменное травление (RIE, ICP-RIE)
Плазменное осаждение (PECVD, ICPECVD)
![]()
Вакуумная установка ионно-лучевого распыления Reticle (IBSD) производства Angstrom Engineering Inc. (Канада) - идеальное решение для распыления оптических покрытий очень высокого качества.
Пластины диаметром до 200 мм.
Процессы:
IBSD (Ion beam sputter deposition)
![]()
Вакуумная установка ионно-лучевого распыления Reticle (IBSD) производства Angstrom Engineering Inc. (Канада) - идеальное решение для распыления оптических покрытий очень высокого качества.
Пластины диаметром до 200 мм.
Процессы:
IBSD (Ion beam sputter deposition)
- резистивное термическое испарение (resistive thermal evaporation)
- магнетронное напыление (magnetron sputtering deposition)
- электронно-лучевое испарение (electron beam evaporation)
- ионное напыление (ion-assisted deposition)