+7 (495) 909-89-53

Установка напыления Box Coaters

вакуумное магнетронное box-coater-dome-fixture

Вакуумные установки Box Coaters для производства производства Angstrom Engineering Inc. (Канада) - самая большая из платформ установкок Angstrom Engineering и имеет наибольшие возможности по конфигурирования системы для задач заказчика. Установки предназначены для груповой обработки пластин в том числе большого диаметра.  

Box Coaters самые большие по размерам установки позволяющая иметь большую гибкость по сравнению с другими. Улучшения в части большей двери и увеличения размера камеры позволяет производить групповую (серийную) обработку пластин и устанавливать большие по размеру источники. Установка для производства требующих установки большего количества различных источников в одной камере.

Возможность установки нескольких разных процессов в одной камере.   

Процессы:
резистивное термическое испарение (resistive thermal evaporation) 
магнетронное напыление (magnetron sputtering deposition)
электронно-лучевое испарение (electron beam evaporation)
ионное напыление (ion-assisted deposition)

Особенности

  • Возможность обрабатывать на пластины диаметром до 300 мм с заданием различной скорости вращения держателя
  • Продвинутая система управления на базе ПК.

  • Камера из алюминия или нержавеющей стали (опция) для группоповой обработки пластин.
  • Длинная дистанция между источниками и подложкой.

  • Наполнение различными источниками PVD процессов согласно требованиям заказчика.
  • Поддержка нескольких разных PVD процессов в одной камере.
  • Автоматическое управление процессами осаждения многослойных пленок на основе рецептов.
  • Процесс последовательного или параллельного (co-deposition) напыления.
  • Диаметр обрабатываемых подложек до 300мм. (пластины большего диаметра по запросу).

  • Оснащение вакуумный загрузочным шлюзом (опция)
  • Контроль вакуума и вакуумная система:

    - Автоматический форвакуумный насос

    - Сухие насосы (опция)

    - Высокий вакуум обеспечивается крио насосом или турбомолекулярным насосом 

    - Пневматически воздушный фильтр

  • Управление процессом осаждения:

    - теневая маска и выравнивание подложки

    - легко и быстро устанавливаемые датчики для поддержки и контроля процесса

    - датчики скорости осаждения для контроля и управления процессом

    - конфигурация для реализации процесса соосаждения- co-deposition (параллельное осаждение нескольких материалов для получения сплава)

    - QCM - изолированный кварцевый датчик обеспечивает отсутствие интерференции при напылении от прилегающих источников или оптический контроль

    - Изолирующие экраны из нержавеющей стали защищающие от загрязнения от перекрестного напыления.

    - Нагрев или охлаждение подложки (по запросу), охлаждение или доп. смещение на подложку

    - Планетарное вращение (опция), напыление под различными углами (GLAD держатель - опция)

Видеопрезентация компании Angstrom Engineering

Видеопрезентация GLAD держатель

Запросить предложение можно по ссылке или направив нам письмо по адресу info@minateh.ru

Запросить предложение товара

Установка напыления Box Coaters

Также Вас может заинтересовать
Кластерные установка напыления NEBULA

Кластерные вакуумные установки NEBULA производства Angstrom Engineering Inc. (Канада) - соединение всех технологий Angstrom Engineering в одном кластере. Имеет наибольшие возможности по конфигурирования системы для задач заказчика. Может оснащаться перчаточным боксом и загрузочным шлюзом, кассетной станцией и камерами для различных процессов в зависимости от задач заказчика.

  • Может оснащаться перчаточным боксом.
  • Кассетаная станция (до 25 пластин в кассете)
  • Вакуумные загрузочный шлюз
  • Пластины до 200х200 мм, круглые подложки и др.
  • Процессы: PVD, LPCVD, ALD, RIE or ICP-RIE, PECVD or ICPECVD

Процессы:
резистивное термическое испарение (resistive thermal evaporation) 
магнетронное напыление (magnetron sputtering deposition)
электронно-лучевое испарение (electron beam evaporation)
ионное напыление (ion-assisted deposition)
Атомно-слоевое осаждение (ALD)
Плазменное травление (RIE, ICP-RIE)
Плазменное осаждение (PECVD, ICPECVD)

Кластерные вакуумные установки NEBULA производства Angstrom Engineering Inc. (Канада) - соединение всех технологий Angstrom Engineering в одном кластере. Имеет наибольшие возможности по конфигурирования системы для задач заказчика. Может оснащаться перчаточным боксом и загрузочным шлюзом, кассетной станцией и камерами для различных процессов в зависимости от задач заказчика.

  • Может оснащаться перчаточным боксом.
  • Кассетаная станция (до 25 пластин в кассете)
  • Вакуумные загрузочный шлюз
  • Пластины до 200х200 мм, круглые подложки и др.
  • Процессы: PVD, LPCVD, ALD, RIE or ICP-RIE, PECVD or ICPECVD

Процессы:
резистивное термическое испарение (resistive thermal evaporation) 
магнетронное напыление (magnetron sputtering deposition)
электронно-лучевое испарение (electron beam evaporation)
ионное напыление (ion-assisted deposition)
Атомно-слоевое осаждение (ALD)
Плазменное травление (RIE, ICP-RIE)
Плазменное осаждение (PECVD, ICPECVD)

Установка ионно-лучевого распыления Reticle (IBSD)

Вакуумная установка ионно-лучевого распыления Reticle (IBSD) производства Angstrom Engineering Inc. (Канада) - идеальное решение для распыления оптических покрытий очень высокого качества.

Пластины диаметром до 200 мм.

Процессы:
IBSD (Ion beam sputter deposition)

Вакуумная установка ионно-лучевого распыления Reticle (IBSD) производства Angstrom Engineering Inc. (Канада) - идеальное решение для распыления оптических покрытий очень высокого качества.

Пластины диаметром до 200 мм.

Процессы:
IBSD (Ion beam sputter deposition)

Уже установлено в России и СНГ: 1 шт
Процессы вакуумного напыления (Application)

- резистивное термическое испарение (resistive thermal evaporation) 
- магнетронное напыление (magnetron sputtering deposition)
- электронно-лучевое испарение (electron beam evaporation)
- ионное напыление (ion-assisted deposition)

- резистивное термическое испарение (resistive thermal evaporation) 
- магнетронное напыление (magnetron sputtering deposition)
- электронно-лучевое испарение (electron beam evaporation)
- ионное напыление (ion-assisted deposition)